Идет загрузка документа (1360 kByte)
Главный правовой
портал Украины
Главный правовой
портал Украины
Остаться Попробовать

О внесении изменений в Порядок осуществления государственного контроля за международными передачами товаров двойного использования

КМ Украины
Постановление КМ от 11.01.2018 № 1
редакция действует с 18.04.2018

КАБІНЕТ МІНІСТРІВ УКРАЇНИ

ПОСТАНОВА

від 11 січня 2018 р. N 1

Київ

Про внесення змін до Порядку здійснення державного контролю за міжнародними передачами товарів подвійного використання

Із змінами і доповненнями, внесеними
 постановою Кабінету Міністрів України
 від 18 квітня 2018 року N 276

Кабінет Міністрів України постановляє:

1. Внести до Порядку здійснення державного контролю за міжнародними передачами товарів подвійного використання, затвердженого постановою Кабінету Міністрів України від 28 січня 2004 р. N 86 (Офіційний вісник України, 2004 р., N 4, ст. 167, N 44, ст. 2881; 2005 р., N 51, ст. 3197; 2006 р., N 22, ст. 1609, N 23, ст. 1727; 2007 р., N 33, ст. 1338; 2008 р., N 36, ст. 1207, N 76, ст. 2566; 2010 р., N 1, ст. 21; 2012 р., N 5, ст. 174, N 40, ст. 1548, N 85, ст. 3463; 2014 р., N 74, ст. 2091; 2017 р., N 28, ст. 814, N 50, ст. 1555, N 94, ст. 2856), зміни, що додаються.

2. Ця постанова набирає чинності через дев'ять місяців з дня її опублікування.

(пункт 2 із змінами, внесеними згідно з постановою
 Кабінету Міністрів України від 18.04.2018 р. N 276)

 

Прем'єр-міністр України

В. ГРОЙСМАН

Інд. 21

 

ЗМІНИ,
що вносяться до Порядку здійснення державного контролю за міжнародними передачами товарів подвійного використання

1. Пункт 4 викласти в такій редакції:

"4. Товари, контроль за міжнародними передачами яких здійснюється відповідно до цього Порядку, зазначені в Єдиному списку товарів подвійного використання, згідно з додатком.".

2. Виключити додатки 1 - 5.

3. Доповнити Порядок додатком такого змісту:

ЄДИНИЙ СПИСОК
товарів подвійного використання

Загальні примітки

1. Термін "товари подвійного використання" у цьому Списку вживається у значенні, наведеному у статті 1 Закону України "Про державний контроль за міжнародними передачами товарів військового призначення та подвійного використання".

Товари, що призначені або модифіковані для військового використання, наведені у Списку товарів військового призначення, міжнародні передачі яких підлягають державному контролю, що є додатком до Порядку здійснення державного контролю за міжнародними передачами товарів військового призначення, затвердженого постановою Кабінету Міністрів України від 20 листопада 2003 р. N 1807 (далі - Список товарів військового призначення).

2. Контроль за товарами, наведеними у цьому Списку, також поширюється на будь-які товари, не внесені до нього (включаючи установки), які містять один контрольований компонент або більше, що є основним елементом таких товарів і може бути вилученим або використаним в інших цілях.

Особлива примітка.

Для прийняття рішення про те, чи є контрольований компонент або компоненти основним елементом товару розглядаються показники кількості, вартості та технологічного ноу-хау, а також інші особливі обставини, які можуть віднести контрольований компонент або компоненти до основного елементу товару.

3. Товари, наведені у цьому Списку, включають як нові, так і ті, що були у використанні.

4. У деяких випадках для зручності ідентифікації хімічних сполук або їх сумішей у цьому Списку зазначаються найменування хімічної сполуки та її реєстраційний номер Хімічної реферативної служби (CAS-номер, Chemical Abstracts Service). Хімічні сполуки, які мають однакову структурну формулу (включаючи гідрати), підлягають контролю незалежно від найменування та CAS-номеру. CAS-номери не можуть бути використані як однозначні ідентифікатори, оскільки деякі форми хімічних сполук, наведених у цьому Списку, мають різні CAS-номери, як і суміші, до складу яких вони входять.

5. Міжнародні передачі "послуг та робіт", пов'язаних з "розробкою", "виробництвом", "використанням", складанням, випробуванням, "модифікацією" та модернізацією виробів, обладнання, матеріалів, "програмного забезпечення" і "технологій", наведених у цьому Списку, підлягають контролю у тому самому обсязі.

Примітка з ядерних технологій (ПЯТ)
(слід читати разом з частиною "E" розділу 0)

"Технологія", безпосередньо пов'язана з будь-якими товарами, які підлягають контролю згідно з розділом 0 цього Списку, контролюється відповідно до положень цього розділу.

"Технологія" для "розроблення", "виробництва" або "використання" товарів, наведених у цьому Списку, залишається під контролем навіть у разі, коли вона застосовується щодо товарів, не внесених до нього.

Дозвільний документ на міжнародну передачу товару, зазначеного у цьому Списку, також надає право на експорт тому самому кінцевому споживачеві мінімуму "технології", необхідної для встановлення, експлуатації, технічного обслуговування та ремонту цього товару. Кількість та обсяги такого мінімуму обмежуються інформацією, наведеною у технічній документації (паспорті, формулярі тощо), яка спеціально розроблена для кінцевого споживача та постачається з виробом.

Контроль не застосовується до "технології", що є "суспільним надбанням" або "фундаментальними науковими дослідженнями".

Загальна примітка з технологій (ЗПТ)
(слід читати разом з частиною "Е" розділів 1 - 9)

"Технологія", "необхідна" для "розроблення", "виробництва" або "використання" товарів, що підлягають контролю згідно з розділами 1 - 9 цього Списку, контролюється відповідно до положень цих розділів. "Технологія" підлягає контролю навіть у разі, коли вона використовується щодо товарів, не внесених до цього Списку. Контроль не застосовується до "технології", яка є мінімально необхідною для встановлення, експлуатації, технічного обслуговування (перевірки) та ремонту товарів, не внесених до цього Списку, або міжнародну передачу яких було дозволено. Кількість та обсяги такого мінімуму обмежуються інформацією, наведеною у технічній документації (паспорті, формулярі тощо), яка спеціально розроблена для кінцевого споживача та постачається з виробом.

Особлива примітка.

Зазначене положення не звільняє від контролю "технології", зазначені у позиціях 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a та 8E002.b.

Контроль не застосовується до "технології", що є "суспільним надбанням", "фундаментальними науковими дослідженнями" або інформацією, мінімально необхідною для подання заявки на патент.

Загальна примітка з програмного забезпечення (ЗППЗ)
(ця примітка має вищу юридичну силу щодо контролю, встановленого у частині "D" розділів 0 - 9)

Згідно з розділами 0 - 9 цього Списку контролю не підлягає "програмне забезпечення", що є:

а) загальнодоступним для громадськості шляхом:

1) продажу без обмежень із складу у пунктах роздрібної торгівлі шляхом здійснення торговельних операцій:

a) напряму;

b) за поштовим замовленням;

c) за електронним замовленням; або

d) за замовленням по телефону; та

2) призначеним для інсталяції користувачем без подальшої істотної допомоги з боку постачальника; або

Особлива примітка.

Пункт "a" загальної примітки з програмного забезпечення не звільняє від контролю "програмне забезпечення", зазначене у частині другій розділу 5 цього Списку ("Захист інформації").

b) "суспільним надбанням".

c) "об'єктним кодом", мінімально необхідним для встановлення, експлуатації, технічного обслуговування (перевірки) або ремонту виробів, міжнародну передачу яких було дозволено.

Особлива примітка.

Пункт "c" загальної примітки з програмного забезпечення не звільняє від контролю "програмне забезпечення", зазначене у частині другій розділу 5 ("Захист інформації") цього Списку.

Загальна примітка із "захисту інформації" (ЗПЗІ)

Вироби або функції, які забезпечують "захист інформації", повинні розглядатися в рамках положень частини другої розділу 5, навіть якщо вони є компонентами, "програмним забезпеченням" або функціями інших виробів.

Визначення термінів, що використовуються у цьому Списку

Терміни, що використовуються у лапках та виділені курсивом, мають значення, наведені у примітках до позицій, в яких вони вживаються.

Терміни, що використовуються у лапках та надруковані прямим шрифтом, мають наведені нижче значення та містять посилання на розділи, в яких вони вживаються.

В інших випадках терміни мають загальноприйняте словникове значення.

"Автоматичне супроводження цілі" [Automatic target tracking] (розділ 6) - метод оброблення, в якому автоматично визначається і формується як вихідний сигнал екстрапольоване значення найімовірнішого положення цілі в реальному масштабі часу.

"Аеродинамічні профілі із змінюваною геометрією" [Variable geometry airfoils] (розділ 7) - застосування закрилків, або тримерів, передкрилків або шарнірного регулювання кута носової частини, положенням яких можна керувати під час польоту.

"Аеростатичні повітряні судна" [Lighter-than-air vehicles] (розділ 9) - повітряні кулі та "дирижаблі", для підйому яких використовуються гаряче повітря або інші легші за повітря гази, такі як гелій або водень.

"Активний піксель" [Active pixel] (розділ 6) - мінімальний (одиничний) елемент твердотілої матриці, який має фотоелектричну передавальну функцію під час дії на нього світлового (електромагнітного) випромінювання.

"Активні системи керування польотом" [Active flight control systems] (розділ 7) - системи, що функціонують для запобігання небажаним рухам або небажаному навантаженню на конструкцію "літального апарата" або ракети шляхом автономного оброблення вихідних сигналів датчиків та подальшого подання необхідних запобіжних команд для здійснення автоматичного керування.

"Аналізатори сигналів" [Signal analysers] (розділ 3) - апаратура, здатна вимірювати і відображати основні властивості одночастотних компонентів багаточастотних сигналів.

"Асиметричний алгоритм" [Asymmetric algorithm] (розділ 5) - криптографічний алгоритм, що використовує різні математично зв'язані ключі для шифрування та розшифрування.

Особлива примітка.

"Асиметричний алгоритм" зазвичай використовується для управління ключами.

"Аутентифікація" [Authentication] (розділ 5) - перевірка автентичності користувача, процесу або пристрою, часто як попередня умова для надання доступу до ресурсів в інформаційній системі. Ця процедура включає в себе перевірку походження або змісту повідомлення або іншої інформації, а також всі аспекти контролю доступу, де немає шифрування файлів або тексту, за винятком шифрування, що безпосередньо пов'язане із захистом паролів, персональних ідентифікаційних номерів (PIN-кодів) або аналогічних даних для запобігання несанкціонованому доступу.

"Багатокристалічна інтегральна схема" [Multichip integrated circuit] (розділ 3) - дві або більше "монолітні інтегральні схеми", приєднані до спільної "підкладки".

"Багатоспектральні датчики формування зображення" [Multispectral imaging sensors] (розділ 6) - датчики, здатні здійснювати одночасний або послідовний збір інформації про зображення від двох або більше дискретних спектральних діапазонів. Датчики, які мають більше двадцяти дискретних спектральних діапазонів, іноді називають гіперспектральними датчиками формування зображення.

"Бандаж лопатки" [Tip shroud] (розділ 9) - компонент стаціонарного кільця (суцільний або сегментований), прикріплений до внутрішньої поверхні корпусу турбіни двигуна, або деталь на зовнішньому кінці лопатки турбіни, яка насамперед забезпечує газонепроникне ущільнення між нерухомими та обертовими компонентами.

"Безперервний лазер" [CW laser] (розділ 6) - "лазер", що генерує номінально постійну вихідну енергію протягом більше ніж 0,25 секунди.

"Безпілотний літальний апарат" ("БПЛА") [Unmanned Aerial Vehicle (UAV)] (розділ 9) - будь-який "літальний апарат", здатний злітати і підтримувати керований політ та навігацію без присутності людини на борту.

"Біологічні агенти" [Biological agents] (розділ 1) - це патогени або токсини, виділені або модифіковані (такі як змінені чистота, строк придатності під час зберігання, вірулентність, характеристики поширення або стійкість до УФ-випромінювання) з метою спричинення жертв серед людей чи тварин, пошкодження обладнання або нанесення шкоди сільськогосподарським культурам або навколишньому природному середовищу.

"Биття шпинделя" (обертання з биттям) [Run-out (out-of-true running)] (розділ 2) - радіальне зміщення за один оберт основного шпинделя, виміряне в площині, перпендикулярній до осі шпинделя в точці вимірювання на зовнішній або внутрішній поверхні обертання (джерело: ISO 230/1-1986, параграф 5.61).

"Бібліотека" [Library] (розділ 1) (параметрична технічна база даних) - зібрання технічної інформації, використання якої може покращити технічні характеристики відповідних систем, обладнання або компонентів.

"Вакуумне розпилення" [Vacuum atomisation] (розділ 1) - процес перетворення струменя розплавленого металу на краплі діаметром 500 мкм або менше шляхом швидкого виділення розчиненого газу під дією вакууму.

"Вакцина" [Vaccine] (розділ 1) - медичний препарат у фармацевтичній формі, який є ліцензованим чи має дозвіл на продаж або використання у клінічних випробуваннях, виданий уповноваженим органом країни-виробника або використання, призначений для стимулювання захисного імунного відгуку організму у людей або тварин з метою запобігання виникненню хвороб серед тих, кому було зроблено щеплення.

"Вибухові речовини" [Explosives] (розділ 1) - тверді, рідкі чи газоподібні речовини або суміші таких речовин, які повинні детонувати під час використання їх як запального заряду, проміжного детонатору або основного заряду в бойових частинах ракет, підривних роботах та інших застосуваннях.

"Виділений Міжнародним союзом електрозв'язку (МСЕ)" [Allocated by the ITU] (розділи 3, 5) - виділення смуг частот відповідно до чинної редакції Регламенту радіозв'язку МСЕ для первинних, дозволених і вторинних служб.

Особлива примітка.

Додаткові та альтернативні виділені смуги частот не включаються.

"Виконавчі механізми" [End-effectors] (розділ 2) - захоплювачі, "активні інструментальні вузли" та будь-які інші інструменти, прикріплені до опорної плити на кінці консолі маніпулятора "робота".

Особлива примітка.

"Активний інструментальний вузол" - це пристрій для прикладення до заготовки рушійної сили, енергії технологічного процесу або здійснення контролю.

"Використання" [Use] (ЗПТ, ПЯТ, усі розділи) - експлуатація, монтажні роботи (у тому числі установлення на місці), технічне обслуговування (перевірка), ремонт, капітальний ремонт та відновлення.

"Випромінювальна чутливість" [Radiant sensitivity] (розділ 6) - випромінювальна чутливість (мА/Вт) = 0,807 х (довжина хвилі у нм) х квантова ефективність (КЕ).

Технічна примітка.

КЕ зазвичай виражається у відсотках, але для цілей цієї формули КЕ записується у вигляді десяткового дробу меншого за одиницю, наприклад, 0,78 відповідає 78 %.

"Виробництво" [Production] (ЗПТ, ПЯТ, усі розділи) - усі стадії виробництва, такі як конструювання, технологічна підготовка виробництва, виготовлення, установка, складання (монтаж), контроль, випробування, забезпечення якості товару.

"Виробниче обладнання" [Production equipment] (розділи 1, 7, 9) - інструменти, шаблони, пристрої, оправки, форми, штампи, кріплення, юстирувальні механізми, випробувальне обладнання, інші механізми та їх компоненти, обмежені тими, що спеціально призначені або модифіковані для "розроблення" або для однієї чи декількох стадій виробництва.

"Виробничі установки" [Production facilities] (розділи 7, 9) - "виробниче обладнання" та спеціально призначене для нього програмне забезпечення, що входять до складу об'єктів для "розроблення" або для однієї чи більше стадій "виробництва".

"Відносна ширина смуги частот" [Fractional bandwidth] (розділи 3, 5) - "миттєва ширина смуги частот", поділена на середню частоту несучої, виражена у відсотках.

"Відхилення кутового положення" [Angular position deviation] (розділ 2) - максимальна різниця між кутовим положенням та фактичним кутовим положенням, виміряним з дуже високою точністю після того, як тримач заготовки на столі було повернуто відносно початкового положення.

"Відцентрове розпилення" [Rotary atomisation] (розділ 1) - процес перетворення струменя розплавленого металу або розплавленого металу, що перебуває у ванні, на краплі діаметром 500 мкм або менше за допомогою відцентрової сили.

"Внутрішнє облицювання" [Interior lining] (розділ 9) призначене для утворення прошарку між твердим ракетним паливом і корпусом двигуна або теплоізоляційною прокладкою. Зазвичай суміш з вогнестійких або теплоізоляційних матеріалів на рідинній полімерній основі (наприклад, наповнений вуглецем полібутадієн з кінцевими гідроксильними групами (НТРВ) або інший полімер з доданими отверджувачами) розпилюється або рівномірно наноситься на внутрішню поверхню корпусу.

"Внутрішній магнітний градієнтомір" [Intrinsic Magnetic Gradiometer] (розділ 6) - окремий чутливий елемент, який вимірює градієнт магнітного поля, і пов'язаний з ним електронний блок, вихідний сигнал якого є мірою градієнта магнітного поля.

Особлива примітка.

Див. також "магнітний градієнтомір".

"Волокнисті або ниткоподібні матеріали" [Fibrous or filamentary materials] (розділи 0, 1, 8, 9) включають:

a) безперервні "мононитки";

b) безперервні "пряжу" та "рівницю";

c) "стрічки", тканини, волоконні мати та об'ємні плетіння;

d) подрібнені волокна, штапельні волокна та зв'язані (когерентні) волоконні шари;

e) моно- або полікристалічні ниткоподібні кристали будь-якої довжини;

f) волоконну масу ароматичного поліаміду.

"Волоконно-оптична система управління польотом" [Fly-by-light system] (розділ 7) - основна цифрова система управління польотом, яка під час польоту для управління "літальним апаратом" застосовує зворотний зв'язок, в якому команди для виконавчого агрегату/механізму є оптичними сигналами.

"Вуглецеві волоконні преформи" [Carbon fibre preforms] (розділ 1) - упорядковано розміщені, непокриті або покриті волокна, призначені для утворення каркасу виробу, який потім заповнюється "матрицею" для формування "композиційного матеріалу".

"Газове розпилення" [Gas Atomisation] (розділ 1) - процес перетворення струменя розплавленого металевого сплаву на краплини діаметром 500 мкм або менше за допомогою газового струменя високого тиску.

"Гаряче ізостатичне ущільнення" [Hot isostatic densification] (розділ 2) - процес пресування відливок за температур понад 375 К (102° C) у замкнутій порожнині за допомогою різноманітних середовищ (газ, рідина, тверді частинки тощо) для створення однакового зусилля в усіх напрямах з метою зменшення або усунення внутрішніх пустот у відливці.

"Географічно рознесені" [Geographically dispersed] (розділ 6) - коли кожний пункт розташований від будь-якого іншого на відстані понад 1500 м у будь-якому напрямку. Мобільні чутливі елементи завжди вважаються "географічно рознесеними".

"Гібридна інтегральна схема" [Hybrid integrated circuit] (розділ 3) - будь-яка комбінація інтегральних схем або інтегральної схеми з "елементами схеми" або "дискретними компонентами", з'єднаними разом для виконання певної функції або функцій, яка має усі наведені нижче характеристики:

a) містить принаймні один безкорпусний пристрій;

b) компоненти з'єднуються один з одним з використанням типових методів виробництва інтегральних схем;

c) може замінюватися як єдине ціле; та

d) у нормальному стані не може бути розібрана.

Особливі примітки.

1. "Елемент схеми" - одиничний активний або пасивний функціональний компонент електронної схеми, такий як діод, транзистор, резистор, конденсатор тощо.

2. "Дискретний компонент" - розміщений в окремому корпусі "елемент схеми" з власними зовнішніми виводами.

"Гідравлічне пресування прямої дії" [Direct-acting hydraulic pressing] (розділ 2) - процес деформації, в якому застосовується наповнена рідиною гнучка камера, що перебуває у безпосередньому контакті із заготовкою.

"Гіроскоп з ротором, що обертається" [Spinning mass gyros] (розділ 7) - гіроскоп, в якому для вимірювання кутового переміщення використовується маса, що постійно обертається.

"Ґратка фокальної площини" [Focal plane array] (розділи 6, 8) - лінійний або двовимірний планарний шар або комбінація планарних шарів окремих чутливих елементів з електронікою зчитування або без неї, що працюють у фокальній площині.

Особлива примітка.

Цей термін не включає сукупність окремих чутливих елементів чи будь-яких дво-, три- або чотириелементних детекторів за умови, що часова затримка та інтегрування не здійснюються всередині елементів.

"Група оптичних датчиків системи керування польотом" [Flight control optical sensor array] (розділ 7) - мережа розподілених оптичних датчиків, що використовує промені "лазера" для забезпечення бортової системи керування польотом даними в реальному масштабі часу.

"Дальність" [Range] (розділ "Категорія I товарів, що можуть бути використані у створенні ракетної зброї") - максимальна відстань, яку конкретна ракетна система чи система атмосферного БПЛА здатні подолати в режимі усталеного польоту, вимірювана як проекція її траєкторії на поверхню землі.

Технічні примітки.

1. Під час визначення "дальності" враховуватиметься максимальна здатність, яка базується на проектних характеристиках системи при повному заправленні пальним чи паливом.

2. "Дальність" для ракетних систем та систем атмосферних БПЛА визначатиметься незалежно від будь-яких зовнішніх обмежувальних факторів, наприклад, пов'язаних з умовами застосування (експлуатації), характеристиками телеметрії та лініями передачі даних чи інших зовнішніх факторів.

3. Для ракетних систем "дальність" визначатиметься з використанням траєкторії польоту, яка дає максимальну "дальність", припускаючи наявність стандартної атмосфери ІКАО з нульовим вітром.

4. Для атмосферних БПЛА "дальність" визначатиметься відстанню в одному напрямку з використанням найефективнішого профілю польоту з точки зору використання палива (наприклад, крейсерська швидкість і висота), припускаючи наявність стандартної атмосфери ІКАО з нульовим вітром.

"Держава-учасниця" [Participating state] (розділи 7, 9) - держава - учасниця міжнародного режиму експортного контролю "Вассенаарська домовленість".

"Держави - учасниці (не учасниці) Конвенції із заборони хімічної зброї" [States (not) Party to the Chemical Weapon Convention] (розділ 1) - це держави, для яких Конвенція про заборону розроблення, виробництва і накопичення хімічної зброї та її знищення набрала (не набрала) чинності.

"Джгут" [Tow] (розділ 1) - зв'язка "монониток", як правило, приблизно паралельних.

"Дзеркала, що деформуються" [Deformable mirrors] (розділ 6) (відомі також як дзеркала адаптивної оптики) - дзеркала, що мають:

a) одну суцільну оптичну поверхню відбиття, яка динамічно деформується шляхом прикладення окремих скручувальних моментів або сил для компенсації викривлень оптичного сигналу, що падає на дзеркало; або

b) множина оптичних відбиваючих елементів, положення яких може бути індивідуально та динамічно змінено шляхом прикладення окремих скручувальних моментів або сил з метою компенсації спотворень оптичного сигналу, що падає на дзеркало.

"Дирижабль" [Airship] (розділ 9) - повітряне судно, яке приводиться до руху силовою установкою, здатне триматися у повітрі завдяки наповненню корпусу газом (зазвичай це гелій, раніше - водень), який легший за повітря.

"Дифузійне зварювання" [Diffusion bonding] (розділи 1, 2, 9) - твердофазне з'єднання принаймні двох окремих металів в одне ціле з міцністю шва, еквівалентною міцності найслабшого матеріалу, головним механізмом якого є взаємна дифузія атомів через місце контакту.

"Доступна користувачу можливість програмування" [User accessible programmability] (розділ 6) - наявність засобів, що дають змогу користувачеві вводити, модифікувати або замінювати "програми" способами, крім наведених нижче:

a) фізична зміна у проводці або з'єднаннях; або

b) установлення функціонального контролю, в тому числі введення параметрів.

"Еквівалентна густина" [Equivalent Density] (розділ 6) - відношення маси оптичного елемента до одиниці оптичної площини, спроектованої на оптичну поверхню.

"Експлуатація, адміністрування або обслуговування" ("EAO") [Operations, Administration or Maintenance (OAM)] (розділ 5) - виконання одного або більше із завдань, наведених нижче:

a) створення будь-чого або керування будь-чим з того, що наведено нижче:

1) облікові записи чи права користувачів або адміністраторів;

2) установки виробу; або

3) дані автентифікації для підтримки виконання завдань, зазначених у підпунктах 1 або 2 пункту "а";

b) моніторинг робочого стану виробу або управління таким станом чи характеристиками виробу; або

c) управління журналами або даними аудиту для підтримки виконання будь-яких завдань, зазначених у пунктах "a" або "b".

Примітка.

"ЕАО" не включає жодного з наведених нижче завдань або пов'язаних з ними ключових функцій керування:

a) підготовку або оновлення будь-якої криптографічної функціональності, яка безпосередньо не пов'язана із створенням даних автентифікації або з управлінням такими даними для підтримки виконання завдань, наведених вище у підпунктах 1 або 2 пункту "а"; або

b) забезпечення будь-якої криптографічної функціональності щодо площини комутації даних або площини даних виробу.

"Екстракція розплаву" [Melt Extraction] (розділ 1) - процес "швидкого твердіння" та екстракції продукту сплаву у вигляді стрічки шляхом введення короткого сегмента обертального охолодженого диска у ванну з розплавленим металевим сплавом.

Особлива примітка.

"Швидке твердіння" - затвердіння розплавленого матеріалу із швидкістю понад 1000 К/с.

"Електродистанційна система управління польотом" [Fly-by-wire system] (розділ 7) - основна цифрова система управління польотом, яка під час польоту для управління "літальним апаратом" використовує зворотний зв'язок, в якому команди для виконавчого агрегату/механізму є електричними сигналами.

"Електронний блок" [Electronic assembly] (розділи 2, 3, 4) - сукупність електронних компонентів (тобто "елементів схеми", "дискретних компонентів", інтегральних схем тощо), з'єднаних разом для виконання конкретної функції або функцій, що може замінюватися як єдине ціле та у нормальному стані демонтуватися.

Особливі примітки.

1. "Елемент схеми" - одиничний активний або пасивний функціональний компонент електронної схеми, такий як діод, транзистор, резистор, конденсатор тощо.

2. "Дискретний компонент" - розміщений в окремому корпусі "елемент схеми" з власними зовнішніми виводами.

"Енергетичні матеріали" [Energetic materials] (розділ 1) - речовини або суміші, що вступають у хімічну реакцію, вивільняючи енергію, необхідну для їх застосування за призначенням. "Вибухові речовини", "піротехніка" та "ракетне паливо" є підкласами енергетичних матеріалів.

"Ефективний грам" [Effective gramme] (розділи 0, 1) "спеціального розщеплюваного матеріалу" означає:

a) вагу ізотопа в грамах для ізотопів плутонію та урану-233;

b) вагу елемента в грамах, помножену на квадрат його збагачення, вираженого як десяткова вагова частка для урану, збагаченого до 1 відсотка або більше ізотопом урану-235;

c) вагу елемента в грамах, помножену на 0,0001 для урану, збагаченого нижче 1 відсотка ізотопом урану-235;

"Загальна швидкість цифрової передачі" [Total digital transfer rate] (розділ 5) - кількість бітів, у тому числі кодування каналу, службові (протокольні) сигнали тощо, за одиницю часу, які проходять між відповідним обладнанням у системі цифрової передачі.

Особлива примітка.

Див. також "швидкість цифрової передачі".

"Загальне керування польотом" [Total control of flight] (розділ 7) - автоматизоване керування змінними параметрами "літального апарата" та траєкторією його польоту з метою виконання встановленого завдання відповідно до зміни даних про задачі, небезпечні ситуації або інші "літальні апарати" у реальному масштабі часу.

"Запуск за частотною маскою" [Frequency mask trigger] (розділ 3) для "аналізаторів сигналів" - механізм, у якому функція запуску дає можливість вибору інтервалу частот спрацьовування як підмножини смуги захвату, ігноруючи при цьому інші сигнали, які також можуть бути присутніми у тій самій смузі захвату. Механізм "запуск за частотною маскою" може включати більше ніж один незалежний набір обмежень.

"Захист інформації" [Information security] (ЗППЗ, ЗПЗІ, розділ 5) - усі засоби і функції, які забезпечують доступність, конфіденційність або цілісність інформації або зв'язку, за винятком засобів і функцій захисту від несправностей. Це включає "криптографію", "криптографічну активацію", "криптоаналіз", захист від демаскуючого випромінювання та захист комп'ютера (від несанкціонованого доступу).

Технічна примітка.

"Криптоаналіз" - аналіз криптографічної системи або її вхідних та вихідних даних для одержання конфіденційних параметрів або чутливої інформації, включаючи відкритий текст (ISO 7498-2-1988 (E), пункт 3.3.18).

"Збіднений уран" [Depleted uranium] (розділ 0) - уран із вмістом ізотопу 235 нижче, ніж це зустрічається в природі.

"Здрібнювання" [Comminution] (розділ 1) - процес перетворення матеріалу на частинки шляхом дроблення або розмелювання.

"Зміщення" (акселерометра) [Bias (accelerometer)] (розділ 7) - середня величина вихідного сигналу акселерометра, виміряна протягом заданого проміжку часу у визначених режимах роботи, не пов'язана з вхідним прискоренням або обертанням. "Зміщення" вимірюється в g або в метрах на секунду в квадраті (g або м/с2). (IEEE Std 528-2001) (Мікро g дорівнює 1 х 10-6 g).

"Зміщення" (гіроскопа) [Bias (gyro)] (розділ 7) - середня величина вихідного сигналу гіроскопа, виміряна протягом заданого проміжку часу у визначених режимах роботи, не пов'язана з вхідним прискоренням або обертанням. "Зміщення", як правило, вимірюється у градусах за годину [град./год] (IEEE Std 528-2001).

"Ізольовані живі культури" [Isolated live cultures] (розділ 1) включають живі культури у неактивній формі та у вигляді сухих препаратів.

"Ізоляція" [Insulation] (розділ 9) наноситься на компоненти ракетного двигуна, наприклад корпус, сопло, вхідні отвори, кришки корпуса, та включає листовий матеріал з вулканізованої або напіввулканізованої гумової суміші, що містить ізоляційний або вогнетривкий матеріал. Ізоляція також може входити до протиударних елементів або щитків.

"Ізостатичні преси" [Isostatic presses] (розділ 2) - обладнання, здатне здійснювати підвищення тиску в замкнутій порожнині через різні середовища (газ, рідину, тверді частинки тощо) для створення всередині замкнутої порожнини однакового в усіх напрямках тиску на заготовку або матеріал.

"Імпульсний лазер" [Pulsed laser] (розділ 6) - "лазер", який має "тривалість імпульсу", що менше або дорівнює 0,25 секунди.

"Імунотоксин" [Immunotoxin] (розділ 1) - це кон'югат одноклітинного моноклонального антитіла та "токсину" або "субтоксину", який вибірково впливає на хворі клітини.

"Інструментальна дальність" [Instrumented range] (розділ 6) - задана дальність дії РЛС, що визначається однозначним розрізненням цілей на дисплеї.

"Квантова криптографія" [Quantum cryptography] (розділ 5) - сукупність методів створення ключа спільного використання для "криптографії" шляхом вимірювання квантомеханічних властивостей фізичної системи (у тому числі фізичних властивостей, які чітко визначаються квантовою оптикою, квантовою теорією поля або квантовою електродинамікою).

"Керування потужністю" [Power management] (розділ 7) - змінювання потужності сигналу, що передається альтиметром, в такий спосіб, що потужність прийнятого сигналу на висоті "літального апарату" завжди підтримується на мінімальному рівні, необхідному для визначення висоти.

"Компенсаційні системи" [Compensation systems] (розділ 6) - системи, що складаються з первинного скалярного датчика, одного або більше базових датчиків (наприклад, векторних магнітометрів) разом з програмним забезпеченням, які дають змогу зменшити шум від обертання твердого тіла платформи.

"Композиційний матеріал" [Composite] (розділи 1, 2, 6, 8, 9) - "матриця" і додаткова фаза або додаткові фази, які складаються з часток, ниткоподібних кристалів, волокон або будь-якої їх комбінації, призначені для конкретної цілі або цілей.

"Комп'ютер із систолічною матрицею" [Systolic array computer] (розділ 4) - комп'ютер, в якому потік та модифікація даних можуть динамічно контролюватися на рівні логічних елементів користувачем.

"Контролер доступу до мережі" [Network access controller] (розділ 4) - фізичний інтерфейс розподіленої комутаційної мережі. Використовує спільне середовище, яке функціонує в усій мережі з однаковою "швидкістю цифрової передачі", з керуванням (наприклад, маркер або контроль носія) передачею. Незалежно від будь-яких інших контролер доступу до мережі відбирає пакети даних або групи даних (наприклад, стандарту IEEE 802), адресовані йому. Цей блок може бути вмонтованим в комп'ютер або телекомунікаційне обладнання для забезпечення доступу до середовища передачі зв'язку.

Особливі примітки.

1. "Швидкість цифрової передачі" - загальна швидкість передачі інформації у бітах за секунду, яка передається безпосередньо на будь-якому типі носія.

2. Див. також термін "загальна швидкість цифрової передачі".

"Контролер каналу зв'язку" [Communications channel controller] (розділ 4) - фізичний інтерфейс, який контролює потік синхронної або асинхронної цифрової інформації. Це блок, який можна вмонтувати в комп'ютер або телекомунікаційне обладнання для забезпечення доступу до системи зв'язку.

"Контурне керування" [Contouring control] (розділ 2) - рух з "числовим керуванням" за двома або більше осями згідно з командами, що визначають наступну необхідну позицію та необхідні швидкості подачі до цієї позиції. Ці швидкості подачі змінюються одна щодо одної так, що створюється бажаний контур (див. ISO 2806 - 1980).

"Корисне навантаження" [Payload] (розділ "Категорія I товарів, що можуть бути використані у створенні ракетної зброї") - повна маса, яка може переноситися чи доставлятися ракетною системою або системою атмосферного БПЛА, що не використовується для підтримання польоту.

Технічні примітки.

1. Віднесення конкретного обладнання, підсистем або компонентів до "корисного навантаження" залежать від типу і конфігурації даного літального апарата.

2. Космічні ракетоносії [Space Launch Vehicles].

"Корисне навантаження" космічних ракетоносіїв включає:

а) космічні апарати (один або кілька), включаючи супутники;

b) платформи для космічних апаратів, якщо в них застосовуються для зміни (збереження) орбіти або орієнтації апогейні або перигейні двигуни чи інші подібні за функціональним призначенням системи.

3. Метеорологічні ракети [Sounding Rocket].

"Корисне навантаження" метеорологічних ракет включає:

а) обладнання, необхідне для виконання задачі, таке як прилади збору даних, запису чи передачі специфічних даних за цією задачею;

b) обладнання для повернення (наприклад, парашути), яке може видалятися без порушення структурної цілісності ракети.

4. Інші атмосферні БПЛА [Other UAVs ].

"Корисне навантаження" інших атмосферних БПЛА включає:

а) спорядження будь-якого типу (наприклад, вибухове чи невибухове);

b) механізми і пристрої для запобігання, взведення, ініціювання підриву або вибуху;

c) обладнання для протидії (наприклад, хибні цілі, постановники активних завад чи пристрої розсіювання дипольних відбивачів), яке може видалятися без порушення структурної цілісності літального апарата;

d) обладнання, призначене для зміни характеристик помітності, яке може бути видалене без порушення структурної цілісності літального апарата;

e) обладнання, необхідне для виконання завдання, таке як прилади збору даних, запису чи передачі специфічних даних за цим завданням, та опорні конструкції, які можуть видалятися без порушення структурної цілісності літального апарата;

f) обладнання для повернення (наприклад, парашути), яке може бути видалено без порушення структурної цілісності літального апарата;

g) опорні конструкції та механізми розвертання бойового спорядження, які можуть видалятися без порушення структурної цілісності літального апарата.

"Корисне навантаження космічного апарата" [Spacecraft payload] (розділ 9) означає обладнання, яке встановлюється на "космічній платформі" для виконання певного завдання у космічному просторі (наприклад, для забезпечення зв'язку, спостережень, наукових досліджень).

"Корозійностійкі до UF6 матеріали" [Materials resistant to corrosion by UF6] (розділ 0) - такі матеріали включають мідь, сплави міді, нержавіючу сталь, алюміній, оксид алюмінію, сплави алюмінію, нікель або сплави, що містять нікелю 60 % або більше за вагою, а також фторовані вуглеводневі полімери.

"Космічна платформа" [Spacecraft bus] (розділ 9) - обладнання, яке виконує роль допоміжної інфраструктури "космічного апарату" і на якому розміщується "корисне навантаження космічного апарату".

"Космічні апарати" [Spacecraft] (розділ 9) - активні та пасивні супутники та космічні зонди.

"Криптографічна активація" [Cryptographic activation] (розділ 5) - будь-який технічний засіб, який активує або уможливлює криптографічну функцію шляхом реалізованого виробником виробу механізму захисту, який є унікально пов'язаним з одним з перелічених нижче випадків:

1) виробом, виготовленим у єдиничному екземплярі; або

2) єдиним користувачем, який використовує декілька екземплярів виробу.

Технічні примітки.

1. Технічні засоби або механізми "криптографічної активації" можуть бути виконані у вигляді апаратних засобів, "програмного забезпечення" або "технології".

2. Механізми для "криптографічної активації" можуть являти собою, наприклад, серійний числовий ліцензійний ключ або інструменти автентифікації, такі як сертифікат з цифровим підписом.

"Криптографія" [Cryptography] (розділ 5) - галузь знань, яка включає принципи, засоби та методи перетворення інформації з метою приховування її змісту, запобігання її невиявленій модифікації або несанкціонованому використанню. "Криптографія" обмежується перетворенням інформації з використанням одного або більше "таємних параметрів" (наприклад криптографічних змінних) або пов'язаного з ними керування ключем.

Примітка.

"Криптографія" не включає методи "фіксованої" компресії даних або кодування.

Технічні примітки.

1. "Таємний параметр" - константа або ключ, що не підлягають розголошенню або повідомляються лише в межах певної групи.

2. "Фіксований" означає, що алгоритм кодування або компресії не може приймати зовнішні параметри (наприклад, криптографічні змінні або ключ) та не може бути модифікований користувачем.

"Критична температура" [Critical temperature] (розділи 1, 3, 5) (відома також як температура переходу) конкретного "надпровідного" матеріалу - температура, за якої цей матеріал повністю втрачає опір проходженню постійного електричного струму.

"Кругове імовірне відхилення" ("КІВ") [Circular Error Probable (CEP)] (розділ 7) - радіус круга в круговому нормальному розподілі, що включає 50 % результатів окремих вимірювань, або радіус круга, в якому розподіляється 50 % імовірності знахождення у ньому.

"Кулачковий ефект" [Camming] (розділ 2) - осьове зміщення за один оберт шпинделя верстата, виміряне в площині, перпендикулярній до валу планшайби, у точці, що межує з окружністю вала планшайби (джерело: ISO 230/1 1986, параграф 5.63).

"Кутовий випадковий дрейф" [Angle random walk] (розділ 7) - кутове відхилення, що накопичується з часом, викликане впливом білого шуму на кутову швидкість (IEEE STD 528-2001).

"Лазер" [Laser] (розділи 0, 1, 2, 3, 5, 6, 7, 8, 9) - пристрій, що генерує когерентне та монохроматичне світло шляхом підсилення за рахунок вимушеного випромінювання.

Особлива примітка.

Див. також "хімічний лазер", "безперервний лазер", "імпульсний лазер", "лазер надвисокої потужності", "перехідний лазер".

"Лазер надвисокої потужності" ("ЛНВП") [Super High Power Laser (SHPL)] (розділ 6) - "лазер", здатний випромінювати енергію на виході (всю або частину) більше 1 кДж протягом 50 мс, або такий, що має середню або безперервну потужність понад 20 кВт.

"Лінійність" [Linearity] (розділ 2) (як правило, вимірюється через параметри нелінійності) - максимальне позитивне або негативне відхилення фактичної характеристики (середнє за показаннями верхньої і нижньої шкали) від прямої лінії, розташованої таким чином, щоб вирівнювати та мінімізувати максимальні відхилення.

"Літальні апарати" [Aircraft] (розділи 1, 6, 7, 9) - літальні апарати з нерухомими крилом, поворотним крилом, обертовим крилом (вертоліт) або крилом змінної стрілоподібності.

Особлива примітка.

Див. також "цивільне повітряне судно".

"Локальна мережа" [Local area network] (розділи 4, 5) - система передачі даних, яка має всі наведені нижче характеристики:

a) дозволяє довільній кількості незалежних "інформаційних пристроїв" підтримувати безпосередній зв'язок один з одним; та

b) обмежена географічною зоною середнього розміру (наприклад, адміністративна будівля, завод, територія університету, склад).

Особлива примітка.

"Інформаційний пристрій" - обладнання, здатне передавати або приймати послідовності цифрових даних.

"Магнітні градієнтоміри" [Magnetic Gradiometers] (розділ 6) - пристрої, призначені для вимірювання просторових коливань магнітних полів джерел, що є зовнішніми у відношенні до цих пристроїв. Вони складаються з сукупності "магнітометрів" і пов'язаного з ними електронного блоку, вихідний сигнал якого є мірою градієнта магнітного поля.

Особлива примітка.

Див. також "внутрішній магнітний градієнтомір".

"Магнітометри" [Magnetometers] (розділ 6) - пристрої, призначені для вимірювання магнітних полів зовнішніх у відношенні до цих пристроїв джерел. Вони складаються з окремого датчика магнітного поля та зв'язаного з ним електронного блоку, вихідний сигнал якого є мірою магнітного поля.

"Масштабний коефіцієнт" (гіроскопа або акселерометра) [Scale factor (gyro or accelerometer)] (розділ 7) - відношення зміни вихідного сигналу до зміни вхідного вимірюваного сигналу. Масштабний коефіцієнт, як правило, оцінюється як нахил прямої лінії, яку можна побудувати методом найменших квадратів відповідно до вхідних-вихідних даних, одержаних шляхом циклічної зміни вхідного сигналу в межах заданого діапазону.

"Матриця" [Matrix] (розділи 1, 2, 8, 9) - в основному суцільна фаза, яка заповнює простір між частками, ниткоподібними монокристалами або волокнами.

"Механічне легування" [Mechanical Alloying] (розділ 1) - процес легування, який виникає внаслідок з'єднання, подрібнення і нового з'єднання порошків чистих металів і лігатури в результаті механічних зіткнень. У сплав можна вводити неметалеві частинки шляхом додавання відповідних порошків.

"Миттєва ширина смуги частот" [Instantaneous bandwidth] (розділи 3, 5) - смуга частот, у якій рівень потужності вихідного сигналу залишається постійним у межах 3 дБ без налаштування інших робочих параметрів.

"Мікроорганізми" [Microorganisms] (розділи 1, 2) - бактерії, віруси, мікоплазма, ріккетсії, хламідії або грибки, природні, вдосконалені чи модифіковані, у формі "ізольованих живих культур" або як матеріал, який містить живий матеріал, навмисно інокульований або забруднений такими культурами.

"Мікросхема мікрокомп'ютера" [Microcomputer microcircuit] (розділ 3) - "монолітна інтегральна схема" або "багатокристалічна інтегральна схема", яка містить арифметично-логічний пристрій (АЛП), здатний обробляти дані, що містяться у внутрішній пам'яті, виконуючи команди загального призначення, що надходять із внутрішньої пам'яті.

Особлива примітка.

Внутрішня пам'ять може бути розширена за рахунок зовнішньої пам'яті.

"Мікросхема мікропроцесора" [Microprocessor microcircuit] (розділ 3) - "монолітна інтегральна схема" або "багатокристалічна інтегральна схема", яка містить арифметично-логічний пристрій (АЛП), здатний виконувати команди загального призначення, що надходять із зовнішньої пам'яті.

Особливі примітки.

1. "Мікросхема мікропроцесора", як правило, не містить оперативної пам'яті, доступної користувачеві, хоча пам'ять інтегральної схеми може бути використана для виконання її логічної функції.

2. Це включає комплекти інтегральних мікросхем, призначених для спільного виконання функції "мікросхеми мікропроцесора".

"Мікрохвильові монолітні інтегральні схеми" ("НВЧ МІС") [Monolithic Microwave Integrated Circuit (MMIC)] (розділи 3, 5) - "монолітна інтегральна схема", що працює у мікрохвильовому або міліметровому діапазоні хвиль.

"Монолітна інтегральна схема" [Monolithic integrated circuit] (розділ 3) - комбінація пасивних або активних "елементів схеми", що:

a) створена шляхом здійснення процесів дифузії, імплантації або осадження всередині або на поверхні окремого шматка напівпровідникового матеріалу, так званого "чіпа";

b) може вважатися нерозривно сполученою; та

c) виконує функцію (функції) схеми.

Особлива примітка.

"Елемент схеми" - одиничний активний або пасивний функціональний компонент електронної схеми, такий як діод, транзистор, резистор, конденсатор тощо.

"Мононитка" [Monofilament] (розділ 1) або нитка - найменша складова волокна, як правило, діаметром кілька мікрометрів.

"Моноспектральні датчики формування зображення" [Monospectral imaging sensors] (розділ 6) - датчики, здатні одержувати інформацію щодо зображення з одного дискретного спектрального діапазону.

"Навігаційні системи на основі еталонних баз даних" [Data-Based Referenced Navigation (DBRN)] (розділ 7) - системи, у яких використовуються різні джерела апріорних картографічних даних, що комплексно забезпечують точну навігаційну інформацію за динамічних умов. Зазначені джерела включають батиметричні карти, карти зоряного неба, гравітаційні карти, магнітні карти або тривимірні цифрові карти місцевості.

"Надпластичне формування" [Superplastic forming] (розділи 1, 2) - процес високотемпературної деформації металів, які як правило характеризуються низькими значеннями межі видовження при розтягуванні (менше ніж 20 %), визначеної за кімнатної температури стандартними методами випробувань на міцність при розтягуванні, з метою досягнення в процесі оброблення видовжень, що принаймні вдвічі перевищують вказані значення.

"Надпровідні" [Superconductive] (розділи 1, 3, 5, 6, 8) - матеріали, тобто метали, сплави або сполуки, які можуть повністю втрачати електричний опір, тобто можуть досягати нескінченно високої електропровідності та пропускати дуже великі електричні струми без джоулевого нагрівання.

Особлива примітка.

"Надпровідний" стан кожного матеріалу характеризується "критичною температурою" та критичним магнітним полем, що є функцією температури, а також критичною густиною струму, яка є функцією як магнітного поля, так і температури.

"Нейронний комп'ютер" [Neural computer] (розділ 4) - обчислювальний пристрій, призначений або модифікований для імітації поведінки нейрона або сукупності нейронів, тобто обчислювальний пристрій, який відрізняється за здатністю його апаратних засобів модулювати вагу і кількість міжкомпонентних з'єднань множини обчислювальних компонентів на основі попередньої інформації.

"Необроблені підкладки" [Substrate blanks] (розділи 3, 6) - монолітні маси, що мають розміри, придатні для виробництва оптичних елементів, таких як дзеркала або оптичні вікна прозорості.

"Необхідна" [Required] (ЗПТ, розділи 5, 6, 7, 9) - у відношенні "технології" означає тільки ту частини "технології", яка безпосередньо відповідає за досягнення чи перевищення контрольованих рівнів продуктивності, характеристик або функцій. Така "необхідна" "технологія" може використовуватися у різних виробах.

"Оброблення в реальному масштабі часу" [Real-time processing] (розділ 6) - оброблення даних комп'ютерною системою при забезпеченні необхідного рівня обслуговування як функція наявних ресурсів у межах гарантованого часу відгуку системи, незалежно від завантаження системи, коли вона отримує сигнал ззовні.

"Оброблення сигналів" [Signal processing] (розділи 3, 4, 5, 6) - оброблення одержаних ззовні інформаційних сигналів за допомогою таких алгоритмів, як часове стиснення, фільтрація, виділення, селекція, кореляція, згортання або перетворення з одної області представлення в іншу (наприклад, швидке перетворення Фур'є або перетворення Уолша).

"Об'єктний код" [Object code] (ЗППЗ) - прийнятна для виконання обладнанням форма зручного виразу одного або більше процесів (початкового коду (вхідної мови), зкомпільована програмуючою системою.

"Оперативна пам'ять" [Main storage] (розділ 4) - первинний запам'ятовувальний пристрій для даних або команд для швидкого доступу із центрального процесора. Складається з внутрішнього запам'ятовувального пристрою "цифрового комп'ютера" та будь-якого ієрархічного розширення до нього, такого як кеш-пам'ять або розширена пам'ять без послідовного доступу.

"Оптимізація траєкторії польоту" [Flight path optimisation] (розділ 7) - процедура, яка мінімізує відхилення від чотиривимірної (у просторі та часі) бажаної траєкторії на основі максимізації характеристик або ефективності виконання завдань.

"Оптична інтегральна схема" [Optical integrated circuit] (розділ 3) - "монолітна інтегральна схема" або "гібридна інтегральна схема", що містить один або більше елементів, призначених для функціонування як фотоприймач або фотокатод або для виконання оптичної чи електрооптичної функції (функцій).

"Оптичний комп'ютер" [Optical computer] (розділ 4) - комп'ютер, призначений або модифікований для використання світла з метою представлення даних і обчислювальні логічні елементи якого ґрунтуються на безпосередньо сполучених оптичних пристроях.

"Оптична комутація" [Optical switching] (розділ 5) - маршрутизація або комутація сигналів в оптичній формі без перетворення на електричні сигнали.

"Основне керування польотом" [Primary flight control] (розділ 7) - керування прямолінійним польотом або маневруванням "літального апарата" з використанням генераторів сили/моменту, тобто аеродинамічних поверхонь керування, або зміни вектору тяги двигуна.

"Основний елемент" [Principal element] (розділ 4) - елемент, вартість заміни якого становить більш як 35 % загальної вартості системи, елементом якої він є. Вартістю елемента вважається ціна, сплачена за нього виробником або складальником цієї системи. Загальна вартість є нормальною міжнародною продажною ціною для незв'язаних сторін в місці виготовлення або комплектації поставки.

"Паливний елемент" [Fuel cell] (розділ 8) - електрохімічний пристрій, який перетворює хімічну енергію безпосередньо у постійний електричний струм шляхом споживання палива із зовнішнього джерела.

"Перестроюваний" [Tunable] (розділ 6) - здатність "лазера" генерувати безперервне випромінювання на всіх довжинах хвиль у діапазоні кількох "лазерних" переходів. "Лазер" з можливістю селекції лінії генерує випромінювання дискретних довжин хвиль у межах одного "лазерного" переходу і не вважається "перестроюваним".

"Перехідний лазер" [Transfer laser] (розділ 6) - "лазер", в якому середовище генерації збуджується шляхом переходу енергії під час зіткнення незбудженого атому або молекули із збудженими атомами або молекулами.

"Персональна мережа" [Personal area network] (розділ 5) - система передачі даних, що має усі наведені нижче характеристики:

a) дозволяє довільній кількості незалежних або взаємозв'язаних "інформаційних пристроїв" здійснювати зв'язок безпосередньо один з одним; та

b) обмежена зв'язком між пристроями, що розміщені у безпосередній близькості до окремої особи або контролера пристрою (наприклад, в одній кімнаті, офісі або автомобілі та у прилеглому до них просторі).

Технічна примітка.

"Інформаційний пристрій" - обладнання, здатне передавати або приймати послідовності цифрових даних.

"Питома міцність при розтягуванні" [Specific tensile strength] (розділи 0, 1, 9) - це межа міцності при розтягуванні у паскалях (Н/м2), поділена на питому вагу у Н/м3, виміряні за температури (296 ± 2) K ((23 ± 2)° C) та відносної вологості (50 ± 5) %.

"Питомий модуль пружності" [Specific modulus] (розділи 0, 1, 9) - модуль Юнга у паскалях (Н/м2), поділений на питому вагу у Н/м3, виміряний за температури (296 ± 2)K ((23 ± 2)° C) та відносної вологості (50 ± 5) %.

"Підкладка" [Substrate] (розділ 3) - пластина основного матеріалу з малюнком розводки або без нього і на якій або всередині якої можуть розміщуватися "дискретні компоненти" або інтегральні схеми, або ті та інші разом.

Особливі примітки.

1. "Дискретний компонент" - розміщений в окремому корпусі "елемент схеми" з власними зовнішніми виводами.

2. "Елемент схеми" - одиничний активний або пасивний функціональний компонент електронної схеми, такий як діод, транзистор, резистор, конденсатор тощо.

"Пікова потужність" [Peak power] (розділ 6) - максимальний рівень потужності, який досягається під час "тривалості імпульсу".

"Плавкий" [Fusible] (розділ 1) - здатний створювати поперечні зв'язки або надалі полімеризуватись (твердіти) під впливом теплоти, випромінювання, каталізаторів тощо, або такий, що може плавитися без піролізу (карбонізації).

"Плазмене розпилення" [Plasma atomisation] (розділ 1) - процес перетворення розплавленого потоку або твердого металу в краплини діаметром у 500 мкм або менше за допомогою плазмених пальників у атмосфері інертного газу.

"Плівкова інтегральна схема" [Film type integrated circuit] (розділ 3) - сукупність "елементів схеми" і металевих з'єднань, сформованих шляхом нанесення товстої або тонкої плівки на ізолюючу "підкладку".

Особлива примітка.

"Елемент схеми" - одиничний активний або пасивний функціональний компонент електронної схеми, такий як діод, транзистор, резистор, конденсатор тощо.

"Повторюваність" [Repeatability] (розділ 7) - близький збіг між повторюваними вимірюваннями однієї і тієї ж змінної за однакових робочих умов, коли зміна умов або неробочі періоди мають місце між вимірюваннями (джерело: IEEE STD 528-2001 (стандартне відхилення 1 сигма).

"Повторюваність однонаправленого позиціонування" [Unidirectional positioning repeatability] (розділ 2) означає меншу з величин R­ та RЇ (у прямому і зворотному напрямках), як вони визначені пунктом 3.21 стандарту ISO 230-2:2014 або його національними еквівалентами для окремої координатної осі верстату.

"Поліпшення якості зображення" [Image enhancement] (розділ 4) - оброблення отриманих ззовні інформаційних зображень шляхом застосування алгоритмів, таких як часове ущільнення, фільтрація, виділення, селекція, кореляція, згортання або перетворення між доменами (наприклад, швидке перетворення Фур'є або перетворення Уолша). Це не включає алгоритми, які використовують лише лінійне або обертове перетворення окремого зображення, такі як зсув, виділення ознак, реєстрація або некоректне забарвлення.

"Попередньо виділений" [Previously separated] (розділ 1) означає застосування будь-якого процесу, призначеного для збільшення концентрації ізотопу, що підлягає контролю.

"Послуги та роботи" [Services and works] (розділи 1 - 9) - надання послуг у сфері розроблення, виробництва, використання, складання, випробування, модифікації, модернізації, підтримки у робочому стані (у тому числі "авторському" та "гарантійному нагляді") систем, обладнання та їх компонентів, матеріалів, програмного забезпечення та технологій, які визначені у цьому Списку.

"Похибка вимірювання" [Measurement uncertainty] (розділ 2) - характерний параметр, що визначає, в якому діапазоні біля вихідного значення перебуває коректне значення вимірюваної змінної з рівнем достовірності 95 %. Вона включає нескомпенсоване систематичне відхилення, нескомпенсований люфт та випадкове відхилення (джерело: ISO 10360-2).

"Початковий код" (або вхідна мова) [Source code (or source language)] (розділи 6, 7, 9) - відповідне представлення одного або більше процесів, яке може бути перетворене програмуючою системою у форму, виконувану обладнанням ("об'єктний код" (або об'єктну мову).

"Придатні для використання в космосі" [Space qualified] (розділи 3, 6, 7) - все, що розроблене, виготовлене або шляхом проведення успішних випробувань допущене до використання на висотах вищих за 100 км від поверхні Землі.

Особлива примітка.

Визначення шляхом проведення випробувань факту "придатності для використання в космосі" певного товару не означає, що інші товари у тій самій партії або того самого модельного ряду належать до категорії "придатних для використання в космосі", якщо вони не пройшли індивідуального випробування.

"Природний уран" [Natural uranium] (розділ 0) - уран, що містить суміші ізотопів, які зустрічаються у природі.

"Програма" [Programme] (розділи 2, 6) - послідовність команд для виконання процесу у формі або перетворювання у форму, виконувану електронним комп'ютером.

"Програмне забезпечення" [Software] (ЗППЗ, усі розділи) - набір з однієї або більше "програм" або "мікропрограм", записаних на будь-якому матеріальному носії.

Особлива примітка.

"Мікропрограма" - послідовність елементарних команд, що зберігаються в спеціальній пам'яті, виконання яких ініціюється введенням команди звернення до реєстру команд.

"Програмне забезпечення несанкціонованого доступу у комп'ютерні мережі" [Intrusion software] (розділ 4) - "програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для запобігання виявлення "засобами контролю" або для обходу "захисних контрзаходів" комп'ютера або інших мережевих пристроїв, що здійснює будь-які з таких функцій:

a) зняття даних або інформації з комп'ютера або мережевих пристроїв, або внесення змін до системи або даних користувача; або

b) зміна стандартного режиму роботи програми або процесу обробки даних, що дозволяє виконувати інструкції, надіслані ззовні.

Примітки.

1. "Програмне забезпечення несанкціонованого доступу у комп'ютерні мережі" не включає будь-яке програмне забезпечення з наведеного нижче:

a) гіпервізори (програми керування операційними системами), програми налагоджування або програмні засоби зворотного інжинірингу;

b) "програмне забезпечення" технічних засобів захисту авторських прав; або

c) "програмне забезпечення", призначене для установлення виробниками, мережевими адміністраторами або користувачами з метою відстежування ресурсів або відновлення системи.

2. Мережеві пристрої включають мобільні пристрої та чутливі вимірювальні прилади.

Технічні примітки.

1. "Засоби контролю": "програмне забезпечення" або апаратні засоби, що контролюють поведінку системи або процеси, що відбуваються у приладі. Вони включають антивірусні продукти, кінцеві продукти забезпечення безпеки, продукти забезпечення персональної безпеки, системи виявлення втручання, системи запобігання втручанню або апаратні чи програмні засоби міжмережевого захисту.

2. "Захисні контрзаходи": методи, призначені для забезпечення безпечного використання коду, такі як запобігання використанню даних (DEP), довільна зміна схеми адресного простору (технологія ASLR) або запуск програм у "пісочниці" (механізм забезпечення безпеки завантажених з мережі або одержаних електронною поштою програм, що передбачає ізоляцію на час виконання завантажуваного коду в обмежене середовище - "пісочницю").

"Пряжа" [Yarn] (розділ 1) - зв'язка скручених "пасм".

Особлива примітка.

"Пасмо" - це пучок "монониток" (як правило, більше 200), розміщених приблизно паралельно.

"Ракети" [Missiles] (розділи 1, 3, 6, 7, 9) - закінчені ракетні системи та безпілотні літальні апарати, здатні доставляти не менше ніж 500 кг корисного навантаження на дальність 300 км або більше.

"Рівниця" [Roving] (розділ 1) - це пучок (як правило, 12 - 120) "пасм", розміщених приблизно паралельно.

Особлива примітка.

"Пасмо" - це пучок "монониток" (як правило, більше 200), розміщених приблизно паралельно.

"Робот" [Robot] (розділи 2, 8) - маніпуляційний механізм, який може мати контурний або позиційний тип системи керування, може використовувати "чутливі елементи" та має всі такі характеристики:

a) є багатофункціональним;

b) здатний установлювати або орієнтувати матеріал, деталі, інструменти або спеціальні пристрої за допомогою змінних рухів у тривимірному просторі;

c) оснащений трьома або більшою кількістю сервоприводів із замкненим або розімкненим контуром, які можуть включати крокові електродвигуни; та

d) має "можливість програмування користувачем" за допомогою методу навчання із запам'ятовуванням або за допомогою електронного комп'ютера, що може бути програмованим логічним контролером, тобто без механічного втручання.

Особливі примітки.

1. "Чутливі елементи" - це детектори фізичних явищ, вихідний сигнал яких (після перетворення у сигнал, який може бути інтерпретований блоком керування) може генерувати "програми" або змінювати запрограмовані інструкції, або числові "програмні" дані. Вони включають "чутливі елементи" з можливостями машинного зору, інфрачервоного бачення, акустичного бачення, тактильного відчуття, інерційного вимірювання положення, оптичного або акустичного вимірювання відстані, або вимірювання сили чи обертального моменту.

2. Термін "робот" не включає такі пристрої:

1) маніпуляційні механізми, що передбачають лише ручне керування або керування телеоператором;

2) маніпуляційні механізми з фіксованою послідовністю операцій, які є автоматизованими рухомими пристроями, що діють відповідно до механічно зафіксованих запрограмованих рухів. Програма механічно обмежена упорами, такими як штифти або кулачки. Послідовність рухів і вибір траєкторій або кутів не можуть варіюватися чи змінюватися за допомогою механічних, електронних чи електричних засобів;

3) механічно керовані маніпуляційні механізми із змінною послідовністю операцій, які є автоматизованими рухомими пристроями, що діють відповідно до механічно зафіксованих запрограмованих рухів. Програма механічно обмежена зафіксованими, але регульованими упорами, такими як штифти або кулачки. Послідовність рухів та вибір траєкторій або кутів змінюються в межах зафіксованого програмного шаблону. Зміна або модифікація структури програми (наприклад, зміна штифтів або заміна кулачків) за однією або більше координатами здійснюється лише шляхом механічних операцій;

4) маніпуляційні механізми без сервокерування із змінною послідовністю операцій, які є автоматизованими рухомими пристроями, що діють відповідно до механічно зафіксованих запрограмованих рухів. Програма може змінюватись, але послідовність операцій може змінюватися лише за двійковим сигналом від механічно зафіксованих електричних бінарних пристроїв або регульованих упорів;

5) крани-штабелери, визначені як системи маніпуляторів із застосуванням декартової системи координат, виготовлені як невід'ємна частина вертикально розташованої групи накопичувальних бункерів і призначені для забезпечення доступу до вмісту цих бункерів для завантаження або розвантаження.

"Роздільна здатність" [Resolution] (розділ 2) - найменший приріст показників вимірювального приладу; у цифрових приладах - найменший значущий біт (джерело: ANSI B-89.1.12).

"Розроблення" [Development] (ЗПТ, ПЯТ, усі розділи) - усі стадії робіт, що проводяться до серійного виробництва, такі як: проектування, проектні дослідження, аналіз проектних варіантів, ескізне проектування, складання та випробування дослідних зразків, створення схеми дослідного виробництва, технічної документації, процес перетворення технічної документації у виріб, проектування конфігурації, проектування компонувальної схеми, макетування.

"Розширення спектра" [Spread spectrum] (розділ 5) - метод, за допомогою якого енергія у відносно вузькосмуговому каналі зв'язку розподіляється за значно ширшим енергетичним спектром.

РЛС з "розширенням спектра" [Spread spectrum radar] (розділ 6) - див. "розширення спектра РЛС".

"Розширення спектра РЛС" [Radar spread spectrum] (розділ 6) - будь-який метод модуляції для розподілення енергії сигналу з відносно вузькою смугою частот, на набагато ширшій смузі частот за допомогою застосування методів випадкового або псевдовипадкового кодування.

"Середня вихідна потужність" [Average output power] (розділ 6) - повна вихідна енергія "лазера" в джоулях, поділена на тривалість періоду часу, протягом якого випромінюється серія послідовних імпульсів, у секундах. Для серії імпульсів з постійним періодом повторення вона дорівнює повній енергії, що випромінюється в одному імпульсі, у джоулях, помножену на частоту імпульсів "лазера", у герцах (Гц).

"Симетричний алгоритм" [Symmetric algorithm] (розділ 5) - криптографічний алгоритм, що використовує однаковий ключ як для шифрування, так і для розшифрування.

Особлива примітка.

"Симетричний алгоритм", як правило, використовується для забезпечення конфіденційності інформації.

"Синтезатор частот" [Frequency synthesiser] (розділ 3) - будь-який тип джерела частот, що забезпечує незалежно від методу генерації множину одночасних або резервних вихідних частот з одного або більше виходів, які контролюються меншою кількістю стандартних (або задавальних) частот, є похідними від них або організовуються ними.

"Системи FADEC" [FADEC Systems] (розділ 9) - електронно-цифрові системи керування газотурбінними двигунами, здатні здійснювати автономне керування двигуном у повному діапазоні робочих режимів двигуна, починаючи із запуску двигуна та закінчуючи його зупинкою, як у режимі нормальної експлуатації, так і в аварійних умовах.

"Системи контролю напрямку або протиобертання з контрольованою циркуляцією" [Circulation-controlled anti-torque or circulation controlled direction control systems] (розділ 7) - системи контролю, що використовують повітряні потоки вздовж аеродинамічних поверхонь для збільшення або контролю сил, що створюються цими поверхнями.

"Системи наведення" [Guidance set] (розділ 7) - системи, в яких об'єднано процес вимірювання та розрахунку положення і швидкості літального апарату (тобто навігацію) з обчисленням і надсиланням команд системам керування польотом літальних апаратів для коригування траєкторії.

"Складений обертовий стіл" [Compound rotary table] (розділ 2) - стіл, який забезпечує можливість обертання і нахилу заготовок навколо двох непаралельних осей, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування".

"Смуга пропускання у реальному масштабі часу" [Real-time bandwidth] (розділ 3) для "аналізаторів сигналів" - це найширший діапазон частот сигналу, для якого аналізатор може безперервно перетворювати часові дані у частотні результати, використовуючи метод Фур'є або інші дискретні часові перетворення, які обробляють усі вхідні часові сигнали без прогалин або без ефектів кадрування, що призводять до зниження вимірюваної амплітуди більше ніж на 3 дБ порівняно з реальною амплітудою сигналу, і подавати перетворені дані на вихід або відображати на дисплеї.

"Спеціальний матеріал, що розщеплюється" [Special fissile material] (розділ 0) - плутоній-239, уран-233, "уран, збагачений ізотопами 235 або 233", або будь-який інший матеріал, що містить зазначене вище.

"Спінінгування розплаву" [Melt Spinning] (розділ 1) - процес "швидкого твердіння" потоку розплавленого металу, який падає на охолоджуваний диск, що обертається, внаслідок чого формується виріб у вигляді лусок, стрічки або дроту.

Особлива примітка.

"Швидке твердіння" - затвердіння розплавленого матеріалу із швидкістю охолодження понад 1000 К/с.

"Сплутані" [Commingled] (розділ 1) - сплутання волокон термопластичних матеріалів з волокнами із зміцнювальних матеріалів з метою створення суміші зміцнювальних волокон з "матрицею", яка у цілому має волоконну форму.

"Сполуки III/V" [III/V compounds] (розділи 3, 6) - полікристалічні, бінарні або комплексні монокристалічні продукти, що складаються з елементів груп IIIA та VA періодичної системи хімічних елементів Менделєєва (наприклад, арсенід галію, галій-алюмінієвий арсенід, фосфід індію).

"Стабільність" [Stability] (розділ 7) - стандартне відхилення (одна сигма) коливань певного параметра від його каліброваного значення, виміряного за стабільних температурних умов. Може виражатися як функція часу.

"Стала часу" [Time constant] (розділ 6) - час, необхідний для того, щоб від моменту прикладення світлового стимулу струм досяг значення (1-1/е) від кінцевої величини (тобто 63 % кінцевої величини).

"Стискання імпульсу" [Pulse compression] (розділ 6) - кодування та оброблення імпульсу сигналу РЛС довгої тривалості шляхом перетворення його на сигнал короткої тривалості із збереженням переваг високої енергії імпульсу.

"Стрибкоподібне переналагодження частоти" [Frequency hopping] (розділи 5, 6) - форма "розширення спектра", у якій частота передачі окремого каналу зв'язку змінюється випадковою або псевдовипадковою послідовністю дискретних кроків.

"Стрічка" [Tape] (розділ 1) - матеріал із переплетених або зорієнтованих в одному напрямку "ниток", "пасм", "рівниці", "джгута" або "пряжі" тощо, як правило, попередньо просочених смолою.

Особлива примітка.

"Пасмо" - пучок "монониток" (типово більше ніж 200), розташованих приблизно паралельно.

"Субодиниця токсину" [Sub-unit of toxin] (розділ 1) - структурно та функціонально дискретний компонент цілого "токсину".

"Сумарна густина струму" [Overall current density] (розділ 3) - загальна кількість ампер-витків у котушці (тобто сума кількості витків, помножена на максимальний струм, що проходить у кожному витку), поділена на загальну площу поперечного перерізу котушки (включаючи надпровідні витки, металеву матрицю, у яку вмонтовані надпровідні витки, матеріал оболонки, канали охолодження тощо).

"Суперсплави" [Superalloys] (розділи 2, 9) - сплави на основі нікелю, кобальту або заліза, міцність яких перевищує міцність будь-яких сплавів у серії AISI 300 за температури понад 922 К (649° C) у складних умовах навколишнього середовища та експлуатації.

"Суспільне надбання" [In the public domain] (ЗПТ, ПЯТ, ЗПП) - "технологія" або "програмне забезпечення", доступ до яких надано без обмежень на їх подальше розповсюдження.

Примітка.

Обмеження, які випливають з авторського права не виключають "технологію" або "програмне забезпечення" із "суспільного надбання".

"Технологія" [Technology] (ЗПТ, ПЯТ, усі розділи) - спеціальна інформація, необхідна для "розроблення", "виробництва" або "використання" виробів. Ця інформація може набувати форми "технічних даних" або "технічної допомоги".

Особливі примітки.

1. "Технічна допомога" може набувати таких форм, як інструктаж, підвищення кваліфікації, навчання, практичне освоєння методів роботи, консультаційні послуги. Технічна допомога може включати передачу "технічних даних".

2. "Технічні дані" можуть набувати таких форм, як світлокопії, плани, діаграми, моделі, формули, таблиці, креслення, технічні проекти та специфікації, керівні документи для користувача та інструкції, викладені на папері або записані на інших носіях або пристроях, таких як диск, стрічка, постійний запам'ятовувальний пристрій.

"Токсини" [Toxins] (розділи 1, 2) - токсини у формі навмисно ізольованих препаратів або сумішей, незалежно від того, як вони були вироблені, що відрізняються від токсинів, присутніх як контамінанти інших матеріалів, таких як патологічні зразки, зернові культури, харчові продукти або насінний фонд "мікроорганізмів".

"Точність" [Accuracy] (розділи 2, 3, 6, 7, 8) - максимальне додатне або від'ємне відхилення показання від встановленої норми або істинного значення, яке зазвичай вимірюється на основі похибки.

"Тривалість імпульсу" [Pulse duration] (розділ 6) - тривалість імпульсу випромінювання "лазера", що визначається як інтервал часу між точками половинної потужності на передньому та задньому фронтах окремого імпульсу.

"Тривимірна інтегральна схема" [Three dimensional integrated circuit] (розділ 3) - конструкція із інтегрованих напівпровідникових кристалів, яка має наскрізні отвори, які проходять щонайменше через один кристал, для забезпечення з'єднання між кристалами.

"Уран, збагачений ізотопами 235 або 233" [Uranium enriched in the isotopes 235 or 233] (розділ 0) - уран, що містить ізотопи 235 або 233, або обидва у такій кількості, щоб відношення суми цих ізотопів до ізотопу 238 було більшим, ніж відношення ізотопу 235 до ізотопу 238 у природному урані (ізотопне відношення 0,71 %).

"Усі доступні компенсації" [All compensations available] (розділ 2) - здійснення усіх доступних для виробника заходів з метою мінімізації усіх систематичних похибок позиціонування для конкретної моделі верстата або похибок вимірювання для конкретної координатно-вимірювальної машини.

"Фазована антенна ґратка з електронним керуванням діаграми направленості" [Electronically steerable phased array antenna] (розділи 5, 6) - антена, яка формує промінь за рахунок зв'язку фаз, тобто напрямок променю керується комплексними коефіцієнтами збудження випромінювальних елементів, і цей напрямок може шляхом прикладання електричного сигналу змінюватися (як під час передачі, так і під час приймання) за азимутом або кутом нахилу чи за обома координатами одночасно.

"Фундаментальні наукові дослідження" [Basic scientific research] (ЗПТ, ПЯТ) - експериментальні або теоретичні роботи, що проводяться головним чином з метою набуття нових знань про фундаментальні закони явищ або фактів, що спостерігаються, не спрямовані на досягнення конкретної практичної мети чи розв'язання конкретної задачі.

"Хімічна суміш" [Chemical mixture] (розділ 1) - це твердий, рідкий або газоподібний продукт, що складається з двох або більше компонентів, які не вступають в реакцію між собою за умов, при яких зберігається суміш.

"Хімічний лазер" [Chemical laser] (розділ 6) - "лазер", в якому збуджене середовище формується за рахунок вихідної енергії хімічної реакції.

"Хімічні засоби припинення масових заворушень" [Riot control agent] (розділ 1) - речовини, які за очікуваних умов застосування з метою боротьби з масовими заворушеннями швидко викликають в організмі людини подразнення органів відчуття або фізичні розлади, які зникають протягом короткого часу після припинення впливу цих речовин.

Технічна примітка.

Сльозогінні гази є підгрупою "засобів припинення масових заворушень".

"Цивільні повітряні судна" [Civil aircraft] (розділи 1, 3, 4, 7) - "літальні апарати", перелічені за призначенням органом цивільної авіації однієї або більше "держав-учасниць" в опублікованих сертифікаційних списках льотної придатності для польотів на комерційних цивільних внутрішніх і міжнародних авіалініях або для законного цивільного, приватного або комерційного використання, що підтверджується відповідним сертифікатом льотної придатності, виданим уповноваженим органом цивільної авіації "держави-учасниці"; та

занесені до державного реєстру цивільних повітряних суден, що підтверджується відповідним реєстраційним посвідченням, виданим уповноваженим органом цивільної авіації "держави-учасниці"

Особлива примітка.

Див. також "літальні апарати".

"Цифровий комп'ютер" [Digital computer] (розділи 4, 5) - обладнання, яке може у формі однієї або більше дискретних змінних виконувати усі такі функції:

a) приймати дані;

b) зберігати дані або команди в постійних або змінних (таких, на які можна записувати) запам'ятовувальних пристроях;

c) обробляти дані за допомогою збереженої послідовності команд, що може змінюватися; та

d) забезпечувати виведення даних.

Особлива примітка.

Зміни збереженої послідовності команд включають заміну постійних запам'ятовувальних пристроїв, а не фізичну заміну електричної проводки або схеми з'єднань.

"Час встановлення" [Settling time] (розділ 3) - час, необхідний вихідному сигналу для того, щоб він досяг величини в межах половини біта від його кінцевого значення під час перемикання між будь-якими двома рівнями перетворювача.

"Час затримки основного логічного елемента" [Basic gate propagation delay time] (розділ 3) - величина часу затримки проходження сигналу через основний логічний елемент, який використовується в "монолітній інтегральній схемі". Для "серії" "монолітних інтегральних схем" цей час може бути визначений як час затримки проходження сигналу для типового в межах даної "серії" логічного елемента або як типовий час затримки проходження сигналу в основному елементі в межах конкретної "серії".

Особливі примітки.

1. "Час затримки основного логічного елемента" не слід плутати з часом затримки вхід/вихід комплексної "монолітної інтегральної схеми".

2. "Серія" складається з усіх інтегральних схем, до яких застосовуються усі наведені нижче характеристики, що стосуються технології виготовлення та технічних умов, за винятком їх відповідних функцій:

a) однакова архітектура інтегральних схем та програмного забезпечення;

b) однакова конструкція і технологія процесу виготовлення; та

c) однакові основні характеристики.

"Час перемикання частоти" [Frequency switching time] (розділ 3) - час (тобто затримка в часі), необхідний сигналу для перемикання з початкової визначеної вихідної частоти на кінцеву визначену вихідну частоту для досягнення будь-якого з таких діапазонів частот:

a) у межах ± 100 Гц від значення кінцевої визначеної вихідної частоти, меншої 1 ГГц; або

b) у межах ± 0,1 мільйонних частин (ppm) від значення кінцевої визначеної вихідної частоти, рівної 1 ГГц або більше.

"Числове програмне керування" [Numerical control] (розділ 2) - автоматичне керування процесом, що здійснюється пристроєм, який використовує числові дані, що, як правило, вводяться під час виконання операції (джерело: ISO 2382).

"Швидке переналагодження частоти РЛС" [Radar frequency agility] (розділ 6) - будь-який метод, який змінює у псевдовипадковій послідовності несучу частоту передавача імпульсної РЛС між імпульсами або групами імпульсів на величину, рівну або більшу, ніж ширина смуги частот імпульсу.

"Швидкісне гартування краплі" [Splat Quenching] (розділ 1) - процес "швидкого твердіння" потоку розплавленого металу, який зіштовхується з охолодженою перепоною з утворенням лускоподібного продукту.

Особлива примітка.

"Швидке твердіння" - затвердіння розплавленого матеріалу із швидкістю охолодження понад 1000 К/с.

"Швидкість дрейфу" (гіроскопа) [Drift rate (gyro)] (розділ 7) - складова вихідного сигналу гіроскопа, функціонально незалежна від кута повороту на вході. Вимірюється в одиницях кутової швидкості (джерело: IEEE STD 528-2001).

"Шпиндель, що нахиляється" [Tilting spindle] (розділ 2) - інструментальний шпиндель, який у процесі механічного оброблення змінює кутове положення своєї центральної осі відносно будь-якої іншої осі.

"Ядерний реактор" [Nuclear reactor] (розділ 0) - укомплектований реактор, здатний працювати в режимі керованої самопідтримної ланцюгової ядерної реакції поділу. "Ядерний реактор" включає всі вироби, що знаходяться всередині або безпосередньо приєднані до корпусу реактора, обладнання, що регулює рівень потужності в активній зоні, а також компоненти, що звичайно містять теплоносій першого контуру активної зони реактора, знаходяться у безпосередньому контакті з ним або регулюють його.

Акроніми та абревіатури, що використовуються у цьому Списку

Акроніми або абревіатури, що використовуються як визначені терміни, наведені у розділі "Визначення термінів, що використовуються у цьому Списку".

Акронім або абревіатура

Значення

ABEC

Комітет з розробки кільцевих підшипників

AGMA

Американська асоціація виробників зубчастих коліс

AHRS

Курсовертикаль

AISI

Американський інститут заліза та сталі

ALU

Арифметично-логічний пристрій

ANSI

Американський національний інститут стандартизації

ASTM

Американське товариство з випробування матеріалів

ATC

Управління повітряним рухом (УПР)

AVLIS

Лазерне розділення ізотопів за методом атомарних парів

CAD

Система автоматизованого проектування (САПР)

CAS

Хімічна реферативна служба

CDU

Блок керування та відображення (БКВ)

CEP

Кругове імовірне відхилення (КІВ)

CNTD

Термічне осадження з керованим зародкоутворенням (ТОКЗ)

CPU

Центральний процесор (ЦП)

CVD

Хімічне осадження з парової фази (ХОП)

CW (для лазерів)

Безперервний режим

CW

Хімічна зброя (ХЗ)

DME

Радіомаяк далекомірний (РМД)

DS

Спрямоване тверднення (СТ)

EB-PVD

Фізичне осадження з парової фази електронним променем

EBU

Європейський союз радіомовлення (ЄСР)

ECM

Електрохімічне оброблення (ЕХО)

ECR

Електронний циклотронний резонанс (ЕЦР)

EDM

Електроерозійні верстати (ЕЕВ)

EEPROMS

Програмований постійний запам'ятовувальний пристрій з електричним стиранням (ППЗПЕС)

EIA

Асоціація електронної промисловості (AЕП)

EMC

Електромагнітна сумісність (ЕМС)

ETSI

Європейський інститут телекомунікаційних стандартів (ЄІТС)

FADEC

Повністю автономне електронно-цифрове керування двигуном

FFT

Швидке перетворення Фур'є (ШПФ)

GLONASS

Глобальна навігаційна супутникова система (ГЛОНАСС)

GPS

Система глобального позиціонування (ГСМ)

HBT

Гетеробіполярні транзистори (ГБТ)

HDDR

Цифровий запис високої щільності (ЦЗВЩ)

HEMT

Транзистор з високою рухливістю електронів (ТВРЕ)

ICAO

Міжнародна організація цивільної авіації (ІКАО)

IEC

Міжнародна електротехнічна комісія (МЕК)

IEEE

Інститут інженерів з електротехніки та радіоелектроніки (IEEE)

IFOV

Миттєве поле зору (МПЗ)

ILS

Курсо-глісадна система посадки (КГСП)

IRIG

Міжполігонна група з вимірювальної апаратури (МГВА)

ISA

Міжнародна стандартна атмосфера (МСА)

ISAR

РЛС з інверсною синтезованою апертурою (РІСА)

ISO

Міжнародна організація зі стандартизації (ІСО)

ITU

Міжнародний союз електрозв'язку (МСЕ)

JIS

Промисловий стандарт Японії (ДжІС)

JT

Джоуль-Томсон (Дж-Т)

LIDAR

Лазерний далекомір (ЛІДАР)

LRU

Конструктивно-змінний блок (КЗБ)

MAC

Код перевірки автентичності повідомлення

Mach

Число Маха - відношення швидкості руху об'єкта до швидкості звуку (названо ім'ям Ернста Маха)

MLIS

Лазерне розділення ізотопів за молекулярним методом

MLS

Мікрохвильова система посадки

MOCVD

Хімічне осадження парів металоорганічних сполук

MRI

Магнітно-резонансна томографія

MTBF

Середній час напрацювання між відмовами

Mtops

Мільйон теоретичних операцій за секунду

MTTF

Середній час напрацювання до відмови

NBC

Ядерний, біологічний та хімічний

NDT

Неруйнівний контроль

PAR

РЛС точного заходу на посадку (РТП)

PIN

Персональний ідентифікаційний номер

ppm

Частин на мільйон

PSD

Спектральна густина потужності

QAM

Квадратурно-амплітудна модуляція

RF

Радіочастота

SACMA

Асоціація постачальників перспективних композиційних матеріалів

SAR

РЛС із синтезованою апертурою

SC

Монокристал

SLAR

Бортова РЛС бокового огляду

SMPTE

Спілка інженерів кіно та телебачення

SRA

Модуль пристрою, що замінюється в заводських умовах

SRAM

Статичний запам'ятовувальний пристрій з довільною вибіркою

SRM

Методи, рекомендовані Асоціацією постачальників перспективних композиційних матеріалів

SSB

Одна бокова смуга

SSR

Оглядова РЛС з активним відгуком

TCSEC

Критерії оцінки надійності комп'ютерних систем

TIR

Максимальне показання приладу

UTS

Межа міцності при розтягуванні

UV

Ультрафіолетовий

VOR

Всенаправлений азимутальний радіомаяк УКХ-діапазону

YAG

Алюмоітрієвий гранат

Розділ 0. Ядерні установки, матеріали та обладнання

Номер позиції

Найменування та опис товарів

0A

Системи, обладнання і компоненти.

0A001

"Ядерні реактори" і спеціально призначені або підготовлені для них обладнання та компоненти, а саме:

Технічна примітка.
Різні типи ядерних реакторів можуть відрізнятися сповільнювачем, що використовується (наприклад, графіт, важка вода, легка вода, без сповільнювача), спектром нейтронів у реакторі (наприклад, теплові нейтрони, швидкі нейтрони), типом теплоносія, що використовується (наприклад, вода, рідкий метал, розплав солей, газ), або призначенням чи модифікацією реактора (наприклад, енергетичні реактори, дослідницькі реактори, випробувальні реактори). Передбачається, що на всі ці типи ядерних реакторів розповсюджується дія цієї позиції, а також усіх її підпозицій, що мають відношення до конкретного типу реактора.
За цією позицією контролю не підлягають термоядерні реактори.

0A001.a

a) "ядерні реактори";

Примітка.
Експорт повного комплекту основних виробів, з яких складається "
ядерний реактор", буде відбуватися тільки відповідно до процедур Керівних принципів міжнародного режиму експортного контролю "Групи ядерних постачальників" (ГЯП), імплементованих у національне законодавство. Окремі вироби в рамках визначення терміна "ядерний реактор", які експортуватимуться відповідно до процедур Керівних принципів ГЯП, визначено в позиціях 0A001.b - 0A001.k. Процедури Керівних принципів ГЯП можуть бути застосовані і до інших товарів у рамках визначення терміна "ядерний реактор".

0A001.b

b) металеві корпуси "ядерних реакторів" або їх основні частини заводського виготовлення, включаючи кришку корпусу реактора високого тиску, спеціально призначені або підготовлені для розміщення в них активної зони "ядерного реактора", а також відповідних "внутрішньокорпусних пристроїв ядерного реактора";

Технічна примітка.
Згідно з позицією 0A001.b контролю підлягають корпуси ядерних реакторів незалежно від значень тиску, на які вони розраховані, включаючи реакторні корпуси високого тиску і каландри.

0A001.c

c) машини для завантаження і вивантаження палива ядерних реакторів, тобто маніпуляторне обладнання, спеціально призначене або підготовлене для завантаження або вивантаження палива з "ядерного реактора";

Технічна примітка.
Предмети, зазначені в позиції 0A001.c, здатні здійснювати операції з перевантаження на потужності або мають технічні можливості для точного позиціонування або орієнтування, що дає змогу проводити на зупиненому реакторі складні роботи з перевантаження палива, під час яких, як правило, неможливі безпосереднє спостереження або прямий доступ до палива.

0A001.d

d) керуючі стержні ядерних реакторів, спеціально призначені або підготовлені для керування процесом поділу в "ядерних реакторах", опорні або підвісні конструкції для них, повідні механізми стержнів або напрямні труби стержнів;

0A001.e

e) труби високого тиску, спеціально призначені або підготовлені для розміщення в них паливних елементів і теплоносія першого контуру в "ядерних реакторах";

Технічна примітка.
Труби високого тиску є частинами паливних каналів, розрахованих працювати при підвищеному тиску, що іноді перевищує 5 МПа.

0A001.f

f) труби (або збірки труб) з металевого цирконію або його сплавів, спеціально призначені або підготовлені для використання як оболонки для ядерного палива в "ядерних реакторах", у кількостях, що перевищують 10 кг;

Технічна примітка.
Труби з металевого цирконію або його сплавів, що використовуються у ядерних реакторах, містять цирконій, в якому відношення за вагою гафнію до цирконію, як правило, менше ніж 1:500.

Особлива примітка.
Щодо цирконієвих труб високого тиску див. позицію 0A001.e. Щодо труб каландру див. позицію 0A001.h.

0A001.g

g) насоси або газодувки для теплоносія, спеціально призначені або підготовлені для підтримання циркуляції теплоносія першого контуру "ядерних реакторів".

Технічна примітка.
Спеціально призначені або підготовлені насоси або газодувки включають насоси для реакторів з водяним охолодженням, газодувки для реакторів з газовим охолодженням і електромагнітні та механічні насоси для реакторів з рідиннометалевим охолодженням. Це обладнання може включати насоси з системами, ретельно ущільненими або багаторазово ущільненими для запобігання витоку теплоносія першого контуру, герметичні насоси та насоси із системами інерціальної маси. Це визначення охоплює, зокрема, насоси, атестовані на відповідність стандартам Кодексу Американського товариства інженерів-механіків (ASME), частина III, розділ I, підрозділ NB (компоненти класу 1) або еквівалентним стандартам.

0A001.h

h) "внутрішньокорпусні пристрої ядерних реакторів", спеціально призначені або підготовлені для використання в "ядерних реакторах", включаючи, наприклад, опорні колони активної зони, паливні канали, труби каландру, теплові екрани, відбивачі, опорні решітки активної зони та пластини дифузора;

Технічна примітка.
У позиції 0A001.h термін "внутрішньокорпусні пристрої ядерних реакторів" означає основні конструкції всередині корпуса реактора, які виконують одну або кілька функцій, таких як підтримування активної зони, збереження правильного розміщення палива, спрямовування потоку теплоносія першого контуру, забезпечення радіаційного захисту корпусу реактора, та керування внутрішньореакторними приладами.

0A001.i

i) Теплообмінники, а саме:

0A001.i.1

1) парогенератори, спеціально призначені або підготовлені для першого або проміжного контуру охолодження "ядерних реакторів".

0A001.i.2

2) інші теплообмінники, спеціально призначені або підготовлені для використання в першому контурі охолодження "ядерних реакторів".

Примітка.
Згідно з позицією 0A001.i контролю не підлягають теплообмінники для допоміжних систем реактора, наприклад систем аварійного охолодження або систем відводу залишкового тепловиділення.

Технічна примітка.
Парогенератори, спеціально призначені або підготовлені для перенесення тепла, виробленого в реакторі, до живильної води для виробництва пари. У випадку реакторів на швидких нейтронах, в яких також присутній проміжний контур теплоносія, парогенератор розташований у проміжному контурі. У реакторі з газовим охолодженням теплообмінник може використовуватись для передачі тепла вторинному газовому контуру, який приводить у рух газову турбіну.

0A001.j

j) детектори нейтронів, спеціально призначені або підготовлені для визначення рівнів нейтронного потоку всередині активної зони "ядерного реактора";

Технічна примітка.
Позиція 0A001.j охоплює детектори, що розташовуються як всередені, так і за межами активної зони, і є придатними для вимірювання рівнів потоку в широкому діапазоні, як правило, від 104 нейтронів на 1 см2 за секунду або більше. До обладнання, яке розміщується за межами активної зони
"ядерного реактора", належить обладнання, розташоване в межах біологічного захисту.

0A001.k

k) "зовнішні теплові екрани", спеціально призначені або підготовлені для використання в "ядерному реакторі" для зменшення теплових втрат, а також для захисту захисної оболонки реактора.

Технічна примітка.
У позиції 0A001.k термін "зовнішні теплові екрани" означає основні конструкції, розміщені навкруги корпуса реактора, які зменшують втрати тепла з реактора і зменшують температуру всередині захисної оболонки реактора.

0B

Обладнання для випробування, контролю та виробництва.

0B001

Установки для розділення ізотопів "природного урану", "збідненого урану" або "спеціальних матеріалів, що розщеплюються" і спеціально призначене або підготовлене для них обладнання та компоненти, а саме:

Технічна примітка.
Установки, обладнання та технологія для розділення ізотопів урану має здебільшого близьку спорідненість з установками, обладнанням та технологією для розділення ізотопів "інших елементів". В окремих випадках, заходи контролю, передбачені позицією 0B001, також поширюються на установки і обладнання, призначені для розділення ізотопів "інших елементів". Ці заходи контролю за установками і обладнанням для розділення ізотопів "інших елементів" є додатковими до заходів контролю за установками і обладнанням, спеціально призначеними або підготовленими для оброблення, використання або виробництва спеціальних матеріалів, що розщеплюються, охоплених позицією 0C002. Ці додаткові до передбачених позицією 0B001 заходи контролю стосовно застосувань, пов'язаних з ізотопами "інших елементів", не поширюються на процес електромагнітного розділення ізотопів, який розглядається в інших розділах цього списку.
Заходи контролю, передбачені позицією 0B001, однаково поширюються незалежно від того, чи є призначеним використанням розділення ізотопів урану, чи розділення ізотопів "інших елементів" на такі процеси: газоцентрифугальний процес, газодифузійний процес, процес плазмового розділення і аеродинамічні процеси.
Стосовно деяких процесів, спорідненість з розділенням ізотопів урану залежить від елементу, що відділяється. Такими процесами є: процеси на основі лазера (наприклад, молекулярний метод лазерного розділення ізотопів і лазерне розділення ізотопів за методом атомарних парів), хімічний обмін та іонний обмін. Отже, ці процеси в кожному конкретному випадку будуть оцінюватись для відповідного поширення заходів контролю, передбачених позицією 0B001, на застосування, пов'язані з ізотопами "інших елементів".

0B001.a

a) установки, спеціально призначені для розділення ізотопів "природного урану", "збідненого урану" або "спеціальних матеріалів, що розщеплюються", а саме:

0B001.a.1

1) установка газоцентрифугального розділення;

0B001.a.2

2) установка газодифузійного розділення;

0B001.a.3

3) установка аеродинамічного розділення;

0B001.a.4

4) установка розділення шляхом хімічного обміну;

0B001.a.5

5) установка іонно-обмінного розділення;

0B001.a.6

6) установка "лазерного" розділення за методом атомарних парів;

0B001.a.7

7) установка молекулярного "лазерного" розділення;

0B001.a.8

8) установка плазмового розділення;

0B001.a.9

9) установка електромагнітного розділення;

0B001.b

b) газові центрифуги та вузли і компоненти, спеціально призначені або підготовлені для процесу газоцентрифугального розділення, а саме:

Технічна примітка.
Газова центрифуга звичайно складається з тонкостінного циліндра (або декількох циліндрів) діаметром від 75 мм до 650 мм з вертикальною центральною віссю, який перебуває у вакуумі і обертається з високою окружною швидкістю порядку 300 м/с або більше. Для досягнення великої швидкості конструкційні матеріали обертових компонентів повинні мати високе значення відношення міцності до густини, а роторна збірка і, як наслідок, окремі її компоненти повинні виготовлятися з високим ступенем точності, щоб розбаланс був мінімальним. На відміну від інших центрифуг газова центрифуга для збагачення урану має всередині роторної камери обертову перегородку (або декілька перегородок) у формі диска і нерухому систему подачі та відводу газу UF6, що складається щонайменше з трьох окремих каналів, два з яких з'єднані з уловлювачами, що відходять від осі ротора до периферійної частини роторної камери. У вакуумі перебуває також ряд важливих нерухомих елементів, які, хоча і мають особливу конструкцію, не складні у виготовленні та не виготовляються з унікальних матеріалів. Центрифугальна установка, однак, потребує великої кількості таких компонентів, тому їх кількість може служити важливою ознакою кінцевого використання.

Технічна примітка.
У позиції 0B001.b термін "матеріал з високим значенням відношення міцності до густини" означає будь-який з таких матеріалів:

1) мартенситностаріюча сталь, здатна мати межу міцності при розтягуванні 1,95 ГПа або більше;

2) сплави алюмінію, здатні мати межу міцності при розтягуванні 0,46 ГПа або більше; або

3) "волокнисті або ниткоподібні матеріали" з "питомим модулем пружності" 3,18 х 106 м або більше та "питомою міцністю при розтягуванні" 7,62 х 104 м або більше.

0B001.b.1

1) газові центрифуги;

0B001.b.2

2) комплектні роторні збірки, тобто тонкостінні циліндри або ряд з'єднаних між собою тонкостінних циліндрів, виготовлених з одного або більше "матеріалів з високим значенням відношення міцності до густини";

Технічна примітка.
З'єднання циліндрів між собою здійснюється за допомогою гнучких сильфонів або кілець, визначених у позиції 0B001.b.4. Складений ротор має внутрішню (внутрішні) перегородку (перегородки) і торцеві кришки, визначені у позиціях 0B001.b.5. та 0B001.b.6. Однак комплектна роторна збірка може бути поставлена замовникові і у частково складеному вигляді.

0B001.b.3

3) роторні труби, тобто спеціально призначені або підготовлені тонкостінні циліндри з товщиною стінки 12 мм або менше, діаметром від 75 мм до 650 мм, виготовлені з одного або більше "матеріалів з високим значенням відношення міцності до густини";

0B001.b.4

4) кільця або сильфони з товщиною стінки 3 мм або менше, діаметром від 75 мм до 650 мм, спеціально призначені або підготовлені для створення місцевої опори для роторної труби або з'єднання ряду роторних труб, виготовлені з одного з "матеріалів з високим значенням відношення міцності до густини";

Технічна примітка.
Сильфони у позиції 0B001.b.4 - це короткі циліндри, що мають один гофр.

0B001.b.5

5) перегородки (компоненти у формі диска) діаметром від 75 мм до 650 мм, спеціально призначені або підготовлені для установки всередині роторної труби центрифуги для того, щоб ізолювати випускну камеру від головної розділювальної камери та, в деяких випадках, сприяти циркуляції газу UF6 всередині головної розділювальної камери роторної труби, та виготовлені з одного з "матеріалів з високим значенням відношення міцності до густини".

0B001.b.6

6) верхні/нижні кришки (компоненти у формі диска) діаметром від 75 мм до 650 мм, спеціально призначені або підготовлені так, щоб точно відповідати діаметру кінців роторної труби і завдяки цьому утримувати UF6 всередині неї, а також, щоб, у деяких випадках, підтримувати, утримувати або містити в собі як складову частину елементи верхнього підшипника (верхня кришка) або служити в якості несучої частини обертових елементів електродвигуна та нижнього підшипника (нижня кришка), і виготовляються з одного з "матеріалів з високим значенням відношення міцності до густини".

0B001.b.7

7) підшипники з магнітною підвіскою, а саме:

0B001.b.7.a

a) спеціально призначені або підготовлені підшипникові вузли, що складаються з кільцевого магніту, підвішеного в обоймі, виготовленій з "корозійностійких до UF6 матеріалів", що містить демпфірувальне середовище, причому магніт взаємодіє з полюсним наконечником або другим магнітом, встановленим на верхній кришці ротору;

Технічна примітка.
Магніт може мати форму кільця із співвідношенням між зовнішнім і внутрішнім діаметрами, меншим або рівним 1,6:1. Магніт може мати форму, що забезпечує початкову проникність 0,15 Гн/м або більше, чи залишкову намагніченість 98,5 % або більше, чи добуток індукції на максимальну напруженість поля більше 80 кДж/м3. Крім звичайних властивостей матеріалу, необхідною попередньою умовою є обмеження дуже малими допусками (менше 0,1 мм) відхилення магнітних осей від геометричних або забезпечення особливої гомогенності матеріалу магніту.

0B001.b.7.b

b) активні магнітні підшипники спеціально призначені або підготовлені для використання у газових центрифугах;

Технічна примітка.
Підшипники у позиції 0B001.b.7.b звичайно мають такі характеристики:
- призначені для утримування у центральному положенні ротору, що обертається з частотою 600 Гц або більше, та
- приєднані до надійного джерела електроживлення та/або джерела безперебійного живлення (UPS) для функціонування протягом однієї години або більше.

0B001.b.8

8) спеціально призначені або підготовлені підшипники, що містять вузол типу вісь-ущільнювальне кільце, змонтований на демпфері;

Технічна примітка.
Вісь - це, як правило, вал, виготовлений із загартованої сталі, з одним кінцем у формі напівсфери та із засобами під'єднання до нижньої кришки, визначеної в позиції 0B001.b.6, на другому кінці. Вал, однак, може бути з'єднаний з гідродинамічним підшипником. Кільце має форму таблетки з напівсферичною заглибиною на одній поверхні. Ці компоненти часто поставляються окремо від демпфера.

0B001.b.9

9) молекулярні насоси, що складаються із спеціально призначених або підготовлених циліндрів з виточеними або витисненими всередині спіральними канавками та висвердленими всередині отворами;

Технічна примітка.
Типовими розмірами циліндрів є такі: внутрішній діаметр від 75 мм до 650 мм, товщина стінки 10 мм або більше, довжина дорівнює або перевищує діаметр. Канавки, як правило, мають прямокутний поперечний переріз і глибину 2 мм або більше.

0B001.b.10

10) спеціально призначені або підготовлені статори кільцевої форми для високошвидкісних багатофазних гістерезисних (або реактивних) електродвигунів змінного струму для синхронної роботи в умовах вакууму при частоті 600 Гц або більше та потужності 40 ВА або більше;

Технічна примітка.
Статори можуть складатися з багатофазних обмоток на багатошаровому залізному осерді з низькими втратами, яке складається з тонких пластин, як правило, завтовшки 2 мм або менше.

0B001.b.11

11) корпуси/приймачі центрифуг,
спеціально призначені або підготовлені для розміщення в них збірки роторної труби газової центрифуги, що складаються з жорсткого циліндра із стінкою завтовшки до 30 мм з прецизійно обробленими кінцями (для установки підшипників з одним або кількома фланцями для монтажу), що є паралельними один одному і перпендикулярними до поздовжньої осі циліндра в межах 0,05 градуса або менше;

Технічна примітка.
Корпус може мати також комірчасту конструкцію, яка дає змогу встановлювати кілька роторних збірок.

0B001.b.12

12) уловлювачі, що складаються із спеціально призначених або підготовлених трубок для відведення газоподібного UF6 з роторної труби центрифуги за принципом дії трубки Піто (тобто з отвором, спрямованим на круговий потік газу всередині роторної труби, що досягається, наприклад, через згин кінця радіально розташованої трубки), які можна з'єднати з центральною системою відведення газу;

0B001.b.13

13) перетворювачі частоти (також відомі як конвертери або інвертери), спеціально призначені або підготовлені для живлення статорів двигунів, визначених у позиції 0B001.b.10, а також частини, компоненти та підзбірки, спеціально призначені для них, що мають усі такі характеристики:

0B001.b.13.a

a) багатофазний вихід з частотою 600 Гц або більше; та

0B001.b.13.b

b) висока стабільність (із стабілізацією частоти краще ніж 0,2 %);

0B001.b.14

14) спеціальні стопорні та регулюючі клапани, а саме:

0B001.b.14.a

a) стопорні клапани, спеціально призначені або підготовлені діяти на живильний потік або потоки "продукту" або "хвостів" газоподібного UF6 окремої газової центрифуги;

0B001.b.14.b

b) ручні чи автоматичні стопорні чи регулюючі клапани з сильфонним ущільненням, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів" або захищені покриттям з таких матеріалів, внутрішнім діаметром від 10 мм до 160 мм, спеціально призначені або підготовлені для використання в головних або допоміжних системах газоцентрифугальних збагачувальних установок;

0B001.c

c) обладнання та компоненти, спеціально призначені або підготовлені для процесу газодифузійного розділення, а саме:

Технічна примітка.
При газодифузійному методі розділення ізотопів урану основною технологічною збіркою є спеціальний пористий газодифузійний бар'єр, теплообмінник для охолодження газу (який нагрівається в процесі стискання), ущільнювальні клапани і регулювальні клапани, а також трубопроводи. Оскільки в газодифузійній технології використовується гексафторид урану (UF6), все обладнання, трубопроводи і поверхні вимірювальних приладів (які вступають у контакт з газом) повинні виготовлятися з матеріалів, що зберігають стабільність при контакті з UF6. Газодифузійна установка складається з ряду таких збірок, їх кількість може бути важливою ознакою кінцевого використання.

0B001.c.1

1) газодифузійні бар'єри, тобто спеціально призначені або підготовлені тонкі пористі фільтри, виготовлені з металевих, полімерних або керамічних "корозійностійких до UF6 матеріалів" з розміром пор 10 - 100 нм, завтовшки 5 мм або менше, а для трубчастих форм - діаметром 25 мм або менше;

0B001.c.2

2) камери дифузорів, тобто спеціально призначені або підготовлені герметичні посудини для розміщення в них газодифузійних бар'єрів, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів" або захищені покриттям з таких матеріалів;

0B001.c.3

3) компресори та газодувки, спеціально призначені або підготовлені для довготривалої експлуатації в середовищі UF6, з об'ємною продуктивністю на вході 1 м3/хв або більше UF6 та з тиском на виході до 500 кПа, що мають перепад тиску 10:1 або менше і виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів" або захищені покриттям з таких матеріалів, а також окремі вузли таких компресорів та газодувок;

0B001.c.4

4) спеціально призначені або підготовлені ущільнення обертових валів компресорів або газодувок, визначених у позиції 0B001.c.3, і спроектовані для швидкості натікання буферного газу менше ніж 1000 см3/хв;

Технічна примітка.
Ущільнення обертових валів - це вакуумні ущільнення, встановлені на стороні подачі та на стороні виходу для ущільнення вала, що з'єднує ротор компресора або газодувки з привідним двигуном таким чином, щоб забезпечити надійну герметизацію від натікання повітря до внутрішньої камери компресора або газодувки, заповненої UF6.

0B001.c.5

5) спеціально призначені або підготовлені теплообмінники для охолодження UF6, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів" або захищені покриттям з таких матеріалів, і розраховані на швидкість зміни тиску, зумовлену натіканням, меншу ніж 10 Па за годину при перепаді тиску 100 кПа;

0B001.c.6

6) спеціально призначені або підготовлені ручні чи автоматичні стопорні чи регулюючі клапани сильфонного типу, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів" або захищені покриттям з таких матеріалів, для встановлення в основних та допоміжних системах газодифузійних установок із збагачення;

0B001.d

d) обладнання та компоненти, спеціально призначені або підготовлені для аеродинамічного процесу розділення, а саме:

Технічна примітка.
У процесах аеродинамічного збагачення суміш газоподібного UF6 і легкого газу (водень або гелій) стискається і потім пропускається через розділювальні елементи, у яких розділення ізотопів завершується за допомогою одержання великих відцентрових сил по геометрії криволінійної стінки. Успішно розроблено два процеси цього типу: процес соплового розділення та процес вихрової трубки. Для обох процесів основними компонентами каскаду розділення є циліндричні корпуси, в яких розміщені спеціальні розділювальні елементи (сопла або вихрові трубки), газові компресори і теплообмінники для відведення тепла, що утворюється при стисканні. Для аеродинамічних установок потрібен цілий ряд таких каскадів, так що їх кількість може бути важливою ознакою кінцевого використання. Оскільки в аеродинамічному процесі використовується UF6, поверхні всього обладнання, трубопроводів і вимірювальних приладів (які вступають у контакт із газом) повинні бути виготовлені з матеріалів, що зберігають стабільність при контакті з UF6, або захищені покриттям з таких матеріалів.

0B001.d.1

1) спеціально призначені або підготовлені розділювальні сопла (та їх збірки), що складаються із шпаруватих вигнутих каналів з радіусом кривизни менше 1 мм, корозійностійких до UF6, які мають усередині різальну кромку, яка розділяє потік газу через сопло на два потоки (дві фракції);

0B001.d.2

2) спеціально призначені або підготовлені циліндричні або конічні вихрові трубки (та їх збірки), виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів", або захищені покриттям з таких матеріалів, з одним чи кількома тангенціальними вхідними отворами;

Технічна примітка.
Трубки можуть бути оснащені відводами соплового типу на одному або на обох кінцях. Живильний газ надходить до вихрової трубки по дотичній з одного кінця або через закручувальні лопатки чи крізь численні тангенціальні вхідні отвори вздовж трубки.

0B001.d.3

3) спеціально призначені або підготовлені компресори чи газодувки, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів" або захищені покриттям з таких матеріалів, а також ущільнення обертових валів для них;

Технічна примітка.
Ущільнення обертових валів, встановлені на стороні подачі та на стороні виходу, є спеціально призначеними або підготовленими для ущільнювання вала, що з'єднує ротор компресора або газодувки з привідним двигуном таким чином, щоб забезпечити надійну герметизацію від витоку робочого газу або напливання повітря чи ущільнювального газу до внутрішньої камери компресора або газодувки, заповнених сумішшю UF6 та газу-носія (водню чи гелію).

0B001.d.4

4) спеціально призначені або підготовлені теплообмінники для охолодження газу, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів", або захищені покриттям з таких матеріалів;

0B001.d.5

5) спеціально призначені або підготовлені корпуси розділювальних елементів, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів", або захищені покриттям з таких матеріалів, для розміщення в них вихрових трубок чи сепараційних сопел;

0B001.d.6

6) спеціально призначені або підготовлені ручні чи автоматичні стопорні чи регулюючі клапани сильфонного типу, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів", або захищені покриттям з таких матеріалів, діаметром 40 мм або більше, для встановлення в основних та допоміжних системах аеродинамічних збагачувальних установок;

0B001.d.7

7) спеціально призначені або підготовлені технологічні системи відокремлення UF6 від газу-носія (водню чи гелію) для зменшення вмісту UF6 у газі-носії до однієї частини на мільйон або менше, що можуть включати таке обладнання:

0B001.d.7.a

a) кріогенні теплообмінники та кріосепаратори, здатні створювати температури 153 K (-120° C) або нижче;

0B001.d.7.b

b) блоки кріогенного охолодження, здатні створювати температури 153 K (-120° C) або нижче;

0B001.d.7.c

c) блоки розділювальних сопел або вихрових трубок для відділення UF6 від газу-носія; або

0B001.d.7.d

d) охолоджувані вловлювачі UF6, здатні виморожувати UF6;

0B001.e

e) обладнання та компоненти, спеціально призначені або підготовлені для процесу розділення шляхом хімічного обміну, а саме:

Технічна примітка.
Незначна відмінність ізотопів урану за масою приводить до невеликих змін у рівновазі хімічних реакцій, які можуть використовуватися як основа для розділення ізотопів. Успішно розроблено два процеси: рідинно-рідинний хімічний обмін і твердо-рідинний іонний обмін. У процесі рідинно-рідинного хімічного обміну в протитечії відбувається взаємодія рідких фаз, що не змішуються (водних та органічних), що приводить до ефекту каскадування тисяч стадій розділення. Водна фаза складається з хлориду урану в розчині соляної кислоти; органічна фаза складається з екстрагента, що містить хлорид урану в органічному розчиннику. Контактними фільтрами в розділювальному каскаді можуть бути рідинно-рідинні обмінні колони (такі, як імпульсні колони із сітчастими тарілками) або рідинні центрифугальні контактні фільтри. На обох кінцях розділювального каскаду з метою забезпечення рефлюкса на кожному кінці необхідні хімічні перетворення (окислювання і відновлення). Головне завдання конструкції полягає в тому, щоб не допустити забруднення технологічних потоків іонами деяких металів. У зв'язку з цим використовуються пластикові, покриті пластиком (включаючи застосування фторованих вуглеводневих полімерів) та/або покриті склом колони і трубопроводи.

0B001.e.1

1) спеціально призначені або підготовлені протитечійні рідинно-рідинні обмінні колони з підведенням зовнішньої механічної енергії, спроектовані так, щоб час проходження ступеня був 30 с або менше, корозійностійкі до концентрованих розчинів соляної кислоти (як правило, ці колони та їх внутрішні компоненти виготовляють із скла або придатних для цього пластикових матеріалів, таких як фторовані вуглеводневі полімери, або захищають покриттям з таких матеріалів);

0B001.e.2

2) спеціально призначені або підготовлені центрифугальні рідинно-рідинні контактні фільтри, що використовують обертання для диспергування органічних та водних потоків, а потім відцентрову силу для розділення фаз, спроектовані так, щоб час проходження ступеня був 30 с або менше, та корозійностійкі до концентрованих розчинів соляної кислоти (як правило, виготовляються із скла або придатних для цього пластикових матеріалів, таких як фторовані вуглеводневі полімери, або захищені покриттям з таких матеріалів);

0B001.e.3

3) електрохімічні відновлювальні камери (електролізери), корозійностійкі до концентрованих розчинів соляної кислоти, спеціально призначені або підготовлені для відновлення урану з одного валентного стану в інший;

Технічна примітка.
Катодний відсік камер повинен бути спроектований так, щоб запобігати повторному окисленню урану до стану з більш високою валентністю. Для утримання урану в катодному відсіку камера може мати непроникну діафрагмову мембрану, виготовлену із спеціального катіонообмінного матеріалу. Катод складається з підходящого твердого провідника, такого як графіт.

0B001.e.4

4) спеціально призначені або підготовлені системи, розташовані на виході "продукту" з каскаду, для вилучення U+4 з органічного потоку, регулювання концентрації кислоти та для живлення електрохімічних відновлювальних камер, причому ті частини обладнання системи, які перебувають в контакті з технологічним потоком, виготовляються з придатних для цього матеріалів (таких, як скло, фторвуглецеві полімери, поліфенілсульфат, сульфон поліефіру і графіт, просочений смолою) або захищені покриттям з таких матеріалів.

Технічна примітка.
Ці системи складаються з обладнання екстракції розчинником для відгонки U+4 з органічного потоку в водний розчин, обладнання випарювання та/або іншого обладнання для досягнення регулювання та контролю водневого показника, а також насосів та інших пристроїв передачі для живлення електрохімічних відновлювальних камер. Основне завдання конструкції полягає в тому, щоб уникнути забруднення водного потоку іонами певних металів.

0B001.e.5

5) спеціально призначені або підготовлені системи для виробництва живильних розчинів хлориду урану високої чистоти, що складаються з обладнання для розчинення, екстракції розчинником та/або іонообмінного обладнання для очистки, а також електролітичних камер для відновлення U+6 або U+4 до U+3.

Технічна примітка.
У цих системах виробляються розчини хлориду урану, які мають лише кілька частин на мільйон металевих включень, таких як хром, залізо, ванадій, молібден, та інших двовалентних катіонів або катіонів з більшою валентністю. Конструкційні матеріали для частин системи, у яких обробляється U+3 високої чистоти, включають скло, фторовані вуглеводневі полімери, графіт, покритий полівінілсульфатним або поліефірсульфоновим пластиком та просочений смолою.

0B001.e.6

6) системи окислення урану, спеціально призначені або підготовлені для окислення U+3 до U+4 для повернення до каскаду розділення ізотопів урану;

Технічна примітка.
До складу цих систем може входити таке обладнання:

a) обладнання для контактування хлору і кисню з водним потоком, який витікає з обладнання для розділення ізотопів, та екстракції утвореного урану U+4 у збіднений органічний потік, що повертається з виробничого виходу каскаду;

b) обладнання для відокремлення води від соляної кислоти таким чином, що вода та концентрована соляна кислота знову можуть бути введені до процесу в необхідних місцях.

0B001.f

f) обладнання та компоненти, спеціально призначені або підготовлені для іонообмінного процесу розділення, а саме:

Технічна примітка.
Незначна відмінність ізотопів урану за масою приводить до невеликих змін у рівновазі хімічних реакцій, які можуть використовуватися як основа для розділення ізотопів. Успішно розроблено два процеси: рідинно-рідинний хімічний обмін і твердо-рідинний іонний обмін.
У твердо-рідинному іонообмінному процесі збагачення досягається за допомогою адсорбції/десорбції урану на спеціальній іонообмінній смолі або адсорбенті, що дуже швидко вступає у реакцію. Розчин урану в соляній кислоті та інші хімічні реагенти пропускаються через циліндричні збагачувальні колони, що містять ущільнені шари адсорбенту. Для підтримки безперервності процесу необхідна система рефлюкса з метою вивільнення урану з адсорбенту назад у рідкий потік для того, щоб можна було збирати "продукт" і "хвости". Це досягається шляхом використання підходящих хімічних реагентів відновлення/окислювання, які повністю регенеруються в окремих зовнішніх петлях і які можуть частково регенеруватися в самих ізотопних розділювальних колонах. Присутність у процесі гарячих концентрованих розчинів соляної кислоти вимагає, щоб обладнання було виготовлене із спеціальних корозійностійких матеріалів або захищене покриттям з таких матеріалів.

0B001.f.1

1) спеціально призначені або підготовлені іонообмінні смоли або адсорбенти, що швидко вступають у реакцію, включаючи пористі смоли макросітчастої структури і (або) мембранні структури, в яких активні групи хімічного обміну обмежені покриттям на поверхні неактивної пористої допоміжної структури, та інші композиційні структури в будь-якій придатній формі, включаючи частинки або волокна, причому ці іонообмінні смоли/адсорбенти мають діаметр 0,2 мм або менше і повинні бути хімічно стійкими до концентрованих розчинів соляної кислоти і достатньо міцними фізично, щоб їх властивості не погіршувалися в обмінних колонах, а також вони спеціально розроблені для досягнення високої кінетики обміну ізотопів урану (тривалість напівобміну менше 10 с) і здатні працювати в діапазоні температур від 373 K (100° C) до 473 K (200° C);

0B001.f.2

2) спеціально призначені або підготовлені іонообмінні колони (циліндричні) діаметром більше 1000 мм для утримання і підтримки заповнених шарів іонообмінних смол/адсорбентів, виготовлені з матеріалів (таких як титан або фторвуглецеві полімери), корозійностійких до концентрованих розчинів соляної кислоти, або захищені покриттям з таких матеріалів, здатні працювати в діапазоні температур від 373 K (100° C) до 473 K (200° C) і при тиску більше 0,7 МПа;

0B001.f.3

3) іонообмінні системи рефлюксу, тобто спеціально призначені або підготовлені системи хімічного чи електрохімічного відновлення або окислення для регенерації реагентів хімічного відновлення або окислення відповідно, що використовуються в каскадах іонообмінного збагачення урану;

Технічна примітка.
У процесі іонообмінного збагачення як відновлюючий катіон може використовуватися, наприклад, тривалентний титан (Ti+3). У цьому випадку відновлювальна система буде виробляти Ti+3 шляхом відновлення Ti+4. У процесі як окисник може використовуватися, наприклад, тривалентне залізо (Fe+3). У цьому випадку система окислення вироблятиме залізо Fe+3 шляхом окислення Fe+2.

0B001.g

g) обладнання і компоненти, спеціально призначені або підготовлені для процесів лазерного розділення за методом атомарних парів, а саме:

Технічні примітки.
1. У першій категорії існуючих систем для процесів збагачення з використанням лазерів - лазерного розділення ізотопів за методом атомарних парів (наприклад, AVLIS або SILVA), - робочим середовищем є пари атомарного урану.
Системи, обладнання та компоненти для цієї категорії установок лазерного збагачення включають: a) пристрої для подачі парів металевого урану (для вибіркової фотоіонізації); b) пристрої для збирання збагаченого та збідненого металевого урану як "продукту" і "хвостів"; c) технологічні лазерні системи для вибіркового збудження зразків урану-235; та d) обладнання для підготовки подачі та обладнання для конверсії "продукту". Внаслідок складності спектроскопії атомів урану може знадобитися використання будь-якої з ряду наявних технологій, пов'язаних з лазерами і лазерною оптикою.

2. Усі поверхні, що вступають у безпосередній контакт з парами або рідиною металевого урану, повністю виготовлені з корозійностійких матеріалів або захищені покриттям з таких матеріалів. Для цілей позиції 0B001.g матеріали, корозійностійкі до парів або рідини, що містять металевий уран або уранові сполуки, включають покритий оксидом ітрію графіт і тантал.

0B001.g.1

1) спеціально призначені або підготовлені системи для випаровування металевого урану, що можуть містити електронно-променеві гармати та сконструйовані для досягнення потужності, що передається до мішені, 1 кВт або більше, достатньої для утворення парів металевого урану із швидкістю, необхідною для функціонування лазерного збагачення;

0B001.g.2

2) системи для обробки розплавленого урану, розплавлених сплавів урану або парів металевого урану, спеціально призначені або підготовлені для використання у лазерному збагаченні або спеціально призначені або підготовлені компоненти до них;

Технічна примітка.
Системи для обробки рідкого металевого урану можуть складатися з тиглів та охолоджуючого обладнання для тиглів. Тиглі та інші частини системи, які вступають в контакт з розплавленим ураном або розплавленими сплавами урану, або парами металевого урану, виготовлені з підходящих корозійностійких і термостійких матеріалів або захищені покриттям з таких матеріалів. Підходящі матеріали можуть включати тантал, графіт, покритий оксидом ітрію, графіт, покритий оксидами інших рідкісноземельних елементів (див. також позицію 2A225), або їх сумішами.

Особлива примітка.
Див. також позицію 2A225.

0B001.g.3

3) cпеціально призначені або підготовлені системи для збору "продукту" і "хвостів" металевого урану в рідкому або твердому стані, виготовлені з матеріалів, стійких до теплового та корозійного впливу парів або рідини металевого урану, таких як покритий оксидом ітрію графіт або тантал, або захищені покриттям з таких матеріалів;

Технічна примітка.
Компоненти цих систем можуть включати труби, клапани, штуцери, "жолоби", пристрої для наскрізної подачі (живлення), теплообмінники і колекторні пластини для сепарації магнітними, електростатичними та іншими методами.

0B001.g.4

4) корпуси сепараторних модулів (циліндричні чи прямокутні сосуди), спеціально призначені або підготовлені для розміщення в них джерела парів металевого урану, електронно-променевої гармати та збірників "продукту" і "хвостів";

Технічна примітка.
Ці корпуси мають багато вхідних отворів для подачі електроживлення і води, вікна для лазерних пучків, з'єднання для вакуумних насосів, а також засоби для здійснення діагностики та контролю приладів. Корпуси мають пристосування для відкривання і закривання, що дає можливість проводити обслуговування внутрішніх компонентів.

0B001.g.5

5) "лазери" або "лазерні" системи, спеціально призначені або підготовлені для розділення ізотопів урану, що мають стабілізацію спектральної частоти для роботи протягом тривалих проміжків часу;

Технічна примітка.
Лазерна система звичайно містить як оптичні, так і електронні компоненти для керування лазерним променем (або променями), а також для транспортування його до камери розділення ізотопів. Лазерна система для методів, що використовують атомарні пари, звичайно складається з лазера на барвниках, що перенастроюється, накачка якого виконується лазером іншого типу (наприклад, лазером на парах міді або певними типами твердотілих лазерів).

Особлива примітка.
Див. також 6A005 та 6A205.

0B001.h

h) обладнання і компоненти, cпеціально призначені або підготовлені для процесів молекулярного лазерного розділення ізотопів, а саме:

Технічні примітки.
1. У другій категорії існуючих систем для процесів збагачення з використанням лазерів - молекулярного лазерного розділення ізотопів (наприклад, MLІS, MOLІS або CRІSLA), - робочим середовищем є пари уранової сполуки, іноді змішані з іншим газом або газами.
Системи, обладнання та компоненти для цієї категорії установок лазерного збагачення включають:
a) пристрої для подачі парів уранової сполуки (для вибіркової фотодисоціації або вибіркового збудження/активації);
b) пристрої для збирання сполук збагаченого та збідненого урану як "продукту" та "хвостів";
c) технологічні лазерні системи для вибіркового збудження зразків урану-235; та
d) обладнання для підготовки подачі та обладнання для конверсії "продукту". Через складність спектроскопії сполук урану може знадобитися використання будь-якої з ряду наявних технологій, пов'язаних з лазерами і лазерною оптикою.

2. Усі поверхні, які вступають у безпосередній контакт з UF6, повністю виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів" або захищені покриттям з таких матеріалів.

0B001.h.1

1) спеціально призначені або підготовлені надзвукові розширювальні сопла для охолодження сумішей UF6 та газу-носія до 150 К (-123° C) або нижче, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів";

0B001.h.2

2) компоненти або пристрої колекторів "продукту" або "хвостів", спеціально призначені або підготовлені для збирання речовини уранового "продукту" або уранових "хвостів" після опромінення лазерним світлом, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів";

Технічна примітка.
В одному з прикладів розділення ізотопів за молекулярним методом колектори продукту призначені для збирання речовини твердого пентафториду урану (UF5). Колектори продукту можуть складатися з фільтрів, колекторів ударного або циклонного типів або їх комбінацій і повинні бути корозійностійкими до середовища UF5/UF6.

0B001.h.3

3) спеціально призначені або підготовлені компресори для сумішей UF6 та газу-носія, призначені для тривалої експлуатації в середовищі UF6, чиї компоненти, що вступають в контакт з технологічним газом, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів", або захищені покриттям з таких матеріалів, а також ущільнення обертових валів для таких компресорів;

Технічна примітка.
Ущільнення обертових валів, що мають з'єднання для подачі і відведення ущільнювального газу, спеціально призначені або підготовлені для ущільнення вала, який з'єднує ротор компресора з привідним мотором, таким чином, щоб забезпечити надійну герметизацію від витікання технологічного газу назовні або натікання повітря чи ущільнюючого газу до внутрішньої камери компресора, заповненого сумішшю UF6 і газу-носія.

0B001.h.4

4) спеціально призначені або підготовлені системи для фторування UF5 (твердий стан) в UF6 (газ);

Технічна примітка.
Ці системи призначені для фторування зібраного порошку UF5 у UF6 з метою подальшого збирання у контейнерах продукту або подачі для додаткового збагачення. В рамках одного підходу реакція фторування може бути завершена в межах системи розділення ізотопів, де проходить реакція та безпосереднє вилучення з колекторів "продукту". В рамках іншого підходу порошок UF5 може бути вилученим/переміщеним з колекторів "продукту" до підходящого сосуду (наприклад, до реактора із псевдозрідженим шаром каталізатора, гелікоїдального реактора або до жарової башти) для фторування. В обох підходах використовують обладнання для зберігання та передачі фтору (або інших підходящих фторуючих реагентів) і обладнання для збирання та передачі UF6.

0B001.h.5

5) спеціально призначені або підготовлені технологічні системи для відокремлення UF6 від газу-носія (наприклад, азоту, аргону або іншого газу), до складу яких може входити таке обладнання:

0B001.h.5.a

a) кріогенні теплообмінники або кріосепаратори, здатні створювати температури 153 K (-120° C) або менше; або

0B001.h.5.b

b) блоки кріогенного охолодження, здатні створювати температури 153 K (-120° C) або менше; або

0B001.h.5.c

c) охолоджувані вловлювачі UF6, здатні виморожувати UF6;

0B001.h.6

6) "лазери" або "лазерні" системи, спеціально призначені або підготовлені для розділення ізотопів урану, що мають стабілізацію спектральної частоти для роботи протягом тривалих проміжків часу;

Технічна примітка.
Лазерна система звичайно містить як оптичні, так і електронні компоненти для керування лазерним променем (або променями), а також для транспортування його до камери розділення ізотопів. Лазерні системи для методів, що використовують молекулярні сполуки, може складатися з CO2-лазера або ексимерного лазера і багатопрохідної оптичної комірки.

Особлива примітка.
Див. також позиції 6A005 та 6A205.

0B001.i

i) обладнання і компоненти, спеціально призначені або підготовлені для процесу плазмового розділення, а саме:

Технічна примітка.
У процесі плазмового розділення плазма, що складається з іонів урану, проходить через електричне поле, настроєне на резонансну частоту іонів 235U, що призводить до переважного поглинання ними енергії і збільшення діаметру їх спіральних орбіт. Іони, чиї траєкторії мають великий діаметр, захоплюються і утворюють продукт, збагачений 235U. Плазма, утворена за допомогою іонізації уранової пари, утримується у вакуумній камері з магнітним полем високої напруженості, що утворюється за допомогою надпровідного магніту. Основні технологічні системи процесу включають систему генерації уранової плазми, сепараторний модуль з надпровідним магнітом (див. позицію 3A201.b) і системи витягання металу для збору "продукту" і "хвостів".

0B001.i.1

1) спеціально призначені або підготовлені мікрохвильові джерела енергії та антени для генерації або прискорення іонів, що мають усі такі характеристики: частота більше 30 ГГц і середня вихідна потужність для генерації іонів більше 50 кВт;

0B001.i.2

2) спеціально призначені або підготовлені соленоїди для радіочастотного збудження іонів у діапазоні частот більше 100 кГц і здатні працювати при середній потужності більше 40 кВт;

0B001.i.3

3) спеціально призначені або підготовлені системи створення уранової плазми;

0B001.i.4

4) не використовується;

0B001.i.5

5) спеціально призначені або підготовлені системи для збору "продукту" і "хвостів" металевого урану в твердому стані, виготовлені з матеріалів, стійких до теплового та корозійного впливу парів металевого урану, таких як графіт, покритий оксидом ітрію, або тантал, або захищені покриттям з таких матеріалів;

0B001.i.6

6) спеціально призначені або підготовлені корпуси сепараторних модулів (циліндричні сосуди) для розміщення в них джерела уранової плазми, соленоїду радіочастотного збудження та систем для збору "продукту" і "хвостів", виготовлені з підходящих немагнітних матеріалів (наприклад, нержавіючої сталі);

Технічна примітка.
Ці корпуси мають багато вхідних отворів для подачі електроживлення, підключення дифузійних насосів, а також здійснення діагностики та контролю приладів. Корпуси мають пристосування для відкривання і закривання, що дає можливість проводити обслуговування внутрішніх компонентів.

0B001.j

j) обладнання і компоненти, спеціально призначені або підготовлені для процесу електромагнітного розділення, а саме:

Технічна примітка.
В електромагнітному процесі іони металевого урану, отримані за допомогою іонізації солей у живильному матеріалі (як правило, UCl4), прискорюються та проходять через магнітне поле, що змушує іони різних ізотопів проходити різними траєкторіями. Основними компонентами електромагнітного сепаратора ізотопів є: магнітне поле для відхилення/розділення ізотопів іонного пучка, джерело іонів з його системою прискорення і системи збирання розділених іонів. Допоміжні системи для цього процесу включають систему електроживлення магніту, системи високовольтного електроживлення джерела іонів, вакуумну систему та великі системи хімічної обробки для відновлення продукту та очищення/регенерації компонентів.

0B001.j.1

1) спеціально призначені або підготовлені поодинокі чи численні джерела іонів урану, що складаються з джерела пари, іонізатора та прискорювача іонного пучка, виготовлені з підходящих немагнітних матеріалів (таких, як графіт, нержавіюча сталь або мідь) та здатні забезпечити повний струм іонного пучка 50 мА або більше;

0B001.j.2

2) спеціально призначені або підготовлені колекторні пластини, які мають дві або більше щілини і пази, для збирання іонних пучків збагаченого та збідненого урану і виготовлені з підходящих немагнітних матеріалів (таких, як графіт або нержавіюча сталь);

0B001.j.3

3) спеціально призначені або підготовлені вакуумні корпуси для уранових електромагнітних сепараторів, виготовлені з підходящих немагнітних матеріалів (таких, як нержавіюча сталь), і призначені для експлуатації при тиску 0,1 Па або менше;

Технічна примітка.
Корпуси спеціально призначені для розміщення джерел іонів, колекторних пластин та вкладок, що охолоджуються водою, мають пристосування для приєднання дифузійних насосів, а також для відкривання та закривання, що дає змогу виймати і замінювати ці компоненти.

0B001.j.4

4) спеціально призначені або підготовлені магнітні полюсні наконечники діаметром більше 2 м;

Технічна примітка.
Магнітні полюсні наконечники використовуються для підтримання постійного магнітного поля всередині електромагнітного сепаратора ізотопів і для передачі магнітного поля між сусідніми сепараторами.

0B001.j.5

5) спеціально призначені або підготовлені високовольтні джерела живлення для джерел іонів, що мають обидві такі характеристики:

0B001.j.5.a

a) можуть працювати в безперервному режимі з вихідною напругою 20000 В або більше і вихідним струмом 1 А або більше; та

0B001.j.5.b

b) стабілізація напруги вище ніж 0,01 % протягом 8 годин;

Особлива примітка.
Див. також позицію 3A227.

0B001.j.6

6) спеціально призначені або підготовлені високопотужні джерела живлення постійного струму для електромагнітів, що мають обидві такі характеристики:

0B001.j.6.a

a) можуть працювати в безперервному режимі, забезпечуючи вихідний струм 500 А або більше при напрузі 100 В або більше; та

0B001.j.6.b

b) стабілізація струму або напруги вище ніж 0,01 % протягом 8 годин.

Особлива примітка.
Див. також позицію 3A226.

0B002

Спеціально призначені або підготовлені допоміжні системи, обладнання та компоненти установок з розділення ізотопів, визначених у позиції 0B001, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів":

Технічні примітки.
1. Допоміжні системи, обладнання і компоненти газоцентрифугальної установки для збагачення є системами установки, необхідними для подачі UF6 у центрифуги, для зв'язку окремих центрифуг між собою з метою утворення каскадів (або ступенів), щоб досягти більш високого збагачення і відвести "продукт" і "хвости" UF6 із центрифуг, а також обладнання, необхідне для приведення в дію центрифуг або для керування установкою. Звичайно UF6 випаровується з твердої фази всередині автоклавів, що підігріваються, і подається в газоподібній формі до центрифуг через систему колекторних трубопроводів каскаду. "Продукт" і "хвости" UF6, що надходять з центрифуг у вигляді газоподібних потоків, також проходять через систему колекторних трубопроводів каскаду до охолоджуваних вловлювачів (що працюють за температури близько 203° К (
-70° C), де вони конденсуються і потім переміщуються у відповідні контейнери для транспортування або зберігання. Оскільки установка для збагачення складається з багатьох тисяч центрифуг, зібраних у каскади, створюються багатокілометрові колекторні трубопроводи каскадів з тисячами зварних швів, причому схема основної частини їх з'єднань багаторазово повторюється. Обладнання, компоненти та системи трубопроводів виготовляються з дотриманням високих вимог до вакуум-щільності та відсутності забруднень.

2. Допоміжні системи, обладнання та компоненти для газодифузійних установок для збагачення є системами установки, необхідними для подачі UF6 у газодифузійну збірку, для з'єднання окремих збірок між собою та утворення каскадів (або ступенів) з метою поступового досягнення більш високого збагачення та відведення "продукту" і "хвостів" UF6 з дифузійних каскадів. Через високоінерційні характеристики дифузійних каскадів будь-яке переривання їх роботи, особливо їх зупинка, приводять до серйозних наслідків. Отже, на газодифузійній установці важливе значення мають чітке і постійне підтримування вакууму у всіх технологічних системах, автоматичний захист від аварій і точне автоматичне регулювання потоку газу. Все це приводить до необхідності оснащення установки великою кількістю спеціальних вимірювальних, регулюючих і керуючих систем. Як правило, UF6 випаровується з циліндрів, поміщених всередині автоклавів, і подається в газоподібній формі до вхідних точок через систему колекторних трубопроводів каскаду. "Продукт" і "хвости" UF6, що надходять із вихідних точок у вигляді газоподібних потоків, проходять через систему колекторних трубопроводів каскаду або до охолоджуваних вловлювачів, або до компресорних станцій, де газоподібний потік UF6 скраплюється та потім поміщається у відповідні контейнери для транспортування або зберігання. Оскільки газодифузійна установка для збагачення має велику кількість газодифузійних збірок, зібраних у каскади, створюються багатокілометрові колекторні трубопроводи каскадів з тисячами зварних швів, причому схема основної частини їх з'єднань багаторазово повторюється. Обладнання, компоненти та системи трубопроводів виготовляються з дотриманням високих вимог до вакуум-щільності та відсутності забруднень.

0B002.a

a) живильні автоклави, печі або станції, що використовуються для подачі UF6 до процесу збагачення;

0B002.b

b) десубліматори, охолоджувані вловлювачі або насоси, що використовуються для виведення UF6 з процесу збагачення для подальшого переміщення після нагрівання;

0B002.c

c) станції "продукту" і "хвостів", що використовуються для відведення UF6 до контейнерів;

0B002.d

d) станції стверднення або зрідження, що використовуються для виведення UF6 з процесу збагачення шляхом стискання, охолодження і переведення UF6 у рідкий чи твердий стан;

0B002.e

e) системи трубопроводів і колекторів, спеціально призначені або підготовлені для передачі UF6 всередині газодифузійних, центрифугальних або аеродинамічних каскадів;

Технічна примітка.
Ця мережа трубопроводів, як правило, є системою з "потрійним" або "подвійним" колектором. Вона повністю виготовлена з
"корозійностійких до UF6 матеріалів" або захищена покриттям з таких матеріалів з дотриманням високих вимог до вакуум-щільності та відсутності забруднень.

0B002.f

f) вакуумні системи та насоси, а саме:

0B002.f.1

1) спеціально призначені або підготовлені вакуумні магістралі, вакуумні колектори та вакуумні насоси, що мають продуктивність на вході 5 м3/хв або більше;

0B002.f.2

2) вакуумні насоси, спеціально призначені або підготовлені для роботи в газовому середовищі, що містить UF6, виготовлені з "корозійностійких до UF6 матеріалів", або захищені покриттям з таких метеріалів; або

Технічна примітка.
Ці насоси можуть бути як ротаційними, так і поршневими, можуть мати витискуючі та фторвуглецеві ущільнення, а також спеціальні робочі рідини.

0B002.f.3

3) спеціально призначені або підготовлені вакуумсистеми, що складаються з вакуумних магістралей, вакуумних колекторів та вакуумних насосів, призначених для роботи в газових середовищах, що містять UF6;

0B002.g

g) спеціально призначені або підготовлені мас-спектрометри та джерела іонів UF6 для них, здатні в оперативному режимі здійснювати відбір проб маси з газових потоків UF6 і мають усі такі характеристики:

0B002.g.1

1) здатні вимірювати маси іонів, що дорівнюють 320 атомних одиниць маси або більше, та мають роздільну здатність кращу ніж 1 частина від 320;

0B002.g.2

2) джерела іонів, виготовлені з нікелю, нікель-мідних сплавів, що містять 60 % нікелю за вагою або більше, або нікель-хромових сплавів, або захищені покриттям з таких матеріалів;

0B002.g.3

3) містять іонізаційні джерела з бомбардуванням електронами; та

0B002.g.4

4) містять колекторну систему, придатну для ізотопного аналізу.

0B003

Установки для конверсії урану та обладнання, спеціально призначене або підготовлене для цього, а саме:

Технічна примітка.
В установках і системах для конверсії урану можуть здійснюватися одне або декілька перетворень урану від одного хімічного різновиду до іншого, зокрема концентратів уранової руди - в UO3, UO3 - в UO2, окислів урану - в UF4, UF6 або UCl4, UF4 - в UF6, UF6 - в UF4, UF4 - у металевий уран та фторидів урану - в UO2. Багато ключових компонентів обладнання установок для конверсії урану є типовими для деяких секторів хімічної промисловості. Наприклад, види обладнання, що використовуються в цих процесах, можуть включати: печі, карусельні печі, реактори із псевдозрідженим шаром каталізатора, жарові реакторні башти, рідинні центрифуги, дистиляційні колони і рідинно-рідинні екстракційні колони. Однак не багато компонентів обладанння є доступним в "готовому виді"; більшість із них повинні бути підготовлені відповідно до вимог і специфікацій замовника. У деяких випадках необхідно враховувати спеціальні проектні та конструкторські особливості для захисту від агресивних властивостей деяких з хімічних речовин (HF, F2, ClF3 і фториди урану), що обробляються, а також особливості, пов'язані з ядерною критичністю. Нарешті слід зауважити, що в усіх процесах конверсії урану компоненти обладнання, які спеціально не призначені або не підготовлені для конверсії урану, можуть бути об'єднані в системи, які спеціально призначені або підготовлені для використання з метою конверсії урану.

0B003.a

a) системи, спеціально призначені або підготовлені для конверсії концентрату уранової руди в UO3;

Технічна примітка.
Конверсія концентрату уранової руди в UO3 може здійснюватися спочатку шляхом розчинення руди в азотній кислоті з вилученням очищеного гексагідрату уранілдинітрату за допомогою такого розчинника, як трибутил фосфат, після чого гексагідрат уранілдинітрату конвертується в UO3 або методом концентрування та денітрування, або методом нейтралізації газоподібним аміаком з метою одержання діуранату амонію з подальшою фільтрацією, сушінням і кальцинуванням.

0B003.b

b) системи, спеціально призначені або підготовлені для конверсії UO3 в UF6;

Технічна примітка.
Конверсія UO3 в UF6 може здійснюватися безпосередньо шляхом фторування. Для цього процесу необхідне джерело газоподібного фтору (F2) або трифтористого хлору (ClF2).

0B003.c

c) системи, спеціально призначені або підготовлені для конверсії UO3 в UO2;

Технічна примітка.
Конверсія UO3 в UO2 може здійснюватися шляхом відновлення UO3 газоподібним крекінг-аміаком (NH3) або воднем.

0B003.d

d) системи, спеціально призначені або підготовлені для конверсії UO2 в UF4;

Технічна примітка.
Конверсія UO2 в UF4 може здійснюватися шляхом реакції UO2 з газоподібним фтористим воднем (HF) за температури 300 - 500° C.

0B003.e

e) системи, спеціально призначені або підготовлені для конверсії UF4 в UF6;

Технічна примітка.
Конверсія UF4 в UF6 здійснюється шляхом екзотермічної реакції з фтором у реакторній колоні. UF6 конденсується з гарячих летючих газів шляхом пропускання їх потоку через уловлювач, який охолоджується до 263 K (
-10° C). Для цього процесу необхідне джерело газоподібного фтору (F2).

0B003.f

f) системи, cпеціально призначені або підготовлені для конверсії UF4 у металевий уран;

Технічна примітка.
Конверсія UF4 у металевий уран здійснюється за допомогою його відновлення магнієм (великих порцій) або кальцієм (маленьких порцій). Реакція здійснюється при температурах вище точки плавлення урану (1130° C).

0B003.g

g) системи, спеціально призначені або підготовлені для конверсії UF6 в UO2;

Технічна примітка.
Конверсія UF6 в UO2 може здійснюватися за допомогою одного з трьох процесів. У першому - UF6 відновлюється і гідролізується в UO2 з використанням водню і водяної пари. У другому - UF6 гідролізується шляхом розчинення у воді, для осаджування діуранату амонію додається аміак, а діуранат амонію відновлюється в UO2 воднем за температури 820° C. У третьому - газоподібні UF6, CO2 і NH3 змішуються у воді, при цьому в осад випадає уранілкарбонат амонію. Уранілкарбонат амонію змішується з водяною парою і воднем за температури 500 - 600° C для виробництва UO2.
Конверсія UF6 в UО2 часто здійснюється в першому ступені установки для виготовлення палива.

0B003.h

h) системи, спеціально призначені або підготовлені для конверсії UF6 в UF4;

Технічна примітка.
Конверсія UF6 в UF4 здійснюється шляхом відновлення воднем.

0B003.i

i) системи, спеціально призначені або підготовлені для конверсії UO2 в UCl4.

Технічна примітка.
Конверсія UO2 в UCl4 може здійснюватися за допомогою одного з двох процесів. У першому - UO2 реагує з тетрахлоридом вуглецю (CCl4) за температури приблизно 400° C. У другому - UO2 реагує за температури приблизно 700° C у присутності вуглецевої сажі (CAS 1333-86-4), монооксиду вуглецю і хлору для виробництва UCl4.

0B004

Установки для виробництва або концентрування важкої води, дейтерію і дейтерієвих сполук та спеціально призначене або підготовлене для цього обладнання і компоненти, а саме:

0B004.a

a) установки для виробництва важкої води, дейтерію або дейтерієвих сполук, а саме:

Технічна примітка.
Важку воду можна виробляти, використовуючи різні процеси. Однак комерційно вигідними є два процеси: процес ізотопного обміну води і сірководню (процес GS) і процес ізотопного обміну аміаку та водню.
Процес GS грунтується на обміні водню і дейтерію між водою та сірководнем у системі колон, які експлуатуються з холодною верхньою секцією та гарячою нижньою секцією. Вода тече вниз по колонах, у той час як сірководневий газ циркулює від дна до вершини колон. Для сприяння змішуванню газу і води використовується ряд дірчастих тарілок. Дейтерій переміщується у воду при низьких температурах і в сірководень при високих температурах. Збагачені дейтерієм газ або вода віддаляються з колон першого ступеня на стику гарячих і холодних секцій, і процес повторюється в колонах наступного ступеня. Продукт останньої фази - вода, збагачена дейтерієм до 30 %, направляється в дистиляційну установку для виробництва реакторно-чистої важкої води, тобто 99,75 % оксиду дейтерію.
У процесі обміну між аміаком і воднем можна здобувати дейтерій із синтез-газу за допомогою контакту з рідким аміаком у присутності каталізатора. Синтез-газ подається в обмінні колони і потім в аміачний конвертер. Усередині колон газ піднімається від дна до вершини, у той час як рідкий аміак тече від вершини до дна. Дейтерій у синтез-газі відривається від водню та концентрується в аміаку. Аміак надходить потім в установку для крекінгу аміаку на дні колони, тоді як газ збирається в аміачному конвертері на вершині. На наступних ступенях відбувається подальше збагачення і шляхом остаточної дистиляції виробляється реакторно-чиста важка вода. Подача синтез-газу може бути забезпечена аміачною установкою, що у свою чергу може бути споруджена разом з установкою для виробництва важкої води шляхом ізотопного обміну аміаку і водню. У процесі аміачно-водневого обміну як джерело вихідного дейтерію може також використовуватися звичайна вода.
Багато одиниць ключового обладнання для установок з виробництва важкої води, що використовують процеси GS або аміачно-водневого обміну, широко поширені в деяких галузях нафтохімічної промисловості. Особливо це стосується невеликих установок, що використовують процес GS. Однак дуже мало одиниць обладнання доступні "в готовому виді". Процеси GS і аміачно-водневого обміну потребують поводження з великою кількістю займистих, корозійних і токсичних рідин при підвищеному тиску. Відповідно під час розробки стандартів з проектування та експлуатації для установок і обладнання, що використовують ці процеси, варто приділяти велику увагу підбору матеріалів та їх характеристик для того, щоб забезпечити тривалий строк служби при збереженні високої безпеки і надійності. Визначення масштабів зумовлюється, головним чином, міркуваннями економіки та необхідності. Таким чином, більша частина одиниць обладнання виготовляється відповідно до вимог замовника.
Нарешті слід зазначити, що як у процесі GS, так і в процесі аміачно-водневого обміну одиниці обладнання, які окремо не призначені або підготовлені спеціально для виробництва важкої води, можуть збиратися в системи, спеціально призначені або підготовлені для виробництва важкої води. Прикладами таких систем, що застосовуються в обох процесах, є система каталітичного крекінгу, яка використовується в процесі обміну аміаку та водню, і дистиляційні системи, які використовуються в процесі остаточного концентрування важкої води, що доводить її до рівня реакторної якості.

0B004.a.1

1) установки для виробництва або концентрування важкої води шляхом використання процесу ізотопного обміну води та сірководню;

0B004.a.2

2) установки для виробництва або концентрування важкої води шляхом використання процесу аміачно-водневого обміну;

0B004.b

b) спеціально призначене або підготовлене обладнання та компоненти, а саме:

Примітки.

1. Товари, визначені у позиціях 0B004.b.1 та 0B004.b.2, є спеціально призначеними або підготовленими для виробництва важкої води шляхом використання процесу ізотопного обміну води та сірководню.

2. Товари, визначені у позиціях 0B004.b.3 - 0B004.b.9, є спеціально призначеними або підготовленими для виробництва важкої води шляхом використання процесу аміачно-водневого обміну.

0B004.b.1

1) водо-сірководневі обмінні колони діаметром від 1,5 м або більше, які можуть експлуатуватися під тиском 2 МПа або більше;

0B004.b.2

2) одноступеневі, малонапірні (тобто, мають тиск 0,2 МПа) відцентрові газодувки або компресори для циркуляції сірководневого газу (тобто газу, що містить сірководень, Н2S, понад 70 % за вагою), що мають продуктивність 56 м3/с або більше під час експлуатації під тиском на вході 1,8 МПа або більше, і мають ущільнення, стійкі до впливу H2S;

0B004.b.3

3) аміачно-водневі обмінні колони заввишки 35 м і більше, діаметром від 1,5 м до 2,5 м, які можуть експлуатуватися під тиском, що перевищує 15 МПа;

Технічна примітка.
Колони, визначені у позиції 0B004.b.3, мають також щонайменше один відбортований осьовий отвір такого ж діаметра, як і циліндрична частина, через яку можуть вставлятися або вийматися внутрішні деталі колони.

0B004.b.4

4) внутрішні деталі колони, включаючи спеціально призначені контактори між ступенями, які сприяють тісному контакту газу та рідини, та ступінчасті насоси, включаючи спеціально призначені заглибні насоси для циркуляції рідкого аміаку (NH3) в межах об'єму контакторів, що розташовані всередині ступенів колон;

0B004.b.5

5) установки для крекінгу аміаку, що експлуатуються під тиском 3 МПа або більше;

0B004.b.6

6) інфрачервоні аналізатори поглинання, здатні здійснювати оперативний аналіз відношення концентрації водню до концентрації дейтерію, коли концентрація дейтерію дорівнює 90 % за вагою або більше;

0B004.b.7

7) каталітичні печі для перетворення збагаченого дейтерієвого газу у важку воду;

0B004.b.8

8) комплектні системи для відновлення важкої води до концентрації дейтерію реакторної якості або колони для цього;

Технічна примітка.
Ці системи, у яких для відокремлення важкої води від легкої, як правило, застосовується процес водної дистиляції, спеціально призначені або підготовлені для виробництва важкої води реакторної якості (як правило, 99,75 % за вагою оксиду дейтерію) із запасів важкої води меншої концентрації.

0B004.b.9

9) аміачні синтезуючі конвертори або аміачні синтезуючі секції.

Технічна примітка.
До цих конвертерів або секцій синтез-газ (азот та водень) надходить з аміачно-водневої обмінної колони (або колон) високого тиску, а синтезований аміак повертається до обмінної колони (або колон).

0B005

Установки, спеціально призначені для виготовлення паливних елементів "ядерних реакторів", і спеціально призначене або підготовлене для цього обладнання.

Технічні примітки.

1. Паливні елементи ядерних реакторів виготовляються з одного або більше вихідних або спеціальних матеріалів, що розщеплюються, визначених у позиціях 0C001 та 0C002. Для виготовлення оксидного палива, найпоширенішого типу палива, є обладнання для пресування таблеток, спікання, шліфування і сортування. Операції із змішаним оксидним паливом проводяться в рукавичних боксах (або еквівалентних камерах) до моменту їх герметизації в оболонку. В усіх випадках паливо герметизується всередині відповідної оболонки, що призначена виконувати роль первинного бар'єра, для того щоб під час експлуатації реактора забезпечувалися прийнятні робочі характеристики та безпека палива. Також у всіх випадках з метою забезпечення передбачуваного і безпечного функціонування палива необхідний точний, до винятково високих стандартів, контроль технологічних процесів, операцій і обладнання.

2. Спеціально призначене або підготовлене обладнання для виготовлення паливних елементів "ядерних реактороів" включає обладнання, яке:

1) звичайно перебуває у безпосередньому контакті з технологічним потоком ядерного матеріалу або безпосередньо обробляє його чи керує ним;

2) герметизує ядерний матеріал усередині оболонки;

3) проводить перевірку герметичності оболонки або цілісності зварювального шва;

4) здійснює перевірку остаточної обробки герметизованого палива; або

5) використовується для складання паливних елементів ядерного реактора.

Таке обладнання або системи обладнання можуть включати, наприклад:

1) повністю автоматизовані пости контролю паливних таблеток, спеціально призначені або підготовлені для перевірки остаточних розмірів та поверхневих дефектів паливних таблеток;

2) автоматичні зварювальні апарати, спеціально призначені або підготовлені для приварювання кінцевих заглушок до паливних елементів;

3) пости автоматичного випробування та контролю, спеціально призначені або підготовлені для перевірки герметичності готових паливних елементів;

4) системи, спеціально призначені або підготовлені для виробництва оболонок ядерного палива.

Підпункт 3, як правило, включає обладнання для:

a) рентгенівського контролю зварювальних швів кінцевих заглушок паливних елементів;

b) виявлення витоків гелію з паливних елементів, заповнених під тиском;

c) гамма-сканування паливних елементів для перевірки правильності завантаження паливних таблеток усередину.

0B006

Установки для переробки опромінених паливних елементів "ядерних реактороів" та спеціально призначене або підготовлене обладнання і компоненти для цього, а саме:

Технічна примітка.
Під час переробки опроміненого ядерного палива плутоній і уран відділяються від високоактивних продуктів поділу та інших трансуранових елементів. Для такого розділення можуть використовуватися різні технологічні процеси. Однак, згодом процес "Пурекс" став найбільш розповсюдженим і прийнятним. Цей процес включає розчинення опроміненого ядерного палива в азотній кислоті з подальшим виділенням урану, плутонію і продуктів поділу екстракцією розчинником за допомогою трибутилфосфату в органічному розчиннику.
Технологічні процеси на різних установках типу "Пурекс" аналогічні і включають: подрібнення опромінених паливних елементів, розчинення палива, екстракцію розчинником і зберігання технологічної рідини. Також може бути обладнання для теплової денітрації нітрату урану, конверсії нітрату плутонію в оксид або метал, а також для обробки рідких відходів, що містять продукти поділу, до одержання форми, придатної для тривалого зберігання або захоронення. Однак конкретні типи і конфігурація обладнання, що виконує ці функції, можуть бути різними на різних установках типу "Пурекс" з декількох причин, серед яких тип і кількість опроміненого ядерного палива, що підлягає переробці, та намічене розміщення одержаних матеріалів, а також принципи забезпечення безпеки і технічного обслуговування, закладені в конструкцію установки.
Ці процеси, що включають комплектні системи для конверсії плутонію та виробництва металічного плутонію, можуть бути ідентифіковані за заходами, що вживаються для запобігання небезпеці, пов'язаній з критичністю (наприклад, заходи, пов'язані з геометрією), опроміненням (наприклад, шляхом захисту від опромінення екрануванням) і токсичністю (наприклад, заходи з утримання в оболонці).

0B006.a

a) установки для переробки опромінених паливних елементів "ядерних реакторів", що включають обладнання і компоненти, які, як правило, перебувають у безпосередньому контакті з опроміненим паливом та основними технологічними потоками ядерного матеріалу і продуктів поділу та безпосередньо керують ними;

0B006.b

b) машини для подрібнення опромінених паливних елементів, тобто дистанційно кероване обладнання для різання, рубання чи нарізки збірок, пучків або стержнів опроміненого палива "ядерних реакторів";

Технічна примітка.
Це обладнання використовується для розкривання оболонки ядерного палива з метою подальшого розчинення опроміненого ядерного матеріалу. Як правило, використовуються спеціально призначені ножиці для різання металу, хоча може використовуватись і більш досконале обладнання, таке як лазери.

0B006.c

c) дисольвери, тобто безпечні з точки зору критичності резервуари (наприклад, малого діаметра резервуари кільцевої або прямокутної форми), спеціально призначені або підготовлені для використання в установках з переробки, визначених у позиції 0B006.a, для розчинення опроміненого палива "ядерних реакторів", що здатні витримувати гарячі, висококорозійні рідини і які можуть дистанційно завантажуватися та технічно обслуговуватися;

Технічна примітка.
В дисольвери, як правило, надходить подрібнене відпрацьоване паливо. У цих безпечних з точки зору критичності резервуарах опромінений ядерний матеріал розчиняється в азотній кислоті, і обрізки оболонок, що залишаються, виводяться з технологічного потоку.

0B006.d

d) екстрактори з розчинником, такі як насадкові або пульсаційні колони, змішувально-відстійні апарати чи відцентрові контактні апарати, стійкі до корозійного впливу азотної кислоти, та спеціально призначені або підготовлені для використання в установках з переробки опроміненого "природного урану", "збідненого урану" або "спеціальних матеріалів, що розщеплюються";

Примітка.
Екстрактори з розчинником звичайно виготовляються із дотриманням надзвичайно високих вимог (включаючи застосування спеціальних методів зварювання, інспектування, забезпечення і контролю якості) з маловуглецевих нержавіючих сталей, титану, цирконію або інших високоякісних матеріалів.

Технічна примітка.
До екстракторів з розчинником надходить як розчин опроміненого палива з дисольверів, так і органічний розчин, за допомогою якого розділяються уран, плутоній і продукти поділу. Обладнання для екстракції розчинником, як правило, конструюють так, щоб воно відповідало жорстким експлуатаційним вимогам, таким як тривалий строк служби без технічного обслуговування або легка замінність, простота в експлуатації та керуванні, а також гнучкість щодо зміни параметрів процесу.

0B006.e

e) хімічні резервуари для витримування або зберігання, стійкі до корозійного впливу азотної кислоти, та спеціально призначені або підготовлені для використання на установках з переробки опроміненого палива "ядерних реакторів";

Примітка.
Резервуари для витримування або зберігання звичайно виготовляються з маловуглецевих нержавіючих сталей, титану, цирконію або інших високоякісних матеріалів.

Технічні примітки.

1. Резервуари для витримування або зберігання можуть бути сконструйовані так, щоб їх експлуатація і технічне обслуговування проводилися дистанційно, і можуть мати такі особливості з точки зору контролю за ядерною критичністю:

1) борний еквівалент стінок або внутрішніх конструкцій (розрахований для всіх складових елементів згідно з приміткою до позиції 0C004) не менше 2 %;

2) максимальний діаметр циліндричних резервуарів 175 мм; або

3) максимальна ширина прямокутних чи кільцевих резервуарів 75 мм.

2. На етапі екстракції розчинником утворюються три основні технологічні потоки рідини. Резервуари для витримування або зберігання використовуються в подальшій обробці всіх трьох потоків у такий спосіб:

a) розчин чистого азотнокислого урану концентрується випарюванням і відбувається процес денітрації, де він перетворюється в оксид урану. Цей оксид повторно використовується в ядерному паливному циклі;

b) розчин високоактивних продуктів поділу звичайно концентрується випарюванням і зберігається у вигляді концентрованої рідини. Цей концентрат може згодом пройти випарювання та бути перетворений у форму, придатну для зберігання або захоронення;

c) розчин чистого нітрату плутонію концентрується і зберігається до надходження на подальші етапи технологічного процесу. Зокрема, резервуари для витримування або зберігання розчинів плутонію конструюються таким чином, щоб уникнути пов'язаних із критичністю проблем, що виникають у результаті змін у концентрації або формі даного потоку.

0B006.f

f) системи вимірювання нейтронних потоків, спеціально призначені або підготовлені для інтеграції і використання у складі автоматизованих систем контролю за технологічним процесом на установці з переробки опромінених паливних елементів "ядерних реакторів" (що містять "природний уран", "збіднений уран" або "спеціальні матеріали, що розщеплюються").

Технічна примітка.
Ці системи мають можливість активного чи пасивного вимірювання і аналізу нейтронних потоків для визначення кількості і складу матеріалу, що ділиться. Комплектна система складається з нейтронного генератора, детектора нейтронів, підсилювачів та електронного обладнання для обробки сигналів.
Дія цієї позиції не поширюється на прилади для детектування нейтронів та вимірювання нейтронних потоків, що призначені для обліку і забезпечення безпеки ядерного матеріалу або будь-якого іншого застосування, не пов'язаного з інтеграцією і використанням у складі автоматизованих систем контролю за технологічним процесом на установці з переробки опромінених паливних елементів.

0B007

Установки для конверсії плутонію та спеціально призначене або підготовлене для цього обладнання, а саме:

Технічна примітка.
В установках і системах для конверсії плутонію здійснюються одне або декілька перетворень плутонію від одного хімічного різновиду до іншого: нітрату плутонію - в PuO2, PuO2 - в PuF4, PuF4 - у металевий плутоній. Установки для конверсії плутонію, як правило, об'єднують з переробними установками, але вони можуть також об'єднуватись з установками для виготовлення плутонієвого палива. Багато ключових компонентів обладнання установок для конверсії плутонію є типовими для деяких секторів хімічної промисловості. Наприклад, види обладнання, що використовуються в цих процесах, можуть включати: печі, карусельні печі, реактори із псевдозрідженим шаром каталізатора, жарові реакторні башти, рідинні центрифуги, дистиляційні колони і рідинно-рідинні екстракційні колони. Можуть знадобитися також "гарячі камери", рукавичні бокси та дистанційні маніпулятори. Однак, не багато компонентів обладнання є доступним в "готовому виді"; більшість із них повинні бути підготовлені відповідно до вимог і специфікацій замовника. Під час проектування необхідно приділяти пильну увагу особливим небезпекам радіаційного впливу, токсичності та критичності, що пов'язані з плутонієм. У деяких випадках слід враховувати спеціальні проектні та конструкторські особливості для захисту від агресивних властивостей деяких з хімічних речовин (наприклад, HF), що обробляються. Нарешті, слід зауважити, що для всіх процесів конверсії плутонію компоненти обладнання, які спеціально не призначені або не підготовлені для конверсії плутонію, можуть бути об'єднані в системи, які спеціально призначені або підготовлені для використання з метою конверсії плутонію.

0B007.a

a) системи, спеціально призначені або підготовлені для конверсії нітрату плутонію в оксид плутонію;

Технічна примітка.
До основних операцій цього процесу входять: зберігання вихідного технологічного матеріалу та регулювання його подачі, осадження та сепарація твердої та рідкої фаз, кальціювання, поводження з продуктом, вентиляція, поводження з відходами та керування процесом. Технологічні системи спеціально пристосовані таким чином, щоб уникати досягнення критичності та радіаційних ефектів, а також звести до мінімуму ризик отруєння. У більшості установок для переробки цей процес включає конверсію нітрату плутонію в діоксид плутонію. В інших процесах може використовуватися осадження оксалату плутонію або пероксиду плутонію.

0B007.b

b) системи, спеціально призначені або підготовлені для виробництва металевого плутонію.

Технічна примітка.
Цей процес, як правило, включає фторування діоксиду плутонію з використанням висококорозійного фтористого водню для виробництва фториду плутонію, який далі відновлюється за допомогою металевого кальцію високої чистоти для виробництва металевого плутонію та фториду кальцію у вигляді шлаку. До основних операцій цього процесу належать: фторування (наприклад, з використанням обладнання, виготовленого з благородних металів, або захищених покриттям з них), відновлення металу (наприклад, з використанням керамічних тиглів), регенерація шлаку, поводження з продуктом, вентиляція, поводження з відходами та керування процесом. Технологічні системи спеціально пристосовані таким чином, щоб уникати досягнення критичності та радіаційних ефектів, а також звести до мінімуму ризик отруєння. Інші процеси включають фторування оксалату плутонію або пероксиду плутонію з подальшим відновленням до металу.

0C

Матеріали.

0C001

Вихідні матеріали, тобто "природний уран", "збіднений уран" або торій у формі металу, сплаву, хімічної сполуки або концентрату, та будь-який інший матеріал, що містить одну або декілька із зазначених речовин.

Примітки.
1. Згідно з позицією 0C001 контролю не підлягають експортні поставки 500 кг або менше
"природного урану", або 1000 кг або менше "збідненого урану", або 1000 кг або менше торію до однієї певної країни-одержувача протягом одного календарного року (з 1 січня по 31 грудня).

2. Згідно з позицією 0C001 контролю не підлягає вихідний матеріал, щодо якого країна-одержувач надала переконливі гарантії кінцевого використання виключно у неядерній діяльності, наприклад у виробництві сплавів або кераміки.

Особлива примітка.
Щодо контролю за плутонієм з ізотопною концентрацією плутонію-238 (238Pu) понад 50 % див. позицію 1C012.

3. Контроль щодо товарів, наведених у позиції 0C001, поширюється на імпорт, транзит і тимчасове ввезення, які здійснюються за дозволом (висновком) Держекспортконтролю.

0C002

"Спеціальні матеріали, що розщеплюються".

Примітки.
1. Згідно з позицією 0C002 контролю не підлягають експортні поставки 50
"ефективних грамів" або менше "спеціальних матеріалів, що розщеплюються" до однієї певної країни-одержувача протягом одного календарного року (з 1 січня по 31 грудня).

2. Згідно з позицією 0C002 контролю не підлягають "спеціальні матеріали, що розщеплюються" у разі їх використання в грамових кількостях або менше як чутливого компоненту в приладах.

3. Контроль щодо товарів, наведених у позиції 0C002, поширюється на імпорт, транзит і тимчасове ввезення, які здійснюються за дозволом (висновком) Держекспортконтролю.

0C003

Дейтерій, важка вода (оксид дейтерію) та будь-яка інша сполука дейтерію, в якій відношення кількості атомів дейтерію до кількості атомів водню перевищує 1:5000, призначені для використання в "ядерних реакторах", у кількостях, що перевищують 200 кг атомів дейтерію для будь-якої однієї країни-одержувача протягом одного календарного року (з 1 січня по 31 грудня).

0C004

Графіт, що має ступінь чистоти вище 5 мільйонних долей "борного еквіваленту", густину більше ніж 1,50 г/см3, призначений для використання в "ядерних реакторах", у кількості, що перевищує 1 кг.

Особлива примітка.
Див. також позицію 1C107.

Примітки.
1. Для цілей експортного контролю компетентні державні органи повинні визначати, чи будуть експортні партії графіту, що за своїми характеристиками відповідає наведеному вище опису, використовуватися в
"ядерному реакторі".

2. У позиції 0C004 значення "борного еквіваленту" (БЕ) в мільйонних долях може бути визначено експериментально або розраховано як сума значень борних еквівалентів домішок БЕZ (виключаючи БЕ вуглецю, оскільки вуглець не розглядається як домішка), включаючи бор, при цьому:

БЕZ (у мільйонних долях) = КК х С (концентрація елемента Z у мільйонних долях),

де КК - коефіцієнт конверсії: (sz х AB) / (sB х AZ),

а sB і sZ - значення перерізів захвату теплових нейтронів (в барнах) природного бора і елемента Z відповідно;
AB і AZ - значення атомних мас природного бора та елемента Z відповідно.

0C005

Спеціально підготовлені сполуки або порошки для виготовлення газодифузійних бар'єрів, корозійностійких до UF6 (наприклад, нікель або сплави, що містять 60 % нікелю за вагою або більше, оксид алюмінію або стійкі до UF6 повністю фторовані вуглеводневі полімери), з чистотою 99,9 % за вагою або більше, з розміром частинок менше ніж 10 мкм, виміряним згідно із стандартом B330 Американського товариства з тестування матеріалів (ASTM), та з високою ступінню однорідності частинок за розміром.

0D

Програмне забезпечення.

0D001

"Програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для "розроблення", "виробництва" або "використання" товарів, визначених у розділі 0.

0E

Технологія.

0E001

"Технологія" відповідно до примітки з ядерних технологій для "розроблення", "виробництва" або "використання" товарів, визначених у розділі 0.

Розділ 1. Спеціальні матеріали та пов'язане з ними обладнання

Номер позиції

Найменування та опис товарів

1A

Системи, обладнання і компоненти.

1A001

Компоненти, виготовлені з фторованих сполук, а саме:

1A001.a

a) ущільнення, прокладки, ущільнювальні матеріали або діафрагми паливних баків, спеціально призначені для використання в "літальних апаратах" або аерокосмічній техніці, виготовлені більше ніж на 50 % за вагою з будь-якого матеріалу, визначеного в позиції 1C009.b або 1C009.c;

1A001.b

b) не використовується;

1A001.c

c) не використовується.

1A002

Структури або ламінати з "композиційних матеріалів", що мають будь-яку з таких характеристик:

Особлива примітка.
Див. також позиції 1A202, 9A010 та 9A110.

1A002.a

a) складаються з органічної "матриці" та матеріалів, визначених у позиції 1C010.c, 1C010.d або 1C010.e; або

1A002.b

b) складаються з металевої або вуглецевої "матриці" та будь-якого з таких матеріалів:

1A002.b.1

1) вуглецеві "волокнисті та ниткоподібні матеріали", що мають всі такі характеристики:

1A002.b.1.a

a) "питомий модуль пружності" понад 10,15 х 106 м; та

1A002.b.1.b

b) "питому міцність при розтягуванні" понад 17,7 х 104 м; або

1A002.b.2

2) матеріали, визначені у позиції 1C010.c.

Примітки.

1. Згідно з позицією 1A002 контролю не підлягають "композиційні" структури або ламінати, виготовлені з "волокнистих або ниткоподібних матеріалів", просочених епоксидною смолою, для ремонту структур або ламінатів "цивільних повітряних суден", що мають всі такі характеристики:

a) площа не перевищує 1 м2;

b) довжина не перевищує 2,5 м; та

c) ширина перевищує 15 мм.

2. Згідно з позицією 1A002 контролю не підлягають напівфабрикати, спеціально призначені для таких суто цивільних застосувань:

a) спортивні товари;

b) автомобільна промисловість;

c) верстатобудівна промисловість;

d) медичні застосування.

3. Згідно з позицією 1A002.b.1 контролю не підлягають напівфабрикати, що містять максимум два виміри переплетених ниток та спеціально призначені для таких застосувань:

a) металеві термічні печі для загартування металів;

b) обладнання для виробництва кремнієвих зливків.

4. Згідно з позицією 1A002 контролю не підлягають завершені товари, спеціально призначені для певного застосування.

1A003

Вироби з ароматичних поліімідів, що не належать до "плавких", у формі плівки, листа, стрічки або смужки, які мають будь-яку з таких характеристик:

1A003.a

a) товщину понад 0,254 мм; або

1A003.b

b) покриті або ламіновані вуглецем, графітом, металами або магнітними речовинами.

Примітка.
Згідно з позицією 1A003 контролю не підлягають вироби, покриті або ламіновані міддю і призначені для виробництва електронних друкованих плат.

Особлива примітка.
Щодо
"плавких" ароматичних поліімідів в будь-якій формі див. позицію 1C008.a.3.

1A004

Обладнання для захисту і виявлення та їх частини, спеціально не призначені для військового використання, а саме:

Особлива примітка.
Див. також відповідні позиції Списку товарів військового призначення та позиції 2B351 і 2B352 цього списку.

1A004.a

a) повнолицеві маски, фільтрувально-поглинальні коробки та обладнання для їх знезараження, призначені або модифіковані для захисту від будь-якого з наведених нижче вражаючих факторів, а також спеціально призначені для них компоненти:

Примітка.
Позиція 1A004.a включає електропривідні повітроочисні респіратори (PAPR), призначені або модифіковані для захисту від агентів або матеріалів, наведених у позиції 1A004.a.

Технічна примітка.
Для цілей позиції 1A004.a:

1) повнолицеві маски також відомі як протигази;

2) фільтрувально-поглинальні коробки включають фільтрувальні картриджі.

1A004.a.1

1) "біологічні агенти";

1A004.a.2

2) "радіоактивні матеріали";

1A004.a.3

3) токсичні хімікати, що використовуються у хімічній зброї; або

1A004.a.4

4) "хімічні засоби для боротьби з масовими заворушеннями", що включають:

1A004.a.4.a

a) a-бромбензолацетонітрил, (бромобензилціанід), (СА) (CAS 5798-79-8);

1A004.a.4.b

b) [(2-хлорофеніл) метилен] пропанедінітрил, (o-хлоробензиліденемалононітрил), (CS) (CAS 2698-41-1);

1A004.a.4.c

c) 2-хлор-1-фенілетанон, фенілацил хлорид (w-хлороацетофенон), (CN) (CAS 532-27-4);

1A004.a.4.d

d) дібенз-(b, f)-1,4-оксацефін, (CR) (CAS 257-07-8);

1A004.a.4.e

e) 10-хлор-5,10-діхідрофенарсазин, (фенарсацин хлориду), (адамсит), (DM) (CAS 578-94-9);

1A004.a.4.f

f) N-нонаноілморфолін, (MPA) (CAS 5299-64-9);

1A004.b

b) захисні костюми, рукавиці та взуття, спеціально призначені або модифіковані для захисту від будь-якого з таких вражаючих факторів:

1A004.b.1

1) "біологічні агенти";

1A004.b.2

2) "радіоактивні матеріали"; або

1A004.b.3

3) токсичні хімікати, що використовуються у хімічній зброї;

1A004.c

c) системи виявлення, спеціально призначені або модифіковані для виявлення або ідентифікації будь-чого з наведеного нижче, а також спеціально призначені для них компоненти:

1A004.c.1

1) "біологічні агенти";

1A004.c.2

2) "радіоактивні матеріали"; або

1A004.c.3

3) токсичні хімікати, що використовуються у хімічній зброї.

1A004.d

d) електронне обладнання, призначене для автоматичного виявлення або ідентифікації наявності залишків "вибухових речовин" з використанням методів "виявлення слідів" (наприклад, поверхнева акустична хвиля, спектрометрія рухливості іонів, диференціальна спектрометрія рухливості, мас-спектрометрія).

Технічна примітка.
"Виявлення слідів" - здатність виявляти речовину при концентрації менше ніж 1 частина на мільйон у пароподібному стані або при кількості 1 мг - у твердому або рідкому стані.

Примітки.

1. Згідно з позицією 1A004.d контролю не підлягає обладнання, спеціально призначене для лабораторного використання.

2. Згідно з позицією 1A004.d контролю не підлягають безконтактні прохідні арочні пристрої безпеки.

3. Згідно з позицією 1A004 контролю не підлягають:

a) персональні дозиметри іонізуючого випромінювання;

b) обладнання для забезпечення стандартів виробничої гігієни або стандартів безпеки, яке за конструкцією або функціями призначене тільки для захисту від небезпечних факторів, типових для забезпечення побутової безпеки або промислової безпеки, включаючи такі цивільні галузі:

1) гірнича справа;

2) відкрита розробка родовищ;

3) сільське господарство;

4) фармацевтика;

5) медицина;

6) ветеринарія;

7) охорона навколишнього природного середовища;

8) збір та утилізація відходів;

9) харчова промисловість.

Технічні примітки.

1. Позиція 1A004 включає обладнання і компоненти, що були визначені та успішно випробувані на відповідність національним стандартам, або іншим шляхом було підтверджено їх ефективність для виявлення або захисту від "радіоактивних матеріалів", "біологічних агентів", токсичних хімікатів, що використовуються у хімічній зброї, "імітаційних засобів" або "хімічних засобів для боротьби з масовими заворушеннями", навіть якщо таке обладнання або компоненти використовуються у цивільних галузях, таких як гірнича справа, відкрита розробка родовищ, сільське господарство, фармацевтика, медицина, ветеринарія, охорона навколишнього природного середовища, збір та утилізація відходів або харчова промисловість.

2. "Імітаційний засіб" - речовина або матеріал, який використовується замість токсичних агентів (хімічних або біологічних) для навчання, дослідження, тестування або аналізу.

3. Для цілей позиції 1A004 "радіоактивні матеріали" - це матеріали, які були виділені або модифіковані з метою спричинення жертв серед людей чи тварин, пошкодження обладнання або нанесення шкоди сільськогосподарським культурам або навколишньому природному середовищу.

1A005

Бронежилети і компоненти для них, а саме:

Особлива примітка.
Див. також відповідні позиції Списку товарів військового призначення.

1A005.a

a) м'які бронежилети, виготовлені не за військовими стандартами або технічними умовами або за їх еквівалентами, і спеціально призначені для них компоненти;

1A005.b

b) жорсткі пластини для бронежилетів, які забезпечують балістичний захист, що відповідає рівню IIІА або менше згідно із стандартом Національного інституту юстиції США NIJ 0101.06 (липень 2008 р.) або з його національним еквівалентом.

Особлива примітка.
Щодо
"волокнистих або ниткоподібних матеріалів", що використовуються у виготовленні бронежилетів, див. позицію 1C010.

Примітки.

1. Згідно з позицією 1A005 контролю не підлягають бронежилети, якщо вони перевозяться користувачами з метою їх власного персонального захисту.

2. Згідно з позицією 1A005 контролю не підлягають бронежилети, призначені тільки для забезпечення фронтального захисту як від уламків, так і від вибуху невійськових вибухових пристроїв.

3. Згідно з позицією 1A005 контролю не підлягають бронежилети, призначені тільки для захисту від травм, які спричиняють ножі, піки, голки або тупі предмети.

1A006

Обладнання, спеціально призначене або модифіковане для знищення саморобних вибухових пристроїв, а також спеціально призначені для нього компоненти та аксесуари, а саме:

Особлива примітка.
Див. також відповідні позиції Списку товарів військового призначення.

1A006.a

a) транспортні засоби з дистанційним керуванням;

1A006.b

b) "руйнівники".

Технічна примітка.
"Руйнівники" - пристрої, спеціально призначені для унеможливлення підриву вибухового пристрою шляхом його обстрілу рідиною або твердими чи крихкими снарядами.

Примітка.
Згідно з позицією 1A006 контролю не підлягає обладнання, що супроводжується та перевозиться його оператором.

1A007

Обладнання та пристрої, спеціально призначені для ініціювання зарядів і пристроїв, що містять енергетичні матеріали, за допомогою електричних засобів, а саме:

Примітка.
Імпорт (тимчасове ввезення) товарів, наведених у позиції 1А007, здійснюється за дозволом (висновком) Держекспортконтролю.

Особлива примітка.
Див. також відповідні позиції Списку товарів військового призначення, та позиції 3A229 і 3A232 цього Списку.

1A007.a

a) пускові пристрої детонаторів вибухових речовин, призначені для приведення в дію детонаторів вибухових пристроїв, визначених у позиції 1A007.b;

1A007.b

b) електродетонатори вибухових пристроїв, а саме:

1A007.b.1

1) детонатори з містком, що вибухає (іскрові детонатори);

1A007.b.2

2) детонатори з дротовою перемичкою, що вибухає (струмові детонатори);

1A007.b.3

3) детонатори з ударником (детонатори ударної дії);

1A007.b.4

4) детонатори з фольгою, що вибухає.

Технічні примітки.

1. Іноді замість слова "детонатор" використовують слова "ініціатор" або "запал".

2. Для цілей позиції 1A007.b усі детонатори, про які йде мова, використовують невеликий електричний провідник (місток, дротову перемичку або фольгу), який вибухоподібно випаровується, коли через нього пропускається короткий сильнострумовий електричний імпульс. У детонаторах безударної дії провідник, що вибухає, починає хімічну детонацію в контакті з бризантною вибуховою речовиною, такою як ПЕТН (пентаеритрит тетранітрат). У детонаторах ударної дії вибухоподібне випаровування електричного провідника переміщає бійчик або ударник через зазор, а удар бійчика по вибуховій речовині викликає хімічну детонацію. У деяких конструкціях ударник приводиться в дію силою магнітного поля. Термін "детонатор з фольгою, що вибухає" може означати як детонатор з містком, що вибухає, так і детонатор ударного типу.

1A008

Заряди, пристрої та компоненти, а саме:

Примітка.
Імпорт (тимчасове ввезення) товарів, наведених у позиції 1А008, здійснюється за дозволом (висновком) Держекспортконтролю.

1A008.a

a) "кумулятивні заряди", що мають усі такі характеристики:

1A008.a.1

1) чисту масу вибухової речовини (NEQ) більше ніж 90 г; та

1A008.a.2

2) діаметр зовнішньої оболонки 75 мм або більше;

1A008.b

b) кумулятивні лінійні заряди для різання, а також спеціально призначені для них компоненти, що мають усі такі характеристики:

1A008.b.1

1) вміст вибухової речовини більше ніж 40 г/м;

1A008.b.2

2) ширину 10 мм або більше;

1A008.c

c) детонуючий шнур з вмістом вибухової речовини у серцевині більше ніж 64 г/м;

1A008.d

d) різаки, крім тих, що визначені у позиції 1A008.b, та розрізувальні інструменти, що мають чисту масу вибухової речовини (NEQ) більше ніж 3,5 кг.

Примітка.
До зарядів і пристроїв, визначених у позиції 1A008, належать тільки ті, що містять
"вибухові речовини" та їх суміші, зазначені в додатку до розділу 1.

Технічна примітка.
"Кумулятивні заряди" - це вибухові заряди, що мають таку форму, яка спрямовує силу вибуху.

1A102

Донасичені піролізовані вуглець-вуглецеві компоненти, призначені для космічних ракет-носіїв, визначених в позиції 9A004, або метеорологічних ракет, визначених в позиції 9A104.

1A202

Композиційні структури, крім тих, що визначені у позиції 1A002, у формі труб, що мають обидві такі характеристики:

Особлива примітка.
Див. також позиції 9A010 та 9A110.

1A202.a

a) внутрішній діаметр від 75 мм до 400 мм; та

1A202.b

b) виготовлені з будь-яких "волокнистих або ниткоподібних матеріалів", визначених у позиції 1C010.a, 1C010.b або 1C210.a, або з попередньо просочених (імпрегнованих) вуглецевих матеріалів (препрегів), визначених у позиції 1C210.c.

1A225

Платиновані каталізатори, спеціально призначені або підготовлені для прискорення реакції обміну ізотопами водню між воднем та водою з метою вилучення тритію з важкої води або для виробництва важкої води.

1A226

Спеціалізовані збірки, що можуть бути використані для відокремлення важкої води від звичайної і мають обидві такі характеристики:

1A226.a

a) виготовлені з фосфористо-бронзової сітки, хімічно обробленої з метою покращення змочуваності; та

1A226.b

b) призначені для використання у вакуумних дистиляційних колонах.

1A227

Вікна радіаційного захисту, виготовлені з матеріалів високої густини (свинцеве скло або інші), а також спеціально призначені для них рами, що мають усі такі характеристики:

1A227.a

a) площу "холодної поверхні" понад 0,09 м2;

1A227.b

b) густину понад 3 г/см3; та

1A227.c

c) товщину 100 мм або більше.

Технічна примітка.
У позиції 1A227 термін "холодна поверхня" означає ту оглядову поверхню вікна, яка зазнає найнижчого рівня опромінення у призначеному використанні.

1A906

Спеціальні засоби та вироби, які за своїми властивостями можуть бути використані у терористичних цілях:

Примітка.
Імпорт (тимчасове ввезення) товарів, наведених у позиції 1А906, здійснюється за дозволом (висновком) Держекспортконтролю.

1A906.a

a) піротехнічні вироби у зборі.

Примітка.
Згідно з позицією 1А906.a контролю не підлягають:

1A906.a.1

1) піротехнічні вироби (візуальні сигнальні засоби), які в обов'язковому порядку повинні розташовуватись на морському судні відповідно до пункту 3 правила 6 розділу I глави III, правила 18 розділу I частини В глави III Конвенції з охорони людського життя на морі 1974 року із змінами і доповненнями (International Convention for the Safety of the Life at Sea, 1974 as amended), глави III, пункту 4.4.8 глави IV, пункту 7.1 глави VII Міжнародного кодексу по рятувальним засобам 1996 року (International Life-saving Appliance Code 1996) та частини D Міжнародної Конвенції про Міжнародні правила запобігання зіткненню суден на морі 1972 року із змінами і доповненнями (Convention on the International Regulations for Preventing Collisions at Sea, 1972 (COLREGs) as amended);

1A906.a.2

2) піротехнічні вироби побутового призначення (I, II, III класів небезпеки згідно з ДСТУ 4105-2002), загальнодоступні для громадськості шляхом продажу без обмежень у пунктах роздрібної торгівлі.

1B

Обладнання для випробування, контролю та виробництва.

1B001

Обладнання для виробництва та контролю "композиційних матеріалів" або матеріалів з шаруватою структурою (ламінатів), визначених у позиції 1A002, або "волокнистих чи ниткоподібних матеріалів", визначених у позиції 1C010, а також спеціально призначені для нього компоненти та аксесуари, а саме:

Особлива примітка.
Див. позиції 1B101 та 1B201.

1B001.a

a) машини для намотування волокон, у яких переміщення, пов'язані з позиціонуванням, скручуванням і намотуванням волокон, координуються та програмуються за трьома або більше осями "основного сервопозиціонування", спеціально призначені для виробництва "композиційних матеріалів" або шаруватих структур (ламінатів) з "волокнистих або ниткоподібних матеріалів";

1B001.b

b) "машини для укладання стрічки", в яких переміщення, пов'язані з позиціонуванням і укладанням стрічки або листів, координуються та програмуються за п'ятьма або більше осями "основного сервопозиціонування", спеціально призначені для виробництва каркасів літальних апаратів або конструкцій ракет з "композиційних матеріалів";

Технічна примітка.
Для цілей позиції 1B001.b "машини для укладання стрічки" мають можливість укладання однієї "ниткоподібної стрічки" або більше, завширшки від більше ніж 25,4 мм до 304,8 мм включно, а також різання "ниткоподібної стрічки" та відновлення окремих операцій під час процесу укладання.

1B001.c

c) багатокоординатні ткацькі машини або машини для плетіння, включаючи пристосування та пристрої, спеціально призначені або модифіковані для ткацтва, плетіння або скручування волокон для "композиційних матеріалів";

Технічна примітка.
Зазначена в позиції 1B001.c техніка плетіння включає також в'язання.

1B001.d

d) обладнання, спеціально призначене або пристосоване для виробництва армуючих волокон, а саме:

1B001.d.1

1) обладнання для перетворення полімерних волокон (таких, як поліакрилонітрил, віскоза, пек або полікарбоксилан) у вуглецеві або карбідокремнієві волокна, включаючи спеціальне обладнання для розтягу волокон у процесі нагрівання;

1B001.d.2

2) обладнання для осадження парів хімічних елементів або складних речовин на нагріту ниткоподібну підкладку з метою виробництва карбідокремнієвих волокон;

1B001.d.3

3) обладнання для виробництва термостійкої кераміки (такої, як оксид алюмінію) методом вологого намотування;

1B001.d.4

4) обладнання для перетворення шляхом термообробки волокон алюмініємістких прекурсорів у волокна, що містять оксид алюмінію (глинозем).

1B001.e

e) обладнання для виробництва препрегів, визначених у позиції 1C010.e, методом гарячого плавлення;

1B001.f

f) обладнання для неруйнівного контролю, спеціально призначене для "композиційних матеріалів", а саме:

1B001.f.1

1) системи рентгенівської томографії для тривимірної дефектоскопії;

1B001.f.2

2) ультразвукові випробувальні машини з числовим програмним керуванням, в яких переміщення для позиціонування випромінювачів або приймачів одночасно координується та програмується по чотирьох або більше осях для забезпечення відслідковування тривимірних контурів компоненту, що випробовується;

1B001.g

g) "машини для укладання джгута" з волокон, в яких переміщення для позиціонування і укладання джгутів координується та програмується за двома або більше осями "основного сервопозиціонування", спеціально призначені для виробництва корпусів літальних апаратів або ракет з "композиційних матеріалів";

Технічна примітка.
Для цілей позиції 1B001.g "машини для укладання джгута" можуть укладати одну "ниткоподібну стрічку" або більше завширшки 25,4 мм або менше, а також різати "ниткоподібну стрічку" та відновлювати виконання окремих операцій у процесі укладання.

Технічні примітки.
1. Для цілей позиції 1B001 осі "основного сервопозиціонування" контролюють під керуванням комп'ютерної програми положення маніпулятора (наприклад, головки) у просторі відносно заготовки, надаючи йому належну орієнтацію та напрямок з метою досягнення бажаного результату.

2. Для цілей позиції 1B001 "ниткоподібною стрічкою" є єдина суцільна смуга повністю або частково просоченої смолою стрічки, джгута або волокна. Повністю або частково просочені смолою "ниткоподібні стрічки" включають стрічки, що мають порошкове покриття, яке з'єднує їх при нагріванні.

1B002

Обладнання для виробництва металевих сплавів, порошків з металевих сплавів або матеріалів на основі сплавів, спеціально призначене для уникнення забруднення та для використання в одному з процесів, визначених у позиції 1C002.c.2.

Особлива примітка.
Див. також позицію 1B102.

1B003

Інструменти, матриці, прес-форми або оснастка спеціальної конструкції "надпластичного формування" або "дифузійного зварювання" титану, алюмінію або їх сплавів, спеціально призначені для виробництва будь-якого з таких виробів:

1B003.a

a) планерів літальних апаратів або аерокосмічних конструкцій;

1B003.b

b) двигунів "літальних апаратів" або аерокосмічних апаратів; або

1B003.c

c) компонентів, спеціально призначених для конструкцій, визначених в позиції 1B003.a, або для двигунів, визначених у позиції 1B003.b.

1B101

Обладнання, крім того, що визначене у позиції 1B001, для "виробництва" конструкційних композиційних матеріалів, а також спеціально призначені для нього компоненти і аксесуари, а саме:

Особлива примітка.
Див. також позицію 1B201.

Примітка.
Компоненти та аксесуари, визначені в позиції 1B101, включають прес-форми, оправки, матриці, кріплення та інструменти для попереднього пресування, вулканізації, лиття, спікання або з'єднання композитних матеріалів, ламінатів та виробів із них.

1B101.a

a) нитконамотувальні машини або верстати для укладання волокон (нитковстановлюючі), в яких рухи для позиціонування, скручування і намотування волокон можуть бути скоординовані і запрограмовані по трьох або більше осях, призначені для виготовлення конструкцій з композиційних матеріалів або ламінатів з волокнистих або ниткоподібних матеріалів, а також засоби позиціонування та програмування;

1B101.b

b) стрічконамотувальні машини, в яких рух для позиціонування та намотування стрічки або рулонів може бути скоординований і запрограмований за двома або більше осями і які призначені для виробництва корпусів літальних апаратів або "ракет" з "композиційних матеріалів";

1B101.c

c) обладнання, призначене або модифіковане для "виробництва" "волокнистих або ниткоподібних матеріалів", а саме:

1B101.c.1

1) обладнання для перетворення полімерних волокон (таких, як поліакринітрил, віскоза або полікарбоксилан), включаючи спеціальні пристрої для розтягування волокна в процесі нагрівання;

1B101.c.2

2) обладнання для осадження хімічних елементів або їх сполук з парової фази на підігріті волокнисті підкладки;

1B101.c.3

3) обладнання для виготовлення вогнестійких керамічних матеріалів (таких, як окис алюмінію) методом мокрого прядіння;

1B101.d

d) обладнання, що призначене або модифіковане для спеціальної обробки поверхні волокон або для виробництва препрегів або заготовок, визначених в позиції 9C110.

Примітка.
Позиція 1B101.d включає валики, пристрої для розтягування волокон, обладнання для нанесення покриття, різальне обладнання та фасонні штампи.

1B102

"Виробниче обладнання" для виготовлення металевого порошку, крім того, що визначене в позиції 1B002, та компоненти, а саме:

Особлива примітка.
Див. також позицію 1B115.b.

1B102.a

a) "виробниче обладнання" для металевого порошку, придатне для "виробництва" в контрольованому середовищі сферичних, сфероїдальних або розпилених матеріалів, визначених у позиціях 1C011.a, 1C011.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 або у Списку товарів військового призначення;

1B102.b

b) компоненти, спеціально призначені для "виробничого обладнання", визначеного в позиції 1B002 або 1B102.a.

Примітка.
Позиція 1B102 включає:

a) плазмові (високочастотні електродугові) генератори, придатні для отримання розпилених або сферичних металевих порошків з організацією процесу в аргоноводному середовищі;

b) електровибухове обладнання, придатне для отримання розпилених або сферичних металевих порошків з організацією процесу в аргоноводному середовищі;

c) обладнання, придатне для використання у "виробництві" сферичних алюмінієвих порошків розпилом розплаву в інертному середовищі (наприклад, азотному).

1B115

Обладнання, крім того, що визначене в позиції 1B002 або 1B102, для виробництва ракетного палива та складових ракетного палива, а також спеціально призначені для нього компоненти, а саме:

1B115.a

a) "виробниче обладнання" для "виробництва", виконання робіт або приймальних випробувань рідкого ракетного палива або компонентів ракетного палива, визначених у позиціях 1C011.a, 1C011.b, 1C111 або у Списку товарів військового призначення;

1B115.b

b) "виробниче обладнання" для "виробництва", виконання робіт, змішування, вулканізації, лиття, пресування, механічної обробки, штамповки видавлюванням або приймальних випробувань твердого ракетного палива або компонентів ракетного палива, визначених у позиціях 1C011.a, 1C011.b, 1C111 або у Списку товарів військового призначення.

Примітка.
Згідно з позицією 1B115.b не контролюються змішувачі періодичної дії, змішувачі безперервної дії або млини, що використовують енергію рідини. Щодо контролю змішувачів періодичної дії, змішувачів безперервної дії та млинів, що використовують енергію рідини, див. позиції 1B117, 1B118 та 1B119.

Примітки.

1. Щодо контролю за обладнанням, спеціально призначеним для виробництва військових виробів, див. Список товарів військового призначення.

2. Згідно з позицією 1B115 контролю не підлягає обладнання для "виробництва", виконання робіт та приймальних випробувань карбіду бору.

1B116

Форсунки, спеціально призначені для виробництва матеріалів піролітичного походження, сформованих у матрицях, на оправках або інших підкладках із газів-прекурсорів, що розкладаються за температури від 1573 К (1300° C) до 3173 К (2900° C) і тиску від 130 Па до 20 кПа.

1B117

Змішувачі періодичної дії, а також спеціально призначені компоненти для них, що передбачають можливість змішування у вакуумі в діапазоні від 0 до 13,326 кПа, обладнані апаратурою регулювання температури у змішувальній камері та мають усі такі характеристики:

1B117.a

a) повний об'єм камери 110 літрів або більше; та

1B117.b

b) принаймні один нецентрально розташований "змішувальний/перемішувальний вал".

Примітка.
У позиції 1B117.b термін "змішувальний/перемішувальний вал" не стосується деагломераторів або ножових шпинделів.

1B118

Змішувачі безперервної дії, а також спеціально призначені компоненти для них, що мають здатність змішувати у вакуумі в діапазоні від 0 до 13,326 кПа, обладнані апаратурою регулювання температури в змішувальній камері та мають будь-яку з таких характеристик:

1B118.a

a) два або більше змішувальних/перемішувальних вали; або

1B118.b

b) єдиний обертовий вал, що коливається і має змішувальні зубці (штирі) такі самі, як всередині корпусу змішувальної камери.

1B119

Млини, в яких використовується енергія рідини, придатні для подрібнення або розмелювання речовин, визначених у позиціях 1C011.a, 1C011.b, 1C111 або в Списку товарів військового призначення, та спеціально призначені компоненти для них.

1B201

Нитконамотувальні машини, крім тих, що визначені у позиції 1B001 або 1B101, а також пов'язане з ними обладнання, а саме:

1B201.a

a) нитконамотувальні машини, що мають усі такі характеристики:

1B201.a.1

1) рух, пов'язаний з розміщенням, обгортанням та намотуванням волокон, координується та програмується за двома або більше осями;

1B201.a.2

2) спеціально призначені для виготовлення виробів з композиційних матеріалів або шаруватих структур (ламінатів) з "волокнистих або ниткоподібних матеріалів"; та

1B201.a.3

3) здатні намотувати циліндричні труби діаметром від 75 до 650 мм та завдовжки 300 мм або більше;

1B201.b

b) координаційні та програмувальні пристрої керування для нитконамотувальних машин, визначених у позиції 1B201.a;

1B201.c

c) прецизійні оправки для нитконамотувальних машин, визначених у позиції 1B201.a.

1B225

Електролізери для виробництва фтору з продуктивністю понад 250 г фтору за годину.

1B226

Електромагнітні сепаратори ізотопів, призначені для роботи з одним або кількома джерелами іонів, здатними забезпечувати сумарний струм пучка іонів 50 мА чи більше, або обладнані ними.

Примітка.
Позиція 1B226 включає сепаратори:

a) здатні збагачувати як стабільними ізотопами, так і ізотопами урану;

Примітка.
Сепаратор, здатний розділяти ізотопи свинцю, що відрізняються на одну одиницю маси, по суті здатний розділяти ізотопи урану з різницею у три одиниці маси.

b) з джерелами іонів і колекторами, розташованими як у магнітному полі, так і поза полем.

Технічна примітка.
Одне джерело іонів із струмом 50 мА не дозволяє забезпечити виробництво більше ніж 3 г високозбагаченого урану на рік з сировинного природного урану.

Особлива примітка.
Щодо сепараторів, спеціально призначених або підготовлених для розділення ізотопів урану, див. позиції 0B001.a.9 та 0B001.j.

1B228

Водневі кріогенні дистиляційні колони, що мають усі такі характеристики:

1B228.a

a) спроектовані для роботи при внутрішніх температурах 35 K (-238° C) або нижче;

1B228.b

b) призначені для роботи при внутрішньому тиску від 0,5 до 5 МПа;

1B228.c

c) виготовлені з:

1B228.c.1

1) нержавіючих сталей серії 300 Міжнародної асоціації інженерів автомобілебудування (SAE) з низьким вмістом сірки та розміром аустенітного зерна номер 5 або більше за стандартом ASTM (або еквівалентним стандартом); або

1B228.c.2

2) інших еквівалентних кріогенних матеріалів, сумісних з воднем (H2); та

1B228.d

d) мають внутрішній діаметр 30 см або більше та "ефективну довжину" 4 м або більше.

Технічна примітка.
У позиції 1B228 "ефективна довжина" означає активну висоту насадкового матеріалу в колоні насадкового типу або активну висоту пластин внутрішніх контакторів у колоні тарілчастого типу.

1B229

Водно-сірководневі тарілчасті обмінні колони та "внутрішні контактори" для них, а саме:

Особлива примітка.
Щодо колон, спеціально призначених або підготовлених для виробництва важкої води, див. позицію 0B004.

1B229.a

a) водо-сірководневі тарілчасті обмінні колони, що мають усі такі характеристики:

1B229.a.1

1) здатні функціонувати за тиску 2 МПа або більше;

1B229.a.2

2) виготовлені з вуглецевої сталі з розміром аустенітного зерна номер 5 або більше за стандартом ASTM (або еквівалентним стандартом); та

1B229.a.3

3) діаметр 1,8 м або більше;

1B229.b

b) "внутрішні контактори" для водо-сірководневих тарілчастих обмінних колон, визначених у позиції 1B229.a.

Технічна примітка.
"Внутрішні контактори" колон - це сегментовані тарілки, що мають ефективний діаметр у складеному вигляді 1,8 м або більше, призначені для того, щоб сприяти протиструмному контакту, та виготовлені з нержавіючих сталей з вмістом вуглецю 0,03 % або менше. Це можуть бути сітчасті, клапанні чи ковпачкові тарілки або спіральні насадки.

1B230

Насоси, здатні перекачувати концентровані або розбавлені розчини каталізатора аміду калію в рідкому аміаку (KNH2/NH3), що мають усі такі характеристики:

1B230.a

a) герметичні (тобто, герметично запаяні);

1B230.b

b) продуктивність понад 8,5 м3/год; та

1B230.c

c) мають будь-яку з таких характеристик:

1B230.c.1

1) робочий тиск в діапазоні 1,5 - 60 МПа для концентрованих (1 % або більше) розчинів аміду калію; або

1B230.c.2

2) робочий тиск в діапазоні 20 - 60 МПа для розбавлених (менше 1 %) розчинів аміду калію.

1B231

Виробничі потужності, установки та обладнання для виробництва тритію, а саме:

1B231.a

a) виробничі потужності або установки для виробництва, регенерації, виділення, концентрування тритію або поводження з ним;

1B231.b

b) обладнання для виробничих потужностей або установок для виробництва тритію, а саме:

1B231.b.1

1) установки для охолодження водню або гелію, здатні охолоджувати їх до 23 K (-250° C) або нижче, з потужністю тепловідведення понад 150 Вт;

1B231.b.2

2) системи для зберігання та очищення ізотопів водню, які використовують гідриди металів як середовище для зберігання або очищення.

1B232

Турборозширювачі або агрегати типу турборозширювач-компресор, що мають усі такі характеристики:

1B232.a

a) призначені для експлуатації за температури на виході 35 К (-238° C) або нижче; та

1B232.b

b) призначені для роботи з пропускною спроможністю по газоподібному водню 1000 кг/год або більше.

1B233

Виробничі установки або заводи для розділення ізотопів літію, а також системи та обладнання для них, а саме:

Особлива примітка.
Деяке обладнання для розділення ізотопів літію та компоненти для процесу плазмового розділення ізотопів також є безпосередньо придатними для використання у розділенні ізотопів урану і підлягають контролю згідно з позиціями 0B001 та 0B002.

1B233.a

a) установки або заводи для розділення ізотопів літію;

1B233.b

b) обладнання для розділення ізотопів літію на основі процесу змішування літію і ртуті, а саме:

1B233.b.1

1) рідинно-рідинні обмінні насадкові колони, спеціально призначені для амальгам літію;

1B233.b.2

2) насоси для ртуті та/або амальгами літію;

1B233.b.3

3) електролізери для виробництва амальгами літію;

1B233.b.4

4) випарники для концентрованого розчину гідроксиду літію;

1B233.c

c) іонно-обмінні системи, спеціально призначені для розділення ізотопів літію, а також спеціально призначені для них компоненти;

1B233.d

d) системи хімічного обміну (використовують краун-етери, криптанди або ларіат-етери), спеціально призначені для розділення ізотопів літію, а також спеціально призначені для них компоненти.

1B234

Корпуси захисних оболонок, камери, контейнери та інші подібні захисні пристрої, які призначені для випробувань бризантних вибухових речовин або вибухових пристроїв і мають обидві такі характеристики:

Особлива примітка.
Див. також Список товарів військового призначення.

1B234.a

a) призначені для повного захисту від вибуху з енерговиділенням 2 кг у тротиловому еквіваленті або більше; та

1B234.b

b) мають конструктивні елементи або властивості, які дозволяють передачу діагностичної інформації або даних вимірювань у режимі реального часу або із затримкою.

1B904

Обладнання, спеціально призначене для виробництва товарів, визначених у позиції 1А007, 1А008 або 1A906, а також промислових вибухових речовин та їх компонентів, визначених у позиції 1C913.a.

Примітки.

1. Імпорт (тимчасове ввезення) товарів, наведених у позиції 1B904, здійснюється за дозволом (висновком) Держекспортконтролю.

2. Компоненти промислової вибухової речовини - хімічні сполуки, їх суміші, які входять до складу рецептури промислової вибухової речовини, а також хімічні сполуки, їх суміші, з яких утворюється промислова вибухова речовина на останньому етапі виготовлення (синтезу), в тому числі безпосередньо перед її використанням.

1C
 
 
 
 

Матеріали.

Технічна примітка.

Метали та сплави:

Якщо не зроблено застереження щодо протилежного, слова "метали" та "сплави" у позиціях з 1C001 по 1C012 охоплюють такі необроблені та напівфабрикатні форми:

Необроблені форми:

Аноди, кулі, прутки (включаючи надрублені та заготовки для дроту), металеві заготовки, болванки, блюми, брикети, бруски, катоди, кристали, куби, стакани, спеки, гранули, зливки, брили, котуни, чушки, порошки, кільця, дріб, сляби, заготовки металу неправильної форми, губка, рейки;

Напівфабрикатні форми (незалежно від того, облицьовані, анодовані, просвердлені або перфоровані вони чи ні):

a) ковані форми або оброблені матеріали, виготовлені шляхом прокату, волочіння, гарячого штампування, кування, імпульсного штампування, пресування, дроблення, розпилення та розмелювання, а саме: кутники, швелери, круги, диски, пил, пластівці, фольга та лист, поковки, плити, порошок, вироби, оброблені пресуванням або штампуванням, стрічки, фланці, прути (включаючи зварні брускові прутки, дротяні прути та прокатаний дріт), профілі, форми, листи, смужки, труби і трубки (включаючи трубні кільця, трубні прямокутники та пустотілі трубки), витягнений або екструдований дріт;

b) відливки, виготовлені шляхом лиття в піщані форми, прес-форми для лиття під тиском, металеві, гіпсові або інші види прес-форм, включаючи лиття під високим тиском, спечені форми та форми, виготовлені методом порошкової металургії.

Контролю також підлягають міжнародні передачі форм, що не зазначені вище, які нібито є закінченими виробами, але насправді є необробленими або напівфабрикатами.

1C001

Матеріали, спеціально призначені для поглинання електромагнітних хвиль, або полімери з власною електропровідністю, а саме:

Особлива примітка.
Див. також позицію 1C101.

1C001.a

a) матеріали для поглинання хвиль з частотою понад 2 х 108 Гц, але менше ніж 3 х 1012 Гц;

Примітки.

1. Згідно з позицією 1C001.a контролю не підлягають:

a) абсорбери волосяного типу, виготовлені з натуральних або синтетичних волокон, з немагнітним наповненням для абсорбції;

b) абсорбери, що не мають магнітних втрат, робоча поверхня яких не є плоскою, включаючи піраміди, конуси, клини та спіралеподібні поверхні;

c) пласкі абсорбери, що мають усі такі характеристики:

1) виготовлені з будь-яких таких матеріалів:

a) пінопластичних матеріалів (гнучких або негнучких) з вуглецевим наповненням або органічних матеріалів, включаючи в'язкі домішки, які забезпечують понад 5 % відбиття порівняно з металом уздовж ширини смуги, що перевищує ± 15 % середньої частоти падаючої енергії, та не здатні протистояти температурам понад 450 K (177° C); або

b) керамічних матеріалів, які забезпечують понад 20 % відбиття порівняно з металом уздовж ширини смуги, що перевищує ± 15 % середньої частоти падаючої енергії, та не здатних протистояти температурам понад 800 K (527° C);

Технічна примітка.
Зразки для проведення випробувань на поглинання у примітці 1.c.1 до позиції 1C001.a повинні мати форму квадрата із стороною не менше ніж п'ять довжин хвиль середньої частоти і розміщуватися в дальній зоні випромінювального елемента.

2) міцність при розтягуванні менше ніж 7 х 106 Н/м2; та

3) міцність при стискуванні менше ніж 14 х 106 Н/м2;

d) пласкі абсорбери, вироблені із спеченого фериту, що мають усі такі характеристики:

1) питому густину понад 4,4; та

2) максимальну робочу температуру 548 K (275° C).

2. Примітка 1 до позиції 1C001.a не звільняє від контролю магнітні матеріали, що забезпечують поглинання хвиль, коли вони містяться у фарбах.

1C001.b

b) матеріали для поглинання хвиль з частотами понад 1,5 х 1014 Гц, але менше ніж 3,7 х 1014 Гц і непрозорі для видимого світла;

Примітка.
Згідно з позицією 1C001.b контролю не підлягають матеріали, спеціально призначені або розроблені для будь-якого з таких застосувань:

a) "лазерного" маркування полімерів; або

b) "лазерного" зварювання полімерів.

1C001.c

c) полімерні матеріали з власною електропровідністю, що мають "об'ємну електропровідність" понад 10000 С/м (сіменс/м) або з "питомим поверхневим опором" менше ніж 100 Ом/м2, вироблені на основі одного з таких полімерів:

1C001.c.1

1) поліанілін;

1C001.c.2

2) поліпірол;

1C001.c.3

3) політіофен;

1C001.c.4

4) поліфенілен-вінілен; або

1C001.c.5

5) політіенілен-вінілен.

Примітка.
Згідно з позицією 1C001.c контролю не підлягають матеріали у рідкому стані.

Технічна примітка.
"Об'ємна електропровідність" та "питомий поверхневий опір" визначаються відповідно до стандарту ASTM D-257 або його національного еквівалента.

1C002

Металеві сплави, порошки металевих сплавів та сплавлені матеріали, а саме:

Особлива примітка.
Див. також позицію 1C202.

Примітка.
Згідно з позицією 1C002 контролю не підлягають металеві сплави, порошки металевих сплавів або сплавлені матеріали, призначені для ґрунтових покриттів.

Технічні примітки.

1. До металевих сплавів, зазначених у позиції 1C002, належать також ті, що мають ваговий відсоток зазначеного металу більший, ніж будь-якого іншого елементу.

2. "Ресурс довготривалої міцності" необхідно вимірювати відповідно до стандарту ASTM E-139 або його національного еквівалента.

3. "Малоциклічну втому" необхідно визначати відповідно до стандарту ASTM E-606 "Рекомендації з тестування на циклову втому при постійній амплітуді" або його національного еквівалента. Тестування необхідно проводити за напрямком осі при середньому значенні коефіцієнта асиметрії циклу, що дорівнює одиниці, та коефіцієнті концентрації напружень (Kt), що дорівнює одиниці. Середнє напруження дорівнює різниці максимального та мінімального напруження, поділеній на максимальне напруження.

1C002.a

a) алюмініди, а саме:

1C002.a.1

1) нікелеві алюмініди, що містять мінімально 15 % за вагою алюмінію, максимально 38 % за вагою алюмінію та принаймні один додатковий легуючий елемент;

1C002.a.2

2) титанові алюмініди, що містять 10 % або більше за вагою алюмінію та принаймні один додатковий легуючий елемент;

1C002.b

b) металеві сплави, вироблені з порошків або частинок матеріалу, визначених у позиції 1C002.c, а саме:

1C002.b.1

1) нікелеві сплави, що мають будь-яку з таких характеристик:

1C002.b.1.a

a) "ресурс довготривалої міцності" 10000 годин або більше за температури 923 K (650° C) та напруження 676 МПа; або

1C002.b.1.b

b) "малоциклічну втому" 10000 циклів або більше за температури 823 K (550° C) та максимального напруження 1095 МПа;

1C002.b.2

2) ніобієві сплави, що мають будь-яку з таких характеристик:

1C002.b.2.a

a) "ресурс довготривалої міцності" 10000 годин або більше за температури 1073 K (800° C) та напруження 400 МПа; або

1C002.b.2.b

b) "малоциклічну втому" 10000 циклів або більше за температури 973 K (700° C) та максимального напруження 700 МПа;

1C002.b.3

3) титанові сплави, що мають будь-яку з таких характеристик:

1C002.b.3.a

a) "ресурс довготривалої міцності" 10000 годин або більше за температури 723 K (450° C) та напруження 200 МПа; або

1C002.b.3.b

b) "малоциклічну втому" 10000 циклів або більше за температури 723 K (450° C) та максимального напруження 400 МПа;

1C002.b.4

4) алюмінієві сплави, що мають будь-яку з таких характеристик:

1C002.b.4.a

a) міцність при розтягуванні 240 МПа або більше за температури 473 K (200° C); або

1C002.b.4.b

b) міцність при розтягуванні 415 МПа або більше за температури 298 K (25° C);

1C002.b.5

5) магнієві сплави, що мають усі такі характеристики:

1C002.b.5.a

a) міцність при розтягуванні 345 МПа або більше; та

1C002.b.5.b

b) швидкість корозії менше ніж 1 мм на рік у 3 % водному розчині хлориду натрію, виміряну відповідно до стандарту ASTM G-31 або його національного еквівалента;

1C002.c

c) порошки металевих сплавів або частинки матеріалу, що мають усі такі характеристики:

1C002.c.1

1) виготовлені з будь-яких систем, що мають такий склад:

Технічна примітка.
Далі "X" означає один або більшу кількість легуючих елементів, що входять до складу сплаву.

1C002.c.1.a

a) нікелеві сплави (Ni-Al-X, Ni-X-Al), призначені для використання у складі частин чи компонентів газотурбінних двигунів, тобто менше, ніж із трьома неметалевими частками (введеними у процесі виготовлення), більшими ніж 100 мкм у 109 частках сплаву;

1C002.c.1.b

b) ніобієві сплави (Nb-Al-X або Nb-X-Al, Nb-Si-X або Nb-X-Si, Nb-Ti-X або Nb-X-Ti);

1C002.c.1.c

c) титанові сплави (Ti-Al-X або Ti-X-Al);

1C002.c.1.d

d) алюмінієві сплави (Al-Mg-X або Al-X-Mg, Al-Zn-X або Al-X-Zn, Al-Fe-X або Al-X-Fe); або

1C002.c.1.e

e) магнієві сплави (Mg-Al-X або Mg-X-Al);

1C002.c.2

2) виготовлені у контрольованому середовищі за допомогою будь-якого з наведених нижче процесів:

1C002.c.2.a

a) "вакуумне розпилення";

1C002.c.2.b

b) "газове розпилення";

1C002.c.2.c

c) "відцентрове розпилення";

1C002.c.2.d

d) "швидкісне гартування краплі";

1C002.c.2.e

e) "спінінгування розплаву" та "здрібнювання";

1C002.c.2.f

f) "екстракція розплаву" та "здрібнювання"; або

1C002.c.2.g

g) "механічне легування"; або

1C002.c.2.h

h) "плазмове розпилення"; та

1C002.c.3

3) придатні до створення матеріалів, визначених у позиції 1C002.a або 1C002.b;

1C002.d

d) сплавлені матеріали, які мають усі наведені нижче характеристики:

1C002.d.1

1) виготовлені з будь-яких матеріалів, що мають склад, визначений у позиції 1C002.c.1;

1C002.d.2

2) у вигляді неподрібненої луски, стружки або тонких стрижнів; та

1C002.d.3

3) виготовлені у контрольованому середовищі одним із наведених нижче методів:

1C002.d.3.a

a) "швидке гартування краплі";

1C002.d.3.b

b) "спінінгування розплаву"; або

1C002.d.3.c

c) "екстракція розплаву".

1C003

Магнітні метали всіх типів та будь-якої форми, що мають будь-яку з наведених нижче характеристик:

1C003.a

a) початкова відносна магнітна проникність 120000 або більше і завтовшки 0,05 мм або менше;

Технічна примітка.
Вимірювання початкової відносної магнітної проникності повинне здійснюватися на повністю відпалених матеріалах.

1C003.b

b) магнітострикційні сплави, які мають будь-яку з наведених нижче характеристик:

1C003.b.1

1) магнітострикція насичення більше ніж 5 х 10-4; або

1C003.b.2

2) коефіцієнт магнітомеханічного зчеплення (k) більше ніж 0,8; або

1C003.c

c) аморфна або "нанокристалічна" стрічка сплаву, яка має усі наведені нижче характеристики:

1C003.c.1

1) склад мінімум 75 % за вагою заліза, кобальту або нікелю;

1C003.c.2

2) магнітну індукцію насичення (Bs) 1,6 Т або більше; та

1C003.c.3

3) будь-що з наведеного нижче:

1C003.c.3.a

a) товщину стрічки 0,02 мм або менше; або

1C003.c.3.b

b) питомий електричний опір 2 х 10-4 Ом см або більше.

Технічна примітка.
"Нанокристалічні матеріали", зазначені у позиції 1C003.c, - це матеріали, що мають кристалічні зерна розміром 50 нм або менше, який визначений методом рентгенівської дифракції.

1C004

Ураново-титанові сплави або вольфрамові сплави з "матрицею" на основі заліза, нікелю або міді, що мають усі такі характеристики:

1C004.a

a) густину більше ніж 17,5 г/см3;

1C004.b

b) межу пружності більше ніж 880 МПа;

1C004.c

c) межу міцності при розтягуванні більше ніж 1270 МПа; та

1C004.d

d) відносне видовження понад 8 %.

1C005

Провідники з "надпровідних" "композиційних матеріалів" завдовжки понад 100 м або масою більше ніж 100 г, наведені нижче:

1C005.a

a) провідники з "надпровідних" "композиційних матеріалів", що містять одну або більше ніобієво-титанових "ниток", які мають обидві наведені нижче характеристики:

1C005.a.1

1) укладені в "матрицю", крім мідної "матриці" або комбінованої "матриці" на основі міді; та

1C005.a.2

2) мають площу поперечного перерізу меншу ніж 0,28 х 10-4 мм2 (6 мкм у діаметрі з круглим перерізом "нитки");

1C005.b

b) провідники з "надпровідних" "композиційних матеріалів", які містять одну або більше "надпровідних" "ниток", крім ніобій-титанових, та мають усі наведені нижче характеристики:

1C005.b.1

1) "критична температура" при нульовій магнітній індукції понад 9,85 K (-263,31° C); та

1C005.b.2

2) залишаються у "надпровідному" стані за температури 4,2 К (-268,96° C) у разі перебування в магнітному полі, яке зорієнтовано у будь-якому напрямку, перпендикулярному до поздовжньої осі провідника, та відповідає магнітній індукції 12 Т, з критичною щільністю струму у найбільшому поперечному перерізі провідника понад 1750 А/мм2;

1C005.c

c) провідники з "надпровідних" "композиційних матеріалів", що складаються з одного або більше "надпровідних волокон", які залишаються у "надпровідному" стані за температури вище 115 К (-158,16° C).

Технічна примітка.
"Нитки", зазначені у позиції 1C005, можуть мати форму дроту, циліндра, плівки, стрічки або смужки.

1C006

Рідини та мастильні матеріали, наведені нижче:

1C006.a

a) не використовується;

1C006.b

b) мастильні матеріали, що містять як основні складові будь-що з наведеного нижче:

1C006.b.1

1) феніленові або алкілфеніленові ефіри, тіоефіри або їх суміші, які містять більше ніж дві функціональні групи ефіру або тіоефіру, або їх суміші; або

1C006.b.2

2) фторовані кремнійорганічні рідини, що мають кінематичну в'язкість меншу, ніж 5000 мм2/с (5000 сантистоксів), виміряну за температури 298 K (25° C);

1C006.c

c) демпфірувальні або флотувальні рідини, що мають усі наведені нижче характеристики:

1C006.c.1

1) чистота понад 99,8 %;

1C006.c.2

2) містять менше ніж 25 частинок розміром 200 мкм або більшого розміру на 100 мл; та

1C006.c.3

3) виготовлені щонайменше на 85 % з будь-чого наведеного нижче:

1C006.c.3.a

a) дібромтетрафторетану (CAS 25497-30-7, 124-73-2, 27336-23-8);

1C006.c.3.b

b) поліхлортрифторетилену (лише маслянисті та воскоподібні модифікації); або

1C006.c.3.c

c) полібромтрифторетилену;

1C006.d

d) фторвуглецеві охолоджувальні рідини для електроніки, що мають усі наведені нижче характеристики:

1C006.d.1

1) містять 85 % за вагою або більше однієї з наведених нижче речовин чи суміші з них:

1C006.d.1.a

a) мономерні форми перфторполіалкілефіртриазинів або перфтораліфатичних ефірів;

1C006.d.1.b

b) перфторалкіламіни;

1C006.d.1.c

c) перфторциклоалкани; або

1C006.d.1.d

d) перфторалкани;

1C006.d.2

2) густина 1,5 г/мл або більше за температури 298 K (25° C);

1C006.d.3

3) рідкий стан за температури 273 K (0° C); та

1C006.d.4

4) містять 60 % (за масою) або більше фтору.

Примітка.
Згідно з позицією 1C006.d контролю не підлягають матеріали, визначені і запаковані як медичні вироби.

1C007

Керамічні порошки, "композиційні матеріали" з керамічною "матрицею" та "матеріали-прекурсори", а саме:

Особлива примітка.
Див. також позицію 1C107.

1C007.a

a) керамічні порошки з дибориду титану (TiB2) (CAS 12045-63-5), що містять сумарну кількість металевих домішок, за винятком спеціальних домішок, на рівні менше ніж 5000 частинок на мільйон за середнього розміру частинки 5 мкм або менше і при цьому не більше ніж 10 % частинок мають розмір понад 10 мкм;

1C007.b

b) не використовується;

1C007.c

c) "композиційні матеріали" з керамічною "матрицею", а саме:

1C007.c.1

1) "композиційні матеріали" типу кераміка-кераміка із скляною або оксидною "матрицею", армовані будь-якими з таких волокон:

1C007.c.1.a

a) неперервні волокна, виготовлені з будь-якого з таких матеріалів:

1C007.c.1.a.1

1) Al2O3 (CAS 1344-28-1); або

1C007.c.1.a.2

2) Si-C-N; або

Примітка.
Згідно з позицією 1C007.f контролю не підлягають
"композиційні матеріали", що містять волокна з міцністю при розтягуванні менше ніж 700 МПа за температури 1273 K (1000° C) або з опором повзучості при розтягуванні понад 1 % деформації повзучості при навантаженні 100 МПа та температурі 1273 K (1000° C) протягом 100 годин.

1C007.c.1.b

b) волокна, що мають усі такі характеристики:

1C007.c.1.b.1

1) виготовлені з будь-якого з таких матеріалів:

1C007.c.1.b.1.a

a) Si-N;

1C007.c.1.b.1.b

b) Si-C;

1C007.c.1.b.1.c

c) Si-Al-O-N; або

1C007.c.1.b.1.d

d) Si-O-N; та

1C007.c.1.b.2

2) мають "питому міцність при розтягуванні" понад 12,7 х 103 м;

1C007.c.2

2) "композиційні матеріали" з керамічною "матрицею", у яких "матриця" сформована з карбідів або нітридів кремнію, цирконію або бору;

1C007.d

d) не використовується;

1C007.e

e) "матеріали-прекурсори", спеціально призначені для "виробництва" матеріалів, визначених у позиції 1C007.c, а саме:

1C007.e.1

1) полідіорганосилани (для виробництва карбіду кремнію);

1C007.e.2

2) полісилазани (для виробництва нітриду кремнію);

1C007.e.3

3) полікарбосилазани (для виробництва кераміки з кремнієвими, вуглецевими та азотними компонентами);

1C007.f

f) не використовується;

Технічна примітка.
Для цілей позиції 1C007 "матеріали-прекурсори" - це полімерні або металоорганічні матеріали спеціального призначення, що використовуються для
"виробництва" карбіду кремнію, нітриду кремнію або кераміки з кремнієм, вуглецем або азотом.

1C008

Нефторовані полімерні речовини, а саме:

1C008.a

a) іміди, а саме:

1C008.a.1

1) бісмалеіміди;

1C008.a.2

2) ароматичні поліамідіміди, що мають "температуру склування (Tg)" понад 563 K (290° C);

1C008.a.3

3) ароматичні полііміди, що мають "температуру cклування (Tg)" понад 505 K (232° C);

1C008.a.4

4) ароматичні поліефіріміди, що мають "температуру склування (Tg)" понад 563 K (290° C);

Примітка.
Згідно з позицією 1C008.a контролю підлягають речовини у рідкій або твердій
"плавкій" формі, у тому числі у формі смоли, порошку, гранул, плівки, листа, стрічки або смужки.

Особлива примітка.
Щодо
"неплавких" ароматичних поліімідів у формі смоли, порошку, гранул, плівки, листа, стрічки або смужки див. позицію 1A003.

1C008.b

b) не використовується;

1C008.c

c) не використовується;

1C008.d

d) поліариленові кетони;

1C008.e

e) поліариленові сульфіди, у яких ариленова група є біфеніленом, трифеніленом або їх комбінацією;

1C008.f

f) полібіфеніленефірсульфон, який має "температуру склування (Tg)" понад 563 K (290° C).

Технічні примітки.

1. "Температура склування (Tg)" для термопластичних матеріалів, зазначених у позиції 1C008.a.2, і матеріалів, зазначених у позиції 1C008.a.4, визначається за методом, описаним у стандарті ISO 11357-2(1999) або його національних еквівалентах.

2. "Температура склування (Tg)" для термореактивних матеріалів, зазначених у позиції 1C008.a.2, і матеріалів, зазначених у позиції 1C008.a.3, визначається методом триточкового згину, описаним у міжнародному стандарті ASTM D 7028-07 або його національному еквіваленті. Випробування повинно здійснюватися на сухому зразку, що досяг мінімум 90 % отвердіння, яке відбувалося в результаті використання комбінації стандартного та додаткового термореактивних процесів отвердіння, в результаті яких отримана найвища температура Tg, як це визначено у міжнародному стандарті ASTM E 2160-04 або його національному еквіваленті.

1C009

Необроблені фторовані сполуки, а саме:

1C009.a

a) не використовується;

1C009.b

b) фтористі поліаміди, які містять 10 % за вагою або більше зв'язаного фтору;

1C009.c

c) фтористі фосфазинові еластомери, які містять 30 % за вагою або більше зв'язаного фтору.

1C010

"Волокнисті або ниткоподібні матеріали", а саме:

Особлива примітка.
Див. також позиції 1C210 та 9C110.

Технічні примітки.

1. З метою розрахунку "питомої міцності при розтягуванні", "питомого модулю пружності" або питомої ваги "волокнистих або ниткоподібних матеріалів", зазначених у позиції 1C010.a, 1C010.b, 1C010.c, або 1C010.e.1.b, міцність при розтягуванні або модуль пружності повинні визначатися з використанням методу А, описаного у міжнародному стандарті ISO 10618 (2004) або в його національному еквіваленті.

2. Оцінка "питомої міцності при розтягуванні", "питомого модуля пружності" або питомої ваги "волокнистих або ниткоподібних матеріалів", що не є однонаправленими (наприклад, тканин, килимових покриттів з випадковим розташуванням волокон або тасьм), зазначених у позиції 1C010, повинна виконуватися на основі механічних властивостей складових однонаправлених моноволокон (наприклад, моновоолокон, ниток або джгутів) до їх переробки у "волокнисті або ниткоподібні матеріали", що не є однонаправленими.

1C010.a

a) органічні "волокнисті або ниткоподібні матеріали", що мають обидві такі характеристики:

1C010.a.1

1) "питомий модуль пружності" понад 12,7 х 106 м; та

1C010.a.2

2) "питому міцність при розтягуванні" понад 23,5 х 104 м;

Примітка.
Згідно з позицією 1C010.a контролю не підлягає поліетилен.

1C010.b

b) вуглецеві "волокнисті або ниткоподібні матеріали", які мають обидві такі характеристики:

1C010.b.1

1) "питомий модуль пружності" понад 14,65 х 106 м; та

1C010.b.2

2) "питому міцність при розтягуванні" понад 26,82 х 104 м;

Примітка.
Згідно з позицією 1C010.b контролю не підлягають:

a) "волокнисті або ниткоподібні матеріали" для ремонту структур або ламінатів "цивільних повітряних суден", що мають усі такі характеристики:

1) площу не більше 1 м2;

2) довжину не більше 2,5 м; та

3) товщину більше 15 мм;

b) рублені, розмелені або нарізані у механічний спосіб "волокнисті або ниткоподібні матеріали" довжиною 25 мм або менше.

1C010.c

c) неорганічні "волокнисті або ниткоподібні матеріали", які мають обидві наведені нижче характеристики:

1C010.c.1

1) "питомий модуль пружності" понад 2,54 х 106 м; та

1C010.c.2

2) температура плавлення, розм'якшування, розкладу або сублімації в інертному середовищі понад 1922 K (1649° C);

Примітка.
Згідно з позицією 1C010.c контролю не підлягають:

a) дискретні, багатофазні, полікристалічні волокна оксиду алюмінію у вигляді рублених волокон або матів, що містять 3 % за вагою або більше діоксиду кремнію з "питомим модулем пружності" менше ніж 10 х 106 м;

b) молібденові волокна або волокна з молібденових сплавів;

c) волокна бору;

d) дискретні керамічні волокна з температурами плавлення, розм'якшення, розкладу та сублімації в інертному середовищі нижче 2043 K (1770° C).

1C010.d

d) "волокнисті або ниткоподібні матеріали", що мають будь-яку з таких характеристик:

1C010.d.1

1) складаються з будь-якого з таких матеріалів:

1C010.d.1.a

a) поліетеріміди, визначені у позиції 1C008.a; або

1C010.d.1.b

b) матеріали, визначені у позиціях 1C008.d - 1C008.f; або

1C010.d.2

2) складаються з матеріалів, визначених у позиції 1C010.d.1.a або 1C010.d.1.b та "сплутані" з іншими волокнами, визначеними у позиції 1C010.a, 1C010.b або 1C010.c;

1C010.e

e) "волокнисті або ниткоподібні матеріали", повністю або частково просочені смолою або пеком (препреги), "волокнисті або ниткоподібні матеріали", покриті металом або вуглецем (преформи), або "вуглецеві волоконні преформи", що мають усі наведені нижче характеристики:

1C010.e.1

1) мають будь-яку з таких характеристик:

1C010.e.1.a

a) неорганічні "волокнисті або ниткоподібні матеріали", визначені у позиції 1C010.c; або

1C010.e.1.b

b) органічні або вуглецеві "волокнисті або ниткоподібні матеріали", що мають усі такі характеристики:

1C010.e.1.b.1

1) "питомий модуль пружності" понад 10,15 х 106 м;

1C010.e.1.b.2

2) "питому міцність при розтягуванні" понад 17,7 х 104 м; та

1C010.e.2

2) мають будь-що з наведеного нижче:

1C010.e.2.a

a) смолу або пек, визначені у позиції 1C008 або 1C009.b;

1C010.e.2.b

b) має "виміряну методом динамічного механічного аналізу температуру склування (DMA Tg)", яка дорівнює або більше 453 K (180° C) та містить фенольну смолу; або

1C010.e.2.c

c) має "виміряну методом динамічного механічного аналізу температуру склування (DMA Tg)", яка дорівнює або більше 505 K (232° C), та містить смолу або пек, які не визначені у позиції 1C008 або 1C009.b і не є фенольною смолою; або

Примітки.

1. Покриті вуглецем або металом "волокнисті або ниткоподібні матеріали", (преформи) або "вуглецеві волоконні преформи", не просочені смолою або пеком, віднесені в позиції 1C010.a, 1C010.b або 1C010.c до "волокнистих або ниткоподібних матеріалів".

2. Згідно з позицією 1C010.e контролю не підлягають:

a) просочені епоксидною смолою "матриці" з вуглецевих "волокнистих або ниткоподібних матеріалів" (препреги) для ремонту конструкцій або ламінатів "цивільних повітряних суден", що мають усі наведені нижче характеристики:

1) площу не більше 1 м2;

2) довжину не більше 2,5 м; та

3) товщину більше 15 мм;

b) повністю або частково просочені смолою або пеком рублені, розмелені або нарізані у механічний спосіб вуглецеві "волокнисті або ниткоподібні матеріали" довжиною 25 мм або менше, для виготовлення яких використано смоли або пек, крім тих, що визначені у позиції 1C008 або 1C009.b.

Технічна примітка.
"Виміряна методом динамічного механічного аналізу температура склування (DMA Tg)" для матеріалів, визначених у позиції 1C010.e, визначається з використанням методу, описаного в ASTM D 7028-07 або в еквівалентному національному стандарті, із застосуванням сухого зразка. У випадку термореактивних матеріалів мінімальний ступінь тверднення сухого дослідного зразка повинен становити 90 %, як визначено ASTM E 2160-04 або еквівалентним національним стандартом.

1C011

Метали та сполуки, наведені нижче:

Особлива примітка.
Див. також Список товарів військового призначення та позицію 1C111.

1C011.a

a) метали з розміром частинок менше ніж 60 мкм, які мають сферичну, розпилену, сфероїдальну, розшаровану або молоту форму, виготовлені з матеріалу, що на 99 % або більше складається з цирконію, магнію або сплавів з них;

Технічна примітка.
Природний вміст гафнію в цирконії (типово від 2 % до 7 %) враховується разом з цирконієм.

Примітка.
Метали або сплави, визначені в позиції 1C011.a, підлягають контролю незалежно від того, інкапсульовані вони чи ні в алюміній, магній, цирконій або берилій.

1C011.b

b) бор або сплави бору з розміром частинок 60 мкм або менше, як наведено нижче:

1C011.b.1

1) бор з чистотою 85 % за вагою або більше;

1C011.b.2

2) сплави бору з вмістом бору 85 % за вагою або більше;

Примітка.
Метали або сплави, визначені в позиції 1C011.b, підлягають контролю незалежно від того, інкапсульовані вони чи ні в алюміній, магній, цирконій або берилій.

1C011.c

c) нітрат гуанідину (CAS 506-93-4);

1C011.d

d) нітрогуанідин (NQ) (CAS 556-88-7).

Особлива примітка.
Щодо металевого порошку, змішаного з іншими речовинами з метою створення суміші, створеної для воєнних цілей, див. Список товарів військового призначення.

1C012

Матеріали, наведені нижче:

Примітка.
Імпорт (тимчасове ввезення) товарів, наведених у позиції 1C012, здійснюється за дозволом (висновком) Держекспортконтролю.

Технічна примітка.
Ці матеріали типово використовуються для ядерних джерел теплоти.

1C012.a

a) плутоній у будь-якому вигляді із вмістом ізотопу плутонію-238 більшим ніж 50 % за вагою;

Примітка.
Згідно з позицією 1C012.a контролю не підлягають:

a) поставки, що містять 1 грам або менше плутонію;

b) поставки, що містять 3 або менше "ефективних грами", що використовуються як чутливий елемент приладу.

1C012.b

b) "попередньо виділений" нептуній-237 у будь-якому вигляді.

Примітка.
Згідно з позицією 1C012.b контролю не підлягають поставки, що містять 1 грам або менше нептунію-237.

1C101

Матеріали та пристрої для зменшення таких характеристик помітності, як відбивна здатність цілі, характерні ознаки в ультрафіолетовому та інфрачервоному діапазоні випромінювань та акустична сигнатура, крім тих, що визначені у позиції 1C001, що можуть застосовуватися у "ракетах", підсистемах "ракет" або безпілотних літальних апаратах, визначених у позиції 9A012 або 9A012.a.

Примітки.

1. Позиція 1C101 включає:

a) конструкційні матеріали та покриття, спеціально призначені для зменшення радіолокаційної відбивної здатності;

b) покриття, включаючи фарби, спеціально призначені для зниження або обмеження відбивної здатності або випромінювання в мікрохвильовому, інфрачервоному або ультрафіолетовому діапазонах електромагнітного спектра.

2. Позиція 1C101 не включає покриття, якщо вони спеціально використовуються для забезпечення теплового режиму супутників.

Технічна примітка.
У позиції 1C101 "ракета" означає закінчені ракетні системи та безпілотні літальні апарати, здатні досягати дальності понад 300 км.

1C102

Перенасичені піролізовані вуглець-вуглецеві матеріали, призначені для космічних ракет-носіїв, визначених у позиції 9A004, або метеорологічних ракет, визначених в позиції 9A104.

1C107

Графітові та керамічні матеріали, крім тих, що визначені у позиції 1C007, а саме:

1C107.a

a) дрібнозернисті графіти з насипною щільністю 1,72 г/см3 або більше, виміряною за температури 288 K (15° C), які мають розмір частинок 100 мкм або менше, придатні для використання в ракетних соплах і в носових частинах космічних апаратів, що повертаються, з яких можуть бути виготовлені наведені нижче вироби:

1C107.a.1

1) циліндри діаметром 120 мм або більше і довжиною 50 мм або більше;

1C107.a.2

2) труби з внутрішнім діаметром 65 мм або більше, товщиною стінки 25 мм або більше і довжиною 50 мм або більше; або

1C107.a.3

3) блоки розміром 120 х 120 х 50 мм або більше;

Особлива примітка.
Див. також позицію 0C004.

1C107.b

b) піролітичні або армовані волокнами графіти, придатні для використання у соплах ракет і в носових частинах космічних апаратів, що повертаються, придатні для застосування в "ракетах", космічних ракетах-носіях, визначених у позиції 9A004, або метеорологічних ракетах, визначених у позиції 9A104;

Особлива примітка.
Див. також позицію 0C004.

1C107.c

c) керамічні композиційні матеріали (діелектрична проникність яких менше ніж 6 одиниць на будь-якій частоті в діапазоні від 100 МГц до 100 ГГц) для використання в обтічниках антен у "ракетах", космічних ракетах-носіях, визначених у позиції 9A004, або метеорологічних ракетах, визначених у позиції 9A104;

1C107.d

d) монолітний механічно оброблюваний необпечений керамічний матеріал, армований карбідом кремнію, придатний для використання у носових обтічниках, придатних для використання в "ракетах", космічних ракетах-носіях, визначених у позиції 9A004, або метеорологічних ракетах, визначених у позиції 9A104;

1C107.e

e) керамічні композиційні матеріали, армовані карбідом кремнію, придатні для використання в носових обтічниках, спускних космічних апаратах та стулках сопел, придатних для застосування в "ракетах", космічних ракетах-носіях, визначених у позиції 9A004, або метеорологічних ракетах, визначених у позиції 9A104;

1C107.f

f) об'ємні керамічні композиційні матеріали, придатні для механічної обробки, що складаються з матриці з "надвисокотемпературної кераміки (UHTC)", що має температуру плавлення 3000° C, та армованої волокнами або нитками, придатними для компонентів ракет (таких, як наконечники головних частин, головні частини, передні кромки, реактивні лопатки, керівні поверхні або вставки сопел ракетних двигунів) у "ракетах" або атмосферних безпілотних літальних апаратах, визначених у 9A012 або 9A112.a.

Примітка.
Згідно з позицією 1C107.f не підлягають контролю матеріали з "надвисокотемпературної кераміки (UHTC)" не у формі композиту.

Технічна примітка.

"Надвисокотемпературна кераміка (UHTC)" включає:

1) диборід титану (TiB2);

2) диборід цирконію (ZrB2);

3) диборід ніобію (NbB2);

4) диборід гафнію (HfB2);

5) диборід танталу (TaB2);

6) карбід титану (TiC);

7) карбід цирконію (ZrC);

8) карбід ніобію (NbC);

9) карбід гафнію (HfC);

10) карбід танталу (TaC).

1C111

Ракетне паливо та складові для ракетного палива, крім тих, що визначені у позиції 1C011, як наведено нижче:

1C111.a

a) складові для ракетного палива:

1C111.a.1

1) алюмінієвий порошок, крім того, що визначений у Списку товарів військового призначення, у формі або сферичних або сфероїдних часток, розміром менше ніж 200 мкм, та вмістом алюмінію 97 % (за вагою) або більше, якщо щонайменше 10 % загальної ваги становлять частки розміром менше ніж 63 мкм згідно із стандартом ISO 2591-1:1988 або його національними еквівалентами;

Технічна примітка.
Розмір частинок у 63 мкм (ISO R-565) відповідає 250 меш (метод Тайлера) або 230 меш (стандарт Е-11 ASTM).

1C111.a.2

2) металеві порошки, крім тих, що визначені у Списку товарів військового призначення, а саме:

1C111.a.2.a

a) металеві порошки з цирконію, берилію або магнію або із сплавів цих металів, якщо щонайменше 90 % загальної кількості часток (за об'ємом або вагою) складається з часток розміром менше ніж 60 мкм (визначається за допомогою таких методів вимірювання, як використання сита, лазерна дифракція або оптичне сканування), які мають сферичну, дрібнодисперсну, сфероїдальну, лускувату або мелену форму і складаються на 97 % за вагою або більше з будь-чого наведеного нижче:

1C111.a.2.a.1

1) цирконію;

1C111.a.2.a.2

2) берилію; або

1C111.a.2.a.3

3) магнію;

Технічна примітка.
Природний вміст гафнію в цирконії зазвичай від 2 % до 7 % ураховується разом з цирконієм.

1C111.a.2.b

b) металеві порошки із бору або із сплавів бору з вмістом бору 85 % або вище за вагою, якщо щонайменше 90 % загальної кількості часток (за об'ємом або вагою) складається з часток розміром менше ніж 60 мкм (визначається за допомогою таких методів вимірювання, як використання сита, лазерна дифракція або оптичне сканування), які мають сферичну, дрібнодисперсну, сфероїдальну, лускувату або мелену форму;

Примітка.
Згідно з позиціями 1C111.a.2.a та 1C111.a.2.b у разі багатомодального розподілу часток (наприклад, суміші з різним розміром зерна) контролю підлягають усі порошкові суміш, в яких контролюється одна або більше мод.

1C111.a.3

3) окислювачі, придатні для використання у рідкопаливних ракетних двигунах, наведені нижче:

1C111.a.3.a

a) динітротриоксид (CAS 10544-73-7);

1C111.a.3.b

b) азотний діоксид (CAS 10102-44-0) / динітротетроксид (CAS 10544-72-6);

1C111.a.3.c

c) динітропентоксид; (CAS 10102-03-1);

1C111.a.3.d

d) суміші оксидів азоту (MON);

Технічна примітка.
Суміші оксидів азоту (MON) - це розчини оксиду азоту (NO) у тетроксиді діазоту (діоксиді азоту) (N2O4/NO2), що можуть використовуватися в ракетних системах. Існує ряд сполук, що можуть позначатися як MONi або MONij, де і та j є цілими числами, що показують відсотковий вміст оксиду азоту в суміші (наприклад, MON3 містить 3 % оксиду азоту, MON25 - 25 % оксиду азоту. Верхньою межею є MON40, 40 % за вагою).

1C111.a.3.e

e) щодо інгібованої червоної димлячої азотної кислоти (IRFNA) див. Список товарів військового призначення;

1C111.a.3.f

f) щодо сполук, що містять у собі фтор та один або більше інших галогенів, кисень або азот див. Список товарів військового призначення та позицію 1C238;

1C111.a.4

4) похідні гідразину, а саме:

Особлива примітка.
Див. також Список товарів військового призначення.

1C111.a.4.a

a) триметилгідразин (CAS 1741-01-1);

1C111.a.4.b

b) тетраметилгідразин (CAS 6415-12-9);

1C111.a.4.c

c) N,N-діалілгідразин (CAS 5164-11-4);

1C111.a.4.d

d) алілгідразин (CAS 7422-78-8);

1C111.a.4.e

e) етилендігідразин (CAS 6068-98-0);

1C111.a.4.f

f) монометилгідразиндінітрат;

1C111.a.4.g

g) несиметричний диметілгідразиннітрат;

1C111.a.4.h

h) гідразиназид (CAS 14546-44-2);

1C111.a.4.i

i) 1,1-диметилгідразиназид (CAS 227955-52-4),
1,2-диметилгідразиназид (CAS 299177-50-7);

1C111.a.4.j

j) гідразиндинітрат (CAS 13464-98-7);

1C111.a.4.k

k) дігідразиндіімідооксалат (CAS 3457-37-2);

1C111.a.4.l

l) 2-гідроксіетилгідразиннітрат (HEHN);

1C111.a.4.m

m) щодо гідразинперхлорату див. Список товарів військового призначення;

1C111.a.4.n

n) гідразиндіперхлорат (CAS 13812-39-0);

1C111.a.4.o

o) метилгідразиннітрат (MHN) (CAS 29674-96-2);

1C111.a.4.p

p) діетилгідразиннітрат (DEHN);

1C111.a.4.q

q) 3,6-дігідразинтетразин нітрат (1,4-дігідразин нітрат) (DHTN);

1C111.a.4.r

r) гідразинмононітрат (CAS 13464-97-6);

1C111.a.5

5) матеріали з високою густиною енергії, крім тих, що визначені у Списку товарів військового призначення, придатні до використання у "ракетах" або безпілотних літальних апаратах, визначених у позиції 9A012 або 9A112.a;

1C111.a.5.a

a) змішане паливо, до складу якого входить як тверде, так і рідке паливо, таке як бороводневе паливо з густиною енергії на одиницю маси 40 х 106 Дж/кг або більше;

1C111.a.5.b

b) інші палива з високою густиною енергії та паливні добавки (наприклад, кубан, іонні розчини, JP-10), які мають енергетичну щільність на одиницю об'єму 37,5 х 109 Дж/м3 або більше, виміряну за температури 20° C та тиску в одну атмосферу (101,325 кПа);

Примітка.
Згідно з позицією 1C111.a.5.b контролю не підлягають очищені викопні палива і біопалива, вироблені з рослинної сировини, у тому числі палива для двигунів, сертифікованих для використання у цивільній авіації, якщо окремо не зазначено, що вони спеціально призначені для "ракет" або безпілотних літальних апаратів, визначених у позиції 9A012 або 9A112.a.

Технічна примітка.
У позиції 1C111.a.5 "ракета" означає закінчені ракетні системи та безпілотні літальні апарати, здатні досягати дальності понад 300 км.

1C111.a.6

6) палива-замінювачі гідразину, а саме:

1C111.a.6.a

a) 2-діметіламіноетілазід (DMAZ) (CAS 86147-04-8);

1C111.b

b) полімерні речовини:

1C111.b.1

1) полібутадієн з карбоксильними кінцевими групами (містить карбоксилкінцевий полібутадієн) (CTPB);

1C111.b.2

2) полібутадієн з гідроксильними кінцевими групами (містить гідроксилкінцевий полібутадієн) (HTPB), крім того, що визначений у Списку товарів військового призначення;

1C111.b.3

3) полібутадієнакрилова кислота (PBAA);

1C111.b.4

4) полібутадієннітрилакрилова кислота (PBAN);

1C111.b.5

5) сополімер політетрагідрофурану і поліетиленгликолю (TPEG);

Технічна примітка.
Сополімер політетрагідрофурану та поліетиленгликолю (TPEG) є продуктом блоксополімеризації полі-1,4-бутандіола (CAS 110-63-4) та поліетиленгликолю (PEG) (CAS 25322-68-3).

1C111.b.6

6) нітрат поліглициділу (PGN або полі-GLYN) (CAS 27814-48-8).

1C111.c

c) інші добавки та агенти для ракетного палива:

1C111.c.1

1) щодо карборанів, декарборанів, пентаборанів та їх похідних див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.2

2) динітраттриетиленгліколь (TEGDN); (CAS 111-22-8);

1C111.c.3

3) 2-нітродифеніламін (CAS 119-75-5);

1C111.c.4

4) триметилолетантринітрат (TMETN) (CAS 3032-55-1);

1C111.c.5

5) динітратдіетиленгліколь (DEGDN); (CAS 693-21-0);

1C111.c.6

6) похідні фероцену, наведені нижче:

1C111.c.6.a

a) щодо катоцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.b

b) щодо етил-фероцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.c

c) щодо пропіл-фероцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.d

d) щодо N-бутилфероцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.e

e) щодо пентил-фероцену (CAS 1274-00-6) див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.f

f) щодо дициклопентил-фероцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.g

g) щодо дициклогексил-фероцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.h

h) щодо диетил-фероцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.i

i) щодо дипропіл-фероцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.j

j) щодо дибутил-фероцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.k

k) щодо дигексил-фероцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.l

l) щодо ацетил-фероцену (CAS 1271-55-2) /1,1'-диацетил-фероцену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.m

m) щодо фероценкарбонових кислот див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.n

n) щодо бутацену див. Список товарів військового призначення;

1C111.c.6.o

o) інші похідні фероцену, придатні для використання як модифікатори швидкості горіння ракетного палива, крім тих, що визначені у Списку товарів військового призначення;

Примітка.
Згідно з позицією 1C111.c.6.o контролю не підлягають похідні фероцену, що містять ароматичну функціональну групу з шістьма атомами вуглецю, з'єднану з молекулою фероцену.

1C111.c.7

7) 4,5-діазідометіл-2-метил-1,2,3-триазол (iso-DAMTR), крім того, що визначений у Списку товарів військового призначення;

1C111.d

d) "гелеподібні ракетні палива", крім тих, що визначені у Списку товарів військового призначення, спеціально призначені для використання у "ракетах" або безпілотних літальних апаратах, визначених у позиції 9A012 або 9A112.a.

Технічні примітки.

1. "Гелеподібне ракетне паливо" - це пальне або окислювач, до складу яких входять такі гелеутворювачі, як силікати, каолін (глина), вуглець або будь-які полімерні гелеутворювачі.

2. У позиції 1C111.d "ракета" означає закінчені ракетні системи та безпілотні літальні апарати, здатні досягати дальності понад 300 км.

Примітка.
Щодо ракетних палив та хімічних складових ракетних палив, не зазначених в позиції 1C111, див. Список товарів військового призначення.

1C116

Мартенситностаріючі сталі, що можуть бути використані в "ракетах" і мають усі такі характеристики:

Особлива примітка.
Див. також позицію 1C216.

1C116.a

a) межу міцності при розтягуванні, виміряну при 293 К (20° C), що дорівнює або перевищує:

1C116.a.1

1) 0,9 ГПа на стадії відпаленого твердого розчину; або

1C116.a.2

2) 1,5 ГПа на стадії дисперсійного затвердіння; та

1C116.b

b) будь-яку із зазначених форм:

1C116.b.1

1) листів, пластин чи труб з товщиною стінки або пластини 5 мм або менше;

1C116.b.2

2) трубкоподібні форми з товщиною стінки, що дорівнює або менше 50 мм і мають внутрішній діаметр, що дорівнює або більше 270 мм.

Технічні примітки.

1. Мартенситностаріючі сталі - це сплави на основі заліза, які:

1) у загальному вигляді характеризуються високим вмістом нікелю, дуже низьким вмістом вуглецю, а також використанням елементів заміщення або преципітатів для зміцнення та дисперсного твердіння сплаву; та

2) пройшли цикли термообробки з метою сприяння процесу мартенсітної трансформації (стадія аустенізуючого відпалу) з подальшим твердінням (стадія дисперсного твердіння).

2. У позиції 1C116 "ракета" означає закінчені ракетні системи та безпілотні літальні апарати, здатні досягати дальності понад 300 км.

1C117

Матеріали для виготовлення компонентів "ракет", наведені нижче:

1C117.a

a) вольфрам і сплави у вигляді частинок із вмістом вольфраму 97 % за вагою або більше та розміром частинок 50 х 10-6 м (50 мкм) або менше;

1C117.b

b) молібден і сплави у вигляді частинок із вмістом молібдену 97 % за вагою або більше та розміром частинок 50 х 10-6 м (50 мкм) або менше;

1C117.c

c) матеріали у твердій формі, що містять вольфрам і мають усі такі характеристики:

1C117.c.1

1) склад матеріалу є одним з таких:

1C117.c.1.a

a) вольфрам і сплави, що містять 97 % за вагою або більше вольфраму;

1C117.c.1.b

b) просочений міддю вольфрам, що містить 80 % за вагою або більше вольфраму, або

1C117.c.1.c

c) просочений сріблом вольфрам, що містить 80 % за вагою або більше вольфраму; та

1C117.c.2

2) придатні до механічного оброблення для виготовлення будь-якого з таких виробів:

1C117.c.2.a

a) циліндри з діаметром 120 мм або більше та довжиною 50 мм або більше;

1C117.c.2.b

b) труби з внутрішнім діаметром 65 мм або більше та товщиною стінки 25 мм або більше і довжиною 50 мм або більше; або

1C117.c.2.c

c) блоки з розмірами 120 мм х 120 мм х 50 мм або більше.

Технічна примітка.
У позиції 1C117 "ракета" означає закінчені ракетні системи та безпілотні літальні апарати, здатні досягати дальності понад 300 км.

1C118

Легована титаном дуплексна нержавіюча сталь (Ti-DSS), яка має усе з наведеного нижче:

1C118.a

a) має усі наведені нижче характеристики:

1C118.a.1

1) вміст 17 - 23 % хрому за вагою та 4,5 - 7 % нікелю за вагою;

1C118.a.2

2) вміст титану більше ніж 0,1 % за вагою; та

1C118.a.3

3) феритно-аустенітну мікроструктуру (також відому як двофазна мікроструктура), в якій щонайменше 10 об'ємних відсотків є аустеніт (згідно з ASTM E-1181-87 або його національними еквівалентами); та

1C118.b

b) має будь-яку з наведених нижче форм:

1C118.b.1

1) зливків або болванок, які мають розмір 100 мм або більше в кожному вимірі;

1C118.b.2

2) листів завширшки 600 мм або більше та завтовшки 3 мм або менше; або

1C118.b.3

3) труб із зовнішнім діаметром 600 мм або більше і товщиною стінки 3 мм або менше.

1C202

Сплави, крім тих, що визначені у позиції 1C002.b.3 або 1C002.b.4, а саме:

1C202.a

a) алюмінієві сплави, що мають обидві такі характеристики:

1C202.a.1

1) "здатні мати" межу міцності при розтягуванні 460 МПа або більше за температури 293 К (20° C); та

1C202.a.2

2) виготовлені у формі труб або циліндричних твердих форм (включаючи поковки) із зовнішнім діаметром понад 75 мм;

1C202.b

b) титанові сплави, що мають обидві такі характеристики:

1C202.b.1

1) "здатні мати" межу міцності при розтягуванні 900 МПа або більше за температури 293 К (20° C); та

1C202.b.2

2) мають форму труб або циліндричних твердих форм (включаючи поковки) із зовнішнім діаметром понад 75 мм;

Технічна примітка.
Вираз "здатні мати" стосовно сплавів охоплює їх властивості до або після термічної обробки.

1C210

"Волокнисті або ниткоподібні матеріали" або препреги, крім тих, що визначені у позиції 1C010.a, 1C010.b або 1C010.e, а саме:

1C210.a

a) вуглецеві чи арамідні "волокнисті або ниткоподібні матеріали", що мають будь-яку з таких характеристик:

1C210.a.1

1) "питомий модуль пружності" 12,7 х 106 м або більше; або

1C210.a.2

2) "питому міцність при розтягуванні" 23,5 х 104 м або більше;

Примітка.
Згідно з позицією 1C210.a контролю не підлягають арамідні "волокнисті або ниткоподібні матеріали", що містять 0,25 % за вагою або більше поверхневого модифікатора волокон на основі складного ефіру;

1C210.b

b) скляні "волокнисті або ниткоподібні матеріали", що мають обидві такі характеристики:

1C210.b.1

1) "питомий модуль пружності" 3,18 х 106 м або більше; та

1C210.b.2

2) "питому міцність при розтягуванні" 7,62 х 104 м або більше;

1C210.c

c) просочені термореактивною смолою безперервні "пряжі", "ровінги", "джгути" або "стрічки" завширшки 1 м або менше (препреги), виготовлені з вуглецевих або скляних "волокнистих або ниткоподібних матеріалів", визначених у позиції 1C210.a або 1C210.b.

Технічна примітка.
Смола утворює матрицю композиту.

Примітка.
У позиції 1C210 термін "волокнисті або ниткоподібні матеріали" обмежено до безперервних
"моноволокон", "пряж", "ровінгів", "джгутів" або "стрічок".

1C216

Мартенситностаріюча сталь, крім тієї, що визначена в позиції 1C116, "здатна мати" межу міцності при розтягуванні 1950 МПа або більше за температури 293 K (20° C).

Примітка.
Згідно з позицією 1C216 контролю не підлягають вироби, жоден лінійний розмір яких не перевищує 75 мм.

Технічна примітка.
Вираз "здатна мати" стосовно мартенситностаріючої сталі охоплює її властивості до або після термічної обробки.

1C225

Бор, збагачений ізотопом бор-10 (10B) відносно вмісту цього ізотопу у природному борі, а саме: елементарний бор, сполуки, суміші, що містять бор, вироби з них, відходи або металобрухт з будь-чого зазначеного вище.

Примітка.
У позиції 1C225 суміші, що містять бор, включають матеріали, насичені бором.

Технічна примітка.
Вміст ізотопу бор-10 у природному борі становить приблизно 18,5 % за вагою (20 атомних відсотків).

1C226

Вольфрам, карбід вольфраму та сплави вольфраму, що містять понад 90 % вольфраму за вагою, крім тих, що визначені у позиції 1C117, і мають обидві наведені нижче характеристики:

1C226.a

a) форму пустотілого симетричного циліндра (включаючи сегменти циліндра) з внутрішнім діаметром в інтервалі від 100 мм до 300 мм; та

1C226.b

b) масу понад 20 кг.

Примітка.
Згідно з позицією 1C226 контролю не підлягають вироби, спеціально спроектовані як гирі або коліматори гамма-випромінювання.

1C227

Кальцій, що має обидві такі характеристики:

1C227.a

a) вміст металевих домішок, крім магнію, менше 1000 частин на млн. за вагою; та

1C227.b

b) вміст бору менше 10 частин на млн. за вагою.

1C228

Магній, що має усі такі характеристики:

1C228.a

a) вміст металевих домішок, крім кальцію, менше 200 частин на млн. за вагою; та

1C228.b

b) вміст бору менше 10 частин на млн. за вагою.

1C229

Вісмут, що має обидві такі характеристики:

1C229.a

a) чистоту 99,99 % або більше за вагою; та

1C229.b

b) містить срібла менше 10 частин на млн. за вагою.

1C230

Берилій металевий, сплави, що містять більше 50 % берилію за вагою, сполуки берилію та вироби з них, відходи або брухт з будь-чого, зазначеного у цій позиції, крім тих, що визначені у Списку товарів військового призначення.

Особлива примітка.
Див. також Список товарів військового призначення.

Примітка.
Згідно з позицією 1C230 контролю не підлягають:

a) металеві вікна для рентгенівських апаратів або для пристроїв для каротажу свердловин;

b) профілі з оксиду берилію у готовому вигляді або у вигляді напівфабрикатів, спеціально призначені для електронних блоків або як підкладки для електронних схем;

c) берили (силікат берилію і алюмінію) у вигляді смарагдів або аквамаринів.

1C231

Гафній як метал, сплави та сполуки гафнію, що містять понад 60 % гафнію за вагою, вироби з них, відходи або металобрухт з будь-чого зазначеного у цій позиції.

1C232

Гелій-3 (3He), суміші, які містять гелій-3, та вироби або прилади, які містять будь-що згадане вище.

Примітка.
Згідно з позицією 1C232 контролю не підлягають вироби або прилади, які містять менше 1 г гелію-3.

1C233

Літій, збагачений ізотопом літій-6 (6Li) відносно вмісту цього ізотопу в природному літії, та вироби або пристрої, що містять збагачений літій, а саме: елементарний літій, сплави, сполуки, суміші, що містять літій, вироби з них, відходи або металобрухт з будь-чого зазначеного у цій позиції.

Примітка.
Згідно з позицією 1C233 контролю не підлягають термолюмінісцентні дозиметри.

Технічна примітка.
Вміст ізотопу літій-6 у природному літії становить приблизно 6,5 % за вагою (7,5 атомного відсотка).

1C234

Цирконій із вмістом гафнію менше 1 частини гафнію до 500 частин цирконію за вагою, а саме: у вигляді металу, сплавів, що містять понад 50 % цирконію за вагою, та сполуки і вироби з них, відходи та металобрухт з будь-чого зазначеного вище у цій позиції, крім тих, що визначені у позиції 0A001.f.

Примітка.
Згідно з позицією 1C234 контролю не підлягає цирконій у вигляді фольги завтовшки 0,10 мм або менше.

1C235

Тритій, тритієві сполуки, суміші, що містять тритій, у яких його частка у загальній кількості атомів водню перевищує 1 на 1000, та вироби або пристрої, що містять будь-що із зазначеного у цій позиції.

Примітка.
Згідно з позицією 1C235 контролю не підлягають вироби або пристрої, що містять менше 1,48 х 103 ГБк (40 Кюрі) тритію.

1C236

"Радіонукліди", придатні до виготовлення джерел нейтронів на основі альфа-нейтронної реакції, крім тих, що визначені у позиціях 0C001 та 1C012.a, у таких формах:

1C236.a

a) елементарна;

1C236.b

b) сполуки із сумарною альфа-активністю 37 ГБк/кг (1 Кюрі/кг) або більше;

1C236.c

c) суміші із сумарною альфа-активністю 37 ГБк/кг (1 Кюрі/кг) або більше;

1C236.d

d) вироби або пристрої, що містять будь-що із зазначеного у цій позиції.

Примітка.
Згідно з позицією 1C236 контролю не підлягають вироби або пристрої, що містять радіонукліди з альфа-активністю менше 3,7 ГБк (100 мілікюрі).

Технічна примітка.
У позиції 1C236 під "радіонуклідами" маються на увазі такі ізотопи:

актиній-225 (Ac-225);

актиній-227 (Ac-227);

каліфорній-253 (Cf-253);

кюрій-240 (Cm-240);

кюрій-241 (Cm-241);

кюрій-242 (Cm-242);

кюрій-243 (Cm-243);

кюрій-244 (Cm-244);

ейнштейній-253 (Es-253);

ейнштейній-254 (Es-254);

гадоліній-148 (Gd-148);

плутоній-236 (Pu-236);

плутоній-238 (Pu-238);

полоній-208 (Po-208);

полоній-209 (Po-209);

полоній-210 (Po-210);

радій-223 (Ra-223);

торій-227 (Th-227);

торій-228 (Th-228);

уран-230 (U-230);

уран-232 (U-232).

1C237

Радій-226 (226Ra), сплави радію-226, сполуки радію-226, суміші, що містять радій-226, вироби з них, а також продукти або пристрої, що містять будь-що із зазначеного у цій позиції.

Примітка.

Згідно з позицією 1C237 контролю не підлягають:

a) медичні аплікатори;

b) вироби або прилади, які містять не більше 0,37 ГБк (10 мілікюрі) радію-226.

1C238

Трифторид хлору (ClF3).

1C239

Потужні вибухові речовини, крім тих, що визначені у Списку товарів військового призначення, або суміші, що містять понад 2 % за вагою таких речовин, з кристалічною густиною більше 1,8 г/см3, які мають швидкість детонації понад 8000 м/с.

1C240

Порошок нікелю та пористий металевий нікель, крім тих, що визначені в позиції 0C005, а саме:

1C240.a

a) порошок нікелю, що має обидві наведені нижче характеристики:

1C240.a.1

1) чистота нікелю 99 % за вагою або більше; та

1C240.a.2

2) середній розмір частинок, виміряний за стандартом ASTM B330, менше 10 мкм;

1C240.b

b) пористий металевий нікель, виготовлений з матеріалів, визначених у позиції 1C240.a.

Примітка.

Згідно з позицією 1C240 контролю не підлягають:

a) волокнисті нікелеві порошки;

b) окремі листи пористого металевого нікелю, що мають площу 1000 см2 на лист або менше.

Технічна примітка.
Позиція 1C240.b стосується пористого металу, виготовленого пресуванням і спіканням матеріалів, зазначених у позиції 1C240.a, для утворення металевого матеріалу з тонкими порами, внутрішньо зв'язаними по всій структурі.

1C241

Реній та сплави ренію, які містять ренію 90 % або більше; а також сплави ренію та вольфраму, які містять 90 % або більше будь-якої комбінації ренію і вольфраму, крім тих, що визначені у позиції 1C226, і мають обидві такі характеристики:

1C241.a

a) у формі порожнього симетричного циліндра (включаючи сегменти циліндра) з внутрішнім діаметром від 100 до 300 мм; та

1C241.b

b) масою більше 20 кг.

1C350

Хімікати, що можуть бути використані як прекурсори для токсичних хімічних речовин, наведені нижче, та "хімічні суміші", що містять один або більше таких хімікатів:

Особлива примітка.
Див. також Список товарів військового призначення та позицію 1C450.

1C350.1

1) тіодигліколь (CAS 111-48-8, A1);

1C350.2

2) хлорокис фосфору (CAS 10025-87-3, A2);

1C350.3

3) диметил метилфосфонат (CAS 756-79-6, A56);

1C350.4

4) щодо метил дифтор фосфоніл (CAS 676-99-3, A4) див. Список товарів військового призначення;

1C350.5

5) метилфосфоніл дихлорид (CAS 676-97-1, A5);

1C350.6

6) диметилфосфіт (CAS 868-85-9, A6);

1C350.7

7) фосфор трихлорид (CAS 7719-12-2, A7);

1C350.8

8) триметилфосфіт (CAS 121-45-9, A8);

1C350.9

9) тіоніл хлорид (CAS 7719-09-7, A9);

1C350.10

10) 3-гідрокси-1-метилпіперідин (CAS 3554-74-3, A10);

1C350.11

11) 2-діізопропіламіноетилхлорид (CAS 96-79-7, A11);

1C350.12

12) 2-діізопропіламіноетантіол (CAS 5842-07-9, A12);

1C350.13

13) 3-хінуклідинол (CAS 1619-34-7, A13);

1C350.14

14) фторид калію (CAS 7789-23-3, A14);

1C350.15

15) етиленхлоргідрин: 2-хлоретанол (CAS 107-07-3, A15);

1C350.16

16) диметиламін (CAS 124-40-3, A16);

1C350.17

17) діетил етилфосфонат (CAS 78-38-6, A17);

1C350.18

18) діетил-N,N-діметиламідофосфат (CAS 2404-03-7, A18);

1C350.19

19) діетилфосфіт (CAS 762-04-9, A19);

1C350.20

20) диметиламін гідрохлорид (CAS 506-59-2, A20);

1C350.21

21) етилдихлорфосфоніт (CAS 1498-40-4, A21);

1C350.22

22) етилдихлорфосфонат (CAS 1066-50-8, A22);

1C350.23

23) щодо етилдифторфосфонат (CAS 753-98-0, A23) див. Список товарів військового призначення;

1C350.24

24) фторид водню (CAS 7664-39-3, A24);

1C350.25

25) метилбензилат (CAS 76-89-1, A25);

1C350.26

26) метилдихлорфосфоніт (CAS 676-83-5, A26);

1C350.27

27) 2-діізопропіламіноетанол (CAS 96-80-0, A27);

1C350.28

28) пінаколіловий спирт: (CAS 464-07-3, A28);

1C350.29

29) щодо О-етил-О-(2 діізопропіламіноетил) метилфосфоніт (CAS 57856-11-8, A29) див. Список товарів військового призначення;

1C350.30

30) триетилфосфіт (CAS 122-52-1, A30);

1C350.31

31) трихлористий миш'як (арсен(III) хлорид) (CAS 7784-34-1, A31);

1C350.32

32) бензилова кислота (CAS 76-93-7, A32);

1C350.33

33) діетил метилфосфоніт (CAS 15715-41-0, A33);

1C350.34

34) диметил етил фосфонат (CAS 6163-75-3, A34);

1C350.35

35) етилдифторфосфоніт (CAS 430-78-4, A35);

1C350.36

36) метилдифторфосфоніт (CAS 753-59-3, A36);

1C350.37

37) 3-хінуклідинон (CAS 3731-38-2, A37);

1C350.38

38) п'ятихлористий фосфор (CAS 10026-13-8, A38);

1C350.39

39) пінаколін (CAS 75-97-8, A39);

1C350.40

40) ціанід калію (CAS 151-50-8, A40);

1C350.41

41) біфторид калію (CAS 7789-29-9, A41);

1C350.42

42) біфторид амонію (CAS 1341-49-7, A42);

1C350.43

43) фторид натрію (CAS 7681-49-4, A44);

1C350.44

44) біфторид натрію (CAS 1333-83-1, A43);

1C350.45

45) ціанід натрію (CAS 143-33-9, A45);

1C350.46

46) триетаноламін (CAS 102-71-6, A46);

1C350.47

47) пентасульфід фосфору (CAS 1314-80-3, A47);

1C350.48

48) діізопропіламін (CAS 108-18-9, A48);

1C350.49

49) діетиламіноетанол (CAS 100-37-8, A49);

1C350.50

50) сульфід натрію (CAS 1313-82-2, A50);

1C350.51

51) однохлориста сірка (CAS 10025-67-9, A51);

1C350.52

52) двохлориста сірка (CAS 10545-99-0, A52);

1C350.53

53) триетаноламін гідрохлорид (CAS 637-39-8, A53);

1C350.54

54) N,N-діізопропіл-(бета)-аміноетилхлорид хлоргідрат
(CAS 4261-68-1, A54);

1C350.55

55) метилфосфонова кислота (CAS 993-13-5, A55);

1C350.56

56) диетилметилфосфонат (CAS 683-08-9, A56);

1C350.57

57) дихлорид N,N-диметиламінофосфорилу (CAS 677-43-0, A57);

1C350.58

58) фосфіт триізопропілу (CAS 116-17-6, A58);

1C350.59

59) етилдіетаноламін (CAS 139-87-7, A59);

1C350.60

60) О,О-діетил фосфоротіонат (CAS 2465-65-8, A60);

1C350.61

61) О,О-діетил, фосфородитіонат (CAS 298-06-6, A61);

1C350.62

62) гексафторсилікат натрію (CAS 16893-85-9, A62);

1C350.63

63) дихлорид метилфосфонотіону (CAS 676-98-2, A63);

1C350.64

64) діетиламін (CAS 109-89-7).

Примітки.

1. Згідно з позицією 1C350 контролю не підлягають міжнародні передачі до "держав, які не є учасницями Конвенції про заборону хімічної зброї", "хімічних сумішей", що містять одну або більше хімічних речовин, визначених у позиціях 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 та .63, в яких жоден з окремо зазначених хімікатів не становить більше 10 % суміші за вагою.

2. Згідно з позицією 1C350 контролю не підлягають міжнародні передачі до "держав - учасниць Конвенції про заборону хімічної зброї", "хімічних сумішей", що містять одну або більше хімічних речовин, визначених у позиціях 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 та .63, в яких жоден з окремо зазначених хімікатів не становить більше 30 % суміші за вагою.

3. Згідно з позицією 1C350 контролю не підлягають "хімічні суміші", що містять одну або більше хімічних речовин, визначених у позиціях 1C350.2, .6, .7, .8, .9, .10, .14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39, .40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52, .53, .58, .59, .60, .61, .62 та .64, в яких жоден з окремо зазначених хімікатів не становить більше 30 % суміші за вагою.

4. Згідно з позицією 1C350 контролю не підлягають товари, ідентифіковані як споживчі товари, упаковані для продажу в роздріб для особистого користування, або упаковані для індивідуального використання.

1C351

Патогени і "токсини", небезпечні для людей і тварин, а саме:

1C351.a

a) природні, удосконалені або модифіковані віруси у формі ізольованих живих культур, а також матеріали, включаючи живі матеріали, інфіковані культурами, а саме:

1C351.a.1

1) вірус африканської чуми коней (African horse sickness virus);

1C351.a.2

2) вірус африканської чуми свиней (African swine fever virus);

1C351.a.3

3) вірус Андес (Andes virus);

1C351.a.4

4) вірус пташиного грипу та його підтипи, які є:

1C351.a.4.a

a) некласифікованими; або

1C351.a.4.b

b) визначеними у Додатку I (2) Директиви ЄС 2005/94/ЕС (OJ L 10, 14.01.2006, p.16) як високопатогенні, а саме:

1C351.a.4.b.1

1) віруси типу A з ІІВП (індекс інтравенозної патогенності) для шеститижневих курчат більше ніж 1,2; або

1C351.a.4.b.2

2) віруси типу A, підтипу H5 або H7 з кодуючими геномними послідовностями множинних основних амінокислот у сайті розщеплення молекули гемаглютиніну убіквітин специфічними протеазами хазяїна, подібні до інших високопатогенних штамів вірусу пташиного грипу (HPAI);

1C351.a.5

5) вірус блютангу (Bluetongue virus);

1C351.a.6

6) вірус Чапаре (Chapare virus);

1C351.a.7

7) вірус Чикунгунія (Chikungunya virus);

1C351.a.8

8) вірус Чокло (Choclo virus);

1C351.a.9

9) вірус конго-кримської геморагічної лихоманки (Crimean-Congo haemorrhagic fever virus);

1C351.a.10

10) вірус тропічної лихоманки Денге (Denge virus);

1C351.a.11

11) вірус Добрава-Бєлград (Dobrava-Belgrade virus);

1C351.a.12

12) вірус східно-американського енцефаліту коней (Eastern eguine encephalitis virus);

1C351.a.13

13) вірус геморагічної лихоманки Ебола (Ebola virus);

1C351.a.14

14) вірус ящуру;

1C351.a.15

15) вірус віспи кіз;

1C351.a.16

16) вірус південно-американської геморагічної лихоманки Гуанаріто (Guanarito virus);

1C351.a.17

17) вірус геморагічної лихоманки з нирковим синдромом Хантаан (Hantaan virus);

1C351.a.18

18) вірус кінського кору Хендра (Hendra virus);

1C351.a.19

19) вірус герпесу (збудник хвороби Ауєскі) (Pseudorabies virus);

1C351.a.20

20) вірус класичної чуми свиней (Hog cholera virus, Swine fever virus);

1C351.a.21

21) вірус японського енцефаліту (Japanese encephalitis virus);

1C351.a.22

22) вірус аргентинської геморагічної лихоманки Джунін (Junin virus);

1C351.a.23

23) вірус хвороби К'ясанурського лісу (Kyasanur forest disease virus);

1C351.a.24

24) вірус Чорної лагуни (Laguna Negra virus);

1C351.a.25

25) вірус геморагічної гарячки Ласса (Lassa virus);

1C351.a.26

26) вірус шотландського енцефаліту овець (Louping ill virus);

1C351.a.27

27) вірус Луйо (Lujo virus);

1C351.a.28

28) збудник нодулярного дерматиту;

1C351.a.29

29) вірус лімфоцитарного хоріоменінгіту (Lymphocytic choriomeningitis virus);

1C351.a.30

30) вірус Мачупо болівійської геморагічної лихоманки (Machupo virus);

1C351.a.31

31) вірус Марбурга (Marburg virus);

1C351.a.32

32) вірус віспи мавп (Monkey pox virus);

1C351.a.33

33) вірус енцефаліту долини Муррей (Murrey Valley encephalitis virus);

1C351.a.34

34) вірус хвороби Ньюкасла (Avian avulavirus 1);

1C351.a.35

35) вірус Ніпах (Nipah virus);

1C351.a.36

36) вірус омської геморагічної лихоманки (Omsk haemorrhagic fever virus);

1C351.a.37

37) вірус Оропуч (Oropuche virus);

1C351.a.38

38) вірус чуми дрібних жуйних (Peste-des-petits-ruminants virus);

1C351.a.39

39) збудник ентеровірусної везикулярної інфекції свиней, серотип 9 (Swine vesicular disease virus);

1C351.a.40

40) вірус Повассан (Powassan virus);

1C351.a.41

41) збудник сказу (Neuroryctes rabiei) та усі інші представники роду Lissavirus;

1C351.a.42

42) вірус лихоманки долини Ріфт (Rift Valley fever virus);

1C351.a.43

43) збудник чуми великої рогатої худоби (Rinderpest virus);

1C351.a.44

44) вірус Росіо (Rocio virus);

1C351.a.45

45) вірус Сабіа (Sabia virus);

1C351.a.46

46) вірус Сеул (Seoul virus);

1C351.a.47

47) збудник віспи овець (Capripoxvirus);

1C351.a.48

48) вірус Сін Номбре (Sin Nombre virus);

1C351.a.49

49) вірус енцефаліту Сент-Луїс (St Louis encephalitis virus);

1C351.a.50

50) збудник хвороби Тешена (ензоотичного енцефаломієліту) свиней (Porcine teschovirus);

1C351.a.51

51) вірус кліщового енцефаліту (вірус весняно-літнього енцефаліту, далекосхідний підтип, Tick-borne encephalitis virus);

1C351.a.52

52) вірус натуральної віспи (Variola virus);

1C351.a.53

53) вірус венесуельського енцефаліту коней (Venezuelan equine encephalitis virus);

1C351.a.54

54) збудник везикулярного стоматиту (Vesicular stomatitis Indiana virus);

1C351.a.55

55) вірус західного енцефаліту коней (Western equine encephalitis virus);

1C351.a.56

56) вірус жовтої лихоманки (Yellow fever virus);

1C351.a.57

57) коронавірус тяжкого гострого респіраторного синдрому (SARS coronavirus);

1C351.a.58

58) реконструйований вірус іспанського грипу 1918 року;

1C351.b

b) не використовується;

1C351.c

c) природні, удосконалені або модифіковані бактерії у формі "ізольованих живих культур" або як матеріали, включаючи живі матеріали, навмисне заражені або забруднені такими культурами, а саме:

1C351.c.1

1) збудник сибірської виразки (Bacillus anthracis);

1C351.c.2

2) збудник бруцельозу (спонтанного викидню) тварин і людини (Brucella abortus);

1C351.c.3

3) збудник мальтійської лихоманки (Brucella melitensis);

1C351.c.4

4) збудник бруцельозу свиней (Brucella suis);

1C351.c.5

5) збудник сапу (Burkholderia mallei, Pseudomonas mallei);

1C351.c.6

6) збудник меліоідозу (Burkholderia Pseudomallei, Pseudomonas pseudomallei);

1C351.c.7

7) збудник орнітозу (Chlamydophila psittaci, раніше відома як Chlamydia psittaci);

1C351.c.8

8) збудник ботулізму Clostridium argentinense (раніше відомий як Clostridium botulinum, тип G) та його штами-продуценти ботулінічного нейротоксину;

1C351.c.9

9) збудник ботулізму Clostridium baratii та його штами-продуценти ботулінічного нейротоксину;

1C351.c.10

10) збудник ботулізму Clostridium botulinum;

1C351.c.11

11) збудник ботулізму Clostridium butyricum та його штами-продуценти ботулінічного нейротоксину;

1C351.c.12

12) штами Clostridium perfringens, які продукують епсілон-токсини, збудники газової гангрени;

1C351.c.13

13) збудник Ку-лихоманки Coxiella burnetii;

1C351.c.14

14) збудник туляремії Francisella tularensis;

1C351.c.15

15) збудник плевропневмонії кіз та овець Mycoplasma capricolum підвид capripneumoniae (штам F38);

1C351.c.16

16) збудник контагіозної плевропневмонії великої рогатої худоби Mycoplasma mycoides підвид mycoides SC (дрібний);

1C351.c.17

17) збудник висипного тифу Rickettsia prowasecki;

1C351.c.18

18) збудник черевного тифу Salmonella typhi;

1C351.c.19

19) кишкова паличка Escherichia coli (STEC) серологічних груп O26, O45, O103, O104, O111, O121, O145, O157 та інших серологічних груп, що продукують токсин Шига;

Технічна примітка.

Кишкова паличка Escherichia coli (STEC), яка продукує токсин Шига, також відома як ентерогеморагічна кишкова паличка E. coli (EHEC) або E. coli (VTEC), що продукує веротоксин.

1C351.c.20

20) збудник дизентерії Shigella dysenteriae;

1C351.c.21

21) збудник холери Vibrio cholerae;

1C351.c.22

22) збудник чуми Yersinia pestis;

1C351.d

d) "токсини" та "компоненти токсинів", а саме:

1C351.d.1

1) ботулінічні токсини;

1C351.d.2

2) альфа, бета-1, бета-2, епсілон та йота токсини Clostridium perfringens;

1C351.d.3

3) конотоксин;

1C351.d.4

4) рицин;

1C351.d.5

5) сакситоксин;

1C351.d.6

6) токсин Шига;

1C351.d.7

7) ентеротоксини золотистого стафілококу Staphylococcus aureus, альфа-гемолізин, токсин синдрому токсичного шоку (раніше відомий як стафілококовий ентеротоксин F);

1C351.d.8

8) тетродотоксин;

1C351.d.9

9) веротоксин і шигаподібні токсини інактиватори рибосом;

1C351.d.10

10) мікроцистин (циангінозин)

1C351.d.11

11) афлатоксин;

1C351.d.12

12) абрін;

1C351.d.13

13) токсини холери;

1C351.d.14

14) діацетоксіцирпеноловий токсин

1C351.d.15

15) токсин Т-2;

1C351.d.16

16) токсин НТ-2;

1C351.d.17

17) модецин;

1C351.d.18

18) волкенсин;

1C351.d.19

19) лектин 1 омели білої (віскумін);

Примітка.
Згідно з позицією 1C351.d контролю не підлягають ботулічні токсини або конотоксини у вигляді продуктів, які відповідають усім таким умовам:

1) є фармацевтичними препаратами, призначеними для використання в медицині;

2) розфасовані для розповсюдження як медичні засоби;

3) схвалені державними органами для продажу як медичні товари.

1C351.e

e) природні, удосконалені або модифіковані гриби у формі "ізольованих живих культур" або як матеріали, у тому числі живі матеріали, навмисно заражені або забруднені такими культурами, а саме:

1C351.e.1

1) паразитичний грибок Coccidioides immitis, збудник кокцидіоілозу;

1C351.e.2

2) паразитичний грибок Coccidioides posadasii, збудник кокцидіоідомікозу.

Примітка.
Згідно з позицією 1C351.d контролю не підлягають
"вакцини" або "імунотоксини".

1C352

Не використовується.

1C353

Генетичні елементи та генетично модифіковані організми, а саме:

1C353.a

a) генетично модифіковані організми або генетичні елементи, які містять послідовності нуклеїнових кислот, пов'язані із патогенністю мікроорганізмів, визначених у позиції 1C351.a, 1C351.c, 1C351.e або 1C354;

1C353.b

b) генетично модифіковані організми або генетичні елементи, які містять послідовності нуклеїнових кислот, що кодують будь-який з "токсинів" або "компонентів токсинів", визначених у позиції 1C351.d.

Технічні примітки.

1. Генетично модифіковані організми включають організми, в яких генетичний матеріал (послідовності нуклеїнових кислот) змінено таким шляхом, який не зустрічається у природі при схрещуванні та/або природному мутагенезі, та охоплюють такі мікроорганізми, які повністю або частково одержані штучним шляхом.

2. До генетичних елементів належать, зокрема, хромосоми, геноми, плазміди, транспозони та вектори як генетично модифіковані, так і немодифіковані, а також повністю або частково синтезовані хімічними методами.

3. Вираз "послідовності нуклеїнових кислот, пов'язані з патогенністю будь-яких мікроорганізмів, визначених у позиції 1C351.a, 1C351.c, 1C351.e або 1C354", означає будь-яку послідовність, специфічну для відповідного мікроорганізму, яка:

a) сама по собі або через продукти, одержані в результаті її транскрипції або трансляції, становить значну загрозу для здоров'я людини, тварин або рослин; або

b) відома тим, що підсилює здатність зазначеного мікроорганізму або будь-якого іншого організму, до якого вона може бути введена або іншим чином інтегрована, завдати серйозної шкоди здоров'ю людини, тварин або рослин.

Примітка.
Згідно з позицією 1C353 контролю не підлягають послідовності нуклеїнових кислот, пов'язані з патогенністю ентерогеморагічної кишкової палички (enterohaemorrhagic Escherichia coli) серотипу О157, інших веротоксин-продукуючих штамів, відмінних від тих, що кодують веротоксин або його компоненти.

1C354

Патогени, небезпечні для рослин, а саме:

1C354.a

a) природні, удосконалені або модифіковані віруси у формі "ізольованих живих культур" або як матеріали, у тому числі живі матеріали, навмисне заражені або забруднені культурами, а саме:

1C354.a.1

1) андійський латентний тимовірус картоплі;

1C354.a.2

2) віроїд веретеноподібності бульб картоплі;

1C354.b

b) природні, удосконалені або модифіковані бактерії у формі "ізольованих живих культур" або як матеріали, у тому числі живі матеріали, навмисне заражені або забруднені культурами, а саме:

1C354.b.1

1) збудник бактеріозу цукрової тростини Xanthomonas albilineans;

1C354.b.2

2) збудники бактеріального раку цитрусових Xanthomonas campestris pv. citri, в тому числі штами A, B, C, D, E або інакше класифіковані як Xanthomonas citri, Xanthomonas campestris pv. aurantifolia або Xanthomonas campestris pv. citrumelo;

1C354.b.3

3) збудник бактеріального опіку рису Xanthomonas pryzae pv. oryzae (Pseudomonas campestris pv. pryzae);

1C354.b.4

4) збудник кільцевої гнилі картоплі Clavibacter michiganensis, підвид sepedonicus (Corynebacterium michiganens subsp. sepedonicum або Corynebacterium sepedonicum);

1C354.b.5

5) збудник бурої бактеріальної гнилі Ralstonia solanacearum, раса 2 біотип 3 (Pseudomonas solanacearum, раса 2 біотип 3 або Burkholeria solanacearum, раса 2 біотип 3);

1C354.c

c) природні, удосконалені або модифіковані гриби у формі "ізольованих живих культур" або як матеріали, у тому числі живі матеріали, навмисне заражені або забруднені культурами, а саме:

1C354.c.1

1) збудник антракнозу кавових дерев Colletotrichum kahawae (Colletotrichum coffeanum var. virulans);

1C354.c.2

2) збудник гельмінтоспоріозу рису Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae);

1C354.c.3

3) збудник грибкового опіку листя гевеї Microcyclus ulei (син. Dothidella ulei);

1C354.c.4

4) збудник стеблової іржі пшениці Puccinia graminis ssp. graminis var. graminis / Puccinia graminis ssp. graminis var. stakmanii;

1C354.c.5

5) збудник жовтої іржі пшениці Puccinia striiformis (син. Puccinia glumarum);

1C354.c.6

6) збудник пірикуляриозу рису Magnaporthe oryzae (Pyricularia oryzae).

1C354.c.7

7) збудник несправжньої борошнистої роси Peronosclerospora philippinensis (Peronosclerospora sacchari);

1C354.c.8

8) збудник несправжньої борошнистої роси пшениці Sclerophthora rayssiae var. zeae

1C354.c.9

9) збудник раку картоплі Synchytrium endobioticium

1C354.c.10

10) збудник твердої головні пшениці Tilletia indica

1C354.c.11

11) збудник головні картоплі Thecaphora solani

1C450

Токсичні хімікати та прекурсори токсичних хімікатів, а також "хімічні суміші", що містять один або більше таких хімікатів або прекурсорів, а саме:

Особлива примітка.
Див. також позиції 1C350, 1C351.d та Список товарів військового призначення.

1C450.a

a) токсичні хімікати, а саме:

1C450.a.1

1) амітон: O,O-діетил-S-[2-діетиламіноетил] тіолфосфат і (CAS 78-53-5) відповідні алкіловані та протоновані солі;

1C450.a.2

2) PFIB: 1,1,3,3,3-пентафтор-2-(трифторметил)-1-пропен (CAS 382-21-8);

1C450.a.3

3) щодо BZ: 3-хінуклідинілбензилат (CAS 6581-06-2) див. Список товарів військового призначення;

1C450.a.4

4) фосген: дихлорангідрид вугільної кислоти (CAS 75-44-5);

1C450.a.5

5) хлорціан (CAS 506-77-4);

1C450.a.6

6) ціанистий водень (CAS 74-90-8);

1C450.a.7

7) хлорпікрин: трихлорнітрометан (CAS 76-06-2);

Примітки.

1. Згідно з позицією 1C450 контролю не підлягають міжнародні передачі до "держав, які не є учасницями Конвенції про заборону хімічної зброї", "хімічних сумішей", що містять одну або більше хімічних речовин, визначених у позиціях 1C450.a.1 та a.2, в яких жоден з окремо зазначених хімікатів не становить більше 1 % суміші за вагою.

2. Згідно з позицією 1C450 контролю не підлягають міжнародні передачі до "держав - учасниць Конвенції про заборону хімічної зброї", "хімічних сумішей", що містять одну або більше хімічних речовин, визначених у позиціях 1C450.a.1 та a.2, в яких жоден з окремо зазначених хімікатів не становить більше 30 % суміші за вагою.

3. Згідно з позицією 1C450 контролю не підлягають "хімічні суміші", що містять одну або більше хімічних речовин, визначених у позиціях 1C450.a.1, a.5, a.6 та a.7, в яких жоден з окремо зазначених хімікатів не становить більше 30 % суміші за вагою.

4. Згідно з позицією 1C450 контролю не підлягають товари, ідентифіковані як споживчі товари, упаковані для продажу в роздріб для особистого користування, або упаковані для індивідуального використання.

1C450.b

b) речовини, які можуть використовуватися для створення токсинів, а саме:

1C450.b.1

1) хімікати, крім тих, що визначені у Списку товарів військового призначення або в позиції 1C350, що містять атом фосфору, з яким пов'язана метилова, етилова, пропилова або ізопропилова група, але не інші атоми вуглецю;

Примітка.
Згідно з позицією 1C450.b.1 контролю не підлягає фонофос: O-етил-S-феніл(етил)дитіофосфонат (CAS 944-22-9);

1C450.b.2

2) N,N-діалкіл [метил, етил, пропил або ізопропил] амідодигалогенофосфати, крім дихлорид N,N-диметиламінофосфорилу;

Особлива примітка.
Щодо дихлорид N,N-диметиламінофосфорилу див. позицію 1C350.57.

1C450.b.3

3) діалкіл [метил, етил, пропил або ізопропил]-N,N-діалкіл (метил, етил, пропил або ізопропил) амідофосфати, крім діетил-N, N-диметиламідофосфату, визначеного у позиції 1C350;

1C450.b.4

4) 2-[N,N-діалкіл (метил, етил, пропил або ізопропил) аміно] етилхлориди і відповідні протоновані солі, крім
N,N-діізопропіл-(2)-аміноетилхлориду або N,N-діізопропил-(2)-аміноетилхлоридгідрохлориду, визначених в позиції 1C350;

1C450.b.5

5) N,N-діалкіл [метил, етил, пропил або ізопропил]-2-амідоетаноли і відповідні протоновані солі, крім N,N-діізопропіл-2-аміноетанолу (CAS 96-80-0) та N,N-діетиламіноетанолу (CAS 100-37-8), визначених у позиції 1C350;

Примітка.
Згідно з позицією 1C450.b.5 контролю не підлягають:

a) N,N-диметиламіноетанол (CAS 108-01-0) і відповідні протоновані солі;

b) протоновані солі N,N-диетиламіноетанолу (CAS 100-37-8);

1C450.b.6

6) N,N-діалкіл [метил, етил, пропил або ізопропил] аміноетан-2-тіоли і відповідні протоновані солі, крім N,N-діізопропіл-2-аміноетантіолу, визначеного в позиції 1C350;

1C450.b.7

7) щодо етилдіетаноламіну (CAS 139-87-7) див. позицію 1C350;

1C450.b.8

8) метилдіетаноламін (CAS 105-59-9).

Примітки.

1. Згідно з позицією 1C450 контролю не підлягають міжнародні передачі до "держав, які не є учасницями Конвенції про заборону хімічної зброї","хімічних сумішей", що містять одну або більше хімічних речовин, визначених у позиціях 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5 та .b.6, в яких жоден з окремо зазначених хімікатів не становить більше 10 % суміші за вагою.

2. Згідно з позицією 1C450 контролю не підлягають міжнародні передачі до "держав - учасниць Конвенції про заборону хімічної зброї","хімічних сумішей", що містять одну або більше хімічних речовин, визначених у позиціях 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5 та .b.6, в яких жоден з окремо зазначених хімікатів не становить більше 30 % суміші за вагою.

3. Згідно з позицією 1C450 контролю не підлягають "хімічні суміші", що містять одну або більше хімічних речовин, визначених у позиції 1C450.b.8, в яких жоден з окремо зазначених хімікатів не становить більше 30 % суміші за вагою.

4. Згідно з позицією 1C450 контролю не підлягають товари, ідентифіковані як споживчі товари, упаковані для продажу в роздріб для особистого користування, або упаковані для індивідуального використання.

1C913

Матеріали, які за своїми властивостями можуть бути використані у терористичних цілях:

Примітка.
Імпорт (тимчасове ввезення) товарів, наведених у позиції 1C913, здійснюється за дозволом (висновком) Держекспортконтролю.

1C913.a

a) промислові вибухові речовини та їх компоненти, у тому числі:

1C913.a.1

1) азиди металів, а також вибухові речовини або капсульні композиції, що містять азиди чи комплекси азидів;

1C913.a.2

2) азотна кислота з концентрацією більше ніж 95 %;

1C913.a.3

3) гексанітродифеніламін;

1C913.a.4

4) діетилдифенілсечовина, диметилдифенілсечовина, метилетилдифенілсечовина (централіти);

1C913.a.5

5) діоктилмалеат;

1C913.a.6

6) димний (чорний) порох;

1C913.a.7

7) динітропропанол;

1C913.a.8

8) дифторамін;

1C913.a.9

9) етилендіаміндинітрат (EDDN);

1C913.a.10

10) етил-N,N-дифенілсечовина (несиметрична етилдифенілсечовина);

1C913.a.11

11) емульсійні вибухові речовини, виготовлені з водних розчинів нітратів лужних металів, емульсованих у мінеральних оліях;

1C913.a.12

12) мисливські та інші порохи, що мають сталу швидкість горіння понад 38 мм/с за нормальних умов (тиск 6,89 МПа, температура 294 K (21° C), включаючи нітроцелюлозні порохи, в тому числі двоосновні;

1C913.a.13

13) метил-N,N-дифенілсечовина (несиметрична етилдифенілсечовина);

1C913.a.14

14) нітрат калію;

1C913.a.15

15) нітрогліцерин (або гліцеринтринітрат, тринітрогліцерин);

1C913.a.16

16) нітрокрохмаль;

1C913.a.17

17) нітроцелюлоза;

1C913.a.18

18) пентаеритриттетранітрат (PETN);

1C913.a.19

19) пероксид водню з концентрацією більше ніж 85 %;

1C913.a.20

20) перхлорати та хлорати металів (без амонію);

1C913.a.21

21) пікрат амонію;

1C913.a.22

22) пікрат калію;

1C913.a.23

23) N-піролідинон; 1-метил-2-піролідинон;

1C913.a.24

24) N,N-дифенілсечовина (несиметрична метилдифенілсечовина);

1C913.a.25

25) стифнати металів;

1C913.a.26

26) тетранітронафталін;

1C913.a.27

27) триетилалюміній (ТЕА), триметилалюміній (ТМА) та інші пірофорні алкілові та арилові похідні літію, натрію, магнію, цинку і бору;

1C913.a.28

28) триетиленглікольдинітрат (TEGDN);

1C913.a.29

29) тринітроанізол;

1C913.a.30

30) тринітроксилол;

1C913.a.31

31) тринітронафталін;

1C913.a.32

32) тринітрофенол (пікринова кислота);

1C913.a.33

33) 2,4,6-тринітрорезорцин (стифнінова кислота);

1C913.a.34

34) 2,4,6-тринітротолуол (TNT);

1C913.a.35

35) 2-нітродифеніламін (2-NDPA);

1C913.a.36

36) 4-нітродифеніламін (4-NDPA);

1C913.a.37

37) хлортрифторид;

1C913.b

b) токсичні хімічні речовини та сполуки, а саме:

1C913.b.1

1) акролеїн (альдегід акрилової кислоти) (CAS 107-02-8);

1C913.b.2

2) арсин (миш'яковистий водень) (CAS 7784-42-1);

1C913.b.3

3) бромацетофенон (CAS 70-11-1);

1C913.b.4

4) бромацетон (CAS 598-31-2);

1C913.b.5

5) бромціан (CAS 506-68-3);

1C913.b.6

6) бензилбромід (CAS 100-39-0);

1C913.b.7

7) бензилйодид (CAS 620-05-3);

1C913.b.8

8) брометилетилкетон (CAS 816-40-0);

1C913.b.9

9) бутилтрифторсилан;

1C913.b.10

10) дигідрофенарсазинхлорид (адамсит) (CAS 578-94-8);

1C913.b.11

11) дифенілхлорарсин (CAS 712-48-1);

1C913.b.12

12) дифенілціанарсин;

1C913.b.13

13) етилбромацетат (CAS 105-36-2);

1C913.b.14

14) етилйодацетат (CAS 623-48-3);

1C913.b.15

15) йодацетон (CAS 3019-04-3);

1C913.b.16

16) ксилілбромід (CAS 89-92-9; 620-13-3; 104-81-4);

1C913.b.17

17) кротоновий альдегід (CAS 123-73-9);

1C913.b.18

18) пропілтрифторсилан;

1C913.b.19

19) трихлортриетиламін (CAS 817-09-4);

1C913.b.20

20) трихлорметилхлорформіат (дифосген) (CAS 503-38-8);

1C913.b.21

21) хлор (CAS 7782-50-5);

1C913.b.22

22) хлорангідрид метан сульфокислоти (CAS 124-63-0);

1C913.b.23

23) хлорангідрид бензойної кислоти (CAS 98-88-4);

1C913.b.24

24) хлорангідрид 2-фуранової кислоти (CAS 527-69-5);

1C913.b.25

25) хлорацетон (CAS 78-95-5);

1C913.b.26

26) хлорацетофенон (CAS 532-27-4);

1C913.b.27

27) фосфін (фосфористий водень) (CAS 7803-51-2);

1C913.b.28

28) 2-бромбензилціанід (CAS 19472-74-3);

1C913.b.29

29) 3-бромбензилціанід (CAS 31938-07-5);

1C913.b.30

30) 4-бромбензилціанід (CAS 16532-79-9);

1C913.b.31

31) 8-метил-N-ванілін-6-ноненамід (капсацин) (CAS 404-86-4);

1C913.c

c) будь-які окремі чи у складі інших виробів джерела іонізуючого випромінювання з періодом напіврозпаду більше ніж п'ять років, які мають активність більше ніж 3,7 х 1012 Бк.

Примітка.
Імпорт (тимчасове ввезення) товарів, наведених у позиції 1C913.c, здійснюється за дозволом (висновком) Держекспортконтролю, для одержання якого імпортер разом із заявою подає Держекспортконтролю позитивний висновок Держатомрегулювання щодо дотримання імпортером вимог, передбачених для ввезення заявлених товарів на територію України. Відповідні вимоги визначаються Держатомрегулювання в установленому порядку.

1D

Програмне забезпечення.

1D001

"Програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для "розроблення", "виробництва" або "використання" обладнання, визначеного у позиціях 1B001 - 1B003.

1D002

"Програмне забезпечення" для "розроблення" "композиційних матеріалів" або ламінатів з органічною "матрицею", металевою "матрицею" або вуглецевою "матрицею".

1D003

"Програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для забезпечення виконання обладнанням функцій обладнання, визначеного у позиції 1A004.c або 1A004.d.

1D101

"Програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для "використання" товарів, визначених у позиції 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 або 1B119.

1D103

"Програмне забезпечення", спеціально призначене для аналізу зменшення характеристик помітності об'єкта, таких як відбивна здатність цілі, характерні ознаки в ультрафіолетовому та інфрачервоному діапазоні випромінювань та акустична сигнатура.

1D201

"Програмне забезпечення", спеціально призначене для використання в товарах, визначених у позиції 1B201.

1D913

"Програмне забезпечення", спеціально призначене для розроблення, виробництва або використання промислових вибухових речовин та їх компонентів, визначених у позиції 1C913.a.

1E

Технологія, "послуги та роботи".

1E001

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "розроблення" або "виробництва" обладнання або матеріалів, визначених у позиції 1A002 - 1A005, 1A006.b, 1A007, 1B або 1C.

Особлива примітка.
Імпорт
"технології" відповідно до загальної примітки з технології для "розроблення" або "виробництва" матеріалів, що підлягають контролю згідно з позицією 1C012, здійснюється за дозволом Держекспортконтролю.

1E002

Інша "технологія", а саме:

1E002.a

a) "технологія" для "розроблення" або "виробництва" полібензотіазолів або полібензоксазолів;

1E002.b

b) "технологія" для "розроблення" або "виробництва" сполук фтореластомерів, що містять принаймні один мономер вінілового етеру;

1E002.c

c) "технологія" для проектування або "виробництва" наведених нижче керамічних порошків або керамічних матеріалів, що не є "композиційними":

1E002.c.1

1) керамічні порошки, що мають усі такі характеристики:

1E002.c.1.a

a) мають будь-яку з таких композицій:

1E002.c.1.a.1

1) прості або складні оксиди цирконію і складні оксиди кремнію або алюмінію;

1E002.c.1.a.2

2) прості нітриди бору (у вигляді кристалів кубічної форми);

1E002.c.1.a.3

3) прості або складні карбіди кремнію або бору; або

1E002.c.1.a.4

4) прості або складні нітриди кремнію;

1E002.c.1.b

b) мають сумарний вміст металевих домішок (за винятком тих, які вносяться навмисно), що відповідає одній з таких умов:

1E002.c.1.b.1

1) менше ніж 1000 частинок на мільйон для простих оксидів або карбідів; або

1E002.c.1.b.2

2) менше ніж 5000 частинок на мільйон для складних сполук або простих нітридів; та

1E002.c.1.c

c) є одним з таких матеріалів:

1E002.c.1.c.1

1) діоксидом цирконію (CAS 1314-23-4) із середнім розміром частинок 1 мкм або менше, разом з тим не більше ніж 10 % частинок мають розміри більше ніж 5 мкм; або

1E002.c.1.c.2

2) іншими керамічними порошками із середнім розміром частинок 5 мкм або менше, разом з тим не більше ніж 10 % частинок мають розміри більше ніж 10 мкм;

1E002.c.2

2) керамічні матеріали, що не є "композиційними" і складаються з матеріалів, визначених у позиції 1E002.c.1;

Примітка.
Згідно з позицією 1E002.c.1 контролю не підлягають
"технології" для розробки або виробництва абразивних матеріалів.

1E002.d

d) не використовується;

1E002.e

e) "технологія" для монтажу, технічного обслуговування або ремонту/відновлення матеріалів, визначених у позиції 1C001;

1E002.f

f) "технологія" для ремонту конструкцій з "композиційних матеріалів", ламінатів або матеріалів, визначених у позиції 1A002 або 1C007.с;

Примітка.
Згідно з позицією 1E002.f контролю не підлягає
"технологія" ремонту конструкцій "цивільних повітряних суден" з використанням вуглецевих "волокнистих або ниткоподібних матеріалів" та епоксидних смол, що міститься в керівництвах виробників "літальних апаратів".

1E002.g

g) "бібліотеки", спеціально призначені або модифіковані для забезпечення виконання функцій обладнання, зазначеного в позиції 1A004.c або 1A004.d.

1E101

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "використання" товарів, зазначених у позиції 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 - 1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111 - 1C118, 1D101 або 1D103.

1E102

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "розроблення" "програмного забезпечення", зазначеного в позиції 1D001, 1D101 або 1D103.

1E103

"Технологія" для регулювання температури, тиску та складу атмосфери в автоклавах або гідроклавах під час "виробництва" "композиційних матеріалів" або частково оброблених "композиційних матеріалів".

1E104

"Технологія", пов'язана з "виготовленням" матеріалів методом піролітичного газофазного осадження, при цьому матеріали формуються в матриці, оправці або на іншій підкладці з газоподібного прекурсору, який містить речовини, що розкладаються в діапазоні температури від 1573 K (1300° C) до 3173 K (2900° C) при тиску від 130 Па до 20 кПа.

Примітка.
Позиція 1E104 включає технологію, що стосується складу газоподібних прекурсорів, витрат газу, а також графіка контролю та параметрів виробничого процесу.

1E201

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "використання" товарів, зазначених в позиції 1A002, 1A007, 1A202, 1A225 - 1A227, 1B201, 1B225 - 1B233, 1C002.b.3 або 1C002.b.4, 1C010.b, 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 - 1C240 або 1D201.

1E202

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "розроблення" або "виробництва" товарів, зазначених у позиції 1A007, 1A202 або 1A225 - 1A227.

1E203

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "розроблення" "програмного забезпечення", зазначеного в позиції 1D201.

1E901

"Послуги та роботи" (відповідно до пункту 5 загальних приміток до цього Списку) стосовно товарів, зазначених у позиції 1A, 1B, 1C, 1D або 1E.

Додаток до позиції 1A008 розділу 1

Список вибухових речовин

1)

амінодинітробензофуроксан (ADNBF) або 7-аміно-4,6-динітробензофуразан-1-оксид (CAS 97096-78-1);

2)

цис-біс (5-нітротетразолато) тетраамін-кобальт (III) перхлорат (BNCP) (CAS 117412-28-9);

3)

діамінодинітробензофуроксан або 5,7-діаміно-4,6-динітробензофуразан-1-оксид (CL-14) (CAS 117907-74-1);

4)

гексанітрогексаазаізовюрцитан (CAS 135285-90-4) (CL-20 або HNIW); клатрати CL-20;

5)

2-(5-ціанотетразолато) пентаамін-кобальт (III) перхлорат (CP) (CAS 70247-32-4);

6)

1,1-діаміно-2,2-дінітроетилен, FOX7 (DADE) (CAS 145250-81-3);

7)

діамінотринітробензол (DATB) (CAS 1630-08-6);

8)

1,4-динітродифуразанопіперазин (DDFP);

9)

2,6-діаміно-3,5-динітропіразин-1-оксид, PZO (DDPO) (CAS 194486-77-6);

10)

3,3'-діаміно-2,2',4,4',6,6'-гексанітродифеніл або дипікрамід (DIPAM) (CAS 17215-44-0);

11)

динітрогліколурил (DNGU, DINGU) (CAS 55510-04-8);

12)

фуразани:

a) діаміноазоксифуразан (DAAOF);

b) діаміноазофуразан (DAAzF) (CAS 78644-90-3);

13)

октоген (HMX) та його похідні:

a) циклотетраметилентетранітрамін (CAS 2691-41-0) (HMX); октагідро-1,3,5,7-тетранітро-1,3,5,7-тетразин, 1,3,5,7-тетранітро-1,3,5,7-тетразациклооктан (октоген);

b) дифтораміновані аналоги HMX;

c) 2,4,6,8-тетранітро-2,4,6,8-тетраазабіцикло-[3,3,0]-октанон-3, тетранітросемигліколурил або кетобіциклічний НМХ (K-55) CAS 130256-72-3);

14)

гексанітроадамантан (HNAD) CAS 143850-71-9);

15)

гексанітростильбен (HNS) CAS 20062-22-0);

16)

імідазоли:

a) октагідро-2,5-біс (нітроаміно) імідазо [4,5-d] імідазол (BNNII);

b) 2,4-динітроімідазол (DNI) (CAS 5213-49-0);

c) 1-фторо-2,4-динітроімідазол (FDIA);

d) N-(2-нітротриазол)-2,4-динітроімідазол (NTDNIA);

e) 1-пікрил-2,4,5-тринітроімідазол PTIA);

17)

1-(2 нітротриазол)-2-динітрометиленгідразин (NTNMH);

18)

3-нітро-1,2,4-триазол-5-он (NTO або (ONTA) (CAS 932-64-9);

19)

полінітрокубани з більш як чотирма нітрогрупами;

20)

2,6-біс (пікриламіно)-3,5-динітропіридин (PYX) (CAS 38082-89-2);

21)

циклотриметилентринітрамін (RDX) та його похідні:

a) циклотриметилентринітрамін (RDX) циклоніт; T4; гексагідро-1,3,5-тринітро-1,3,5-триазин; 1,3,5-тринітро-1,3,5-триазациклогексан (гексоген) (CAS 121-82-4);

b) 2,4,6-тринітро-2,4,6- триазациклогексанон (K-6 або кето-RDX) (CAS 115029-35-1);

22)

триаміногуанідиннітрат (TAGN) (CAS 4000-16-2);

23)

триамінотринітробензол (TATB) (CAS 3058-38-6);

24)

3,3,7,7-тетрабіс(дифторамін)октагідро-1,5-динітро-1,5-діазоцин (TEDDZ)

25)

тетразоли:

a) нітротриазоламінотетразол NTAT);

b) 1-N-(2-нітротриазоло)-4-нітротетразол (NTNT);

26)

тринітрофенілметилнітрамін (тетрил)(CAS 479-45-8);

27)

1,4,5,8-тетранітро-1,4,5,8-тетраазадекалін (TNAD) (CAS 135877-16-6);

28)

1,1,3-тринітроазетидин (TNAZ) (CAS 97645-24-4);

29)

тетранітрогліколурил (TNGU, SORGUYL) (CAS 55510-03-7);

30)

1,4,5,8-тетранітро-пирідазино [4,5-d] пирідазин (TNP) (CAS 229176-04-9);

31)

триазини:

a) 2-оксі-4,6-дінітроаміно-s-триазин (DNAM) (CAS 19899-80-0);

b) 2-нітроіміно-5-нітро-гексагідро-1,3,5-триазин (NNHT) (CAS 130400-13-4);

32)

триазоли:

a) 5-азидо-2-нітротриазол;

b) 4-аміно-3,5-дигідрозино-1,2,4-триазолдинітрамід (ADHTDN) (CAS 1614-08-0);

c) 1-аміно-3,5-динітро-1,2,4-триазол (ADNT);

d) [біс-динітротриазол]амін (BDNTA);

e) 3,3'-динітро-5,5-біс-1,2,4-триазол (DBT) (CAS 30003-46-4);

f) динітробістриазол (DNBT) (CAS 70890-46-9);

g) не використовується;

h) 1-N-(2-нітротриазол) 3,5-динітротриазол (NTDNT);

i) 1-пікрил-3,5-динітротриазол (PDNT);

j) тетранітробензотриазолобензотриазол (TACOT) (CAS 25243-36-1);

33)

не зазначені у цьому списку вибухові речовини із швидкістю детонації понад 8700 м/с при максимальній щільності або детонаційному тиску понад 34 ГПа 340 кбар);

34)

не використовується;

35)

нітроцелюлоза (що містить більше ніж 12,5 % азоту);

36)

нітрогліколь;

37)

пентаеритриттетранітрат (PETN);

38)

пікрилхлорид;

39)

2,4,6-тринітротолуол (TNT);

40)

нітрогліцерин (NG);

41)

триперекис триацетона (TATP);

42)

нітрат гуанідина;

43)

нітрогуанідин (NQ) (CAS 556-88-7);

44)

2,4-динітроанізол (DNAN) (CAS 119-27-7);

45)

4,10-динітро-2,6,8,12-тетраоксид-4,10-диазаісовуртзітан (TEX);

46)

гуанілсечовина динітрамід (GUDN, FOX-12) (CAS 217464-38-5);

47)

тетразини, а саме:

a) біс(2,2,2-тринітроетил)-3,6-диамінотетразин (BTAT);

b) 3,6-диаміно-1,2,4,5-тетразин-1,4-диоксид (LAX-112);

48)

енергетичні іонні матеріали, діапазон плавлення яких становить від 343 К (70° C) до 373 К (100° C), із швидкістю детонації понад 6800 м/с або детонаційним тиском понад 18 ГПа (180 кбар);

49)

біс(2,2,2-тринітроетил)-нітрамін (BTNEN) (CAS 19836-28-3);

50)

5,6-(3',4'-фуразано)-1,2,3,4-тетразин-1,3-диоксид (FTDO).

Розділ 2. Оброблення матеріалів

Номер позиції

Найменування та опис товарів

2A

Системи, обладнання і компоненти.

 

Особлива примітка.
Щодо малошумних підшипників див. Список товарів військового призначення.

2A001

Антифрикційні підшипники, системи підшипників та їх компоненти, а саме:

Особлива примітка.
Див. також 2A101.

Примітка.
Згідно з позицією 2A001 контролю не підлягають кулькові підшипники з допусками, встановленими виробниками відповідно до міжнародного стандарту ISO 3290 за класом 5 або нижче.

2A001.a

a) кулькові та нерознімні роликові підшипники, які мають усі допуски, зазначені виробником, відповідно до міжнародного стандарту ISO 492, за 4 класом точності (або національними еквівалентами), або краще, в яких як "кільця", так і "тіла кочення" виготовлені з монелю або берилію;

Примітка.
Згідно з позицією 2A001.a контролю не підлягають конічні роликові підшипники.

Технічні примітки.

1. "Кільце" - це кільцева частина радіального підшипника кочення, що містить одну або більше доріжку кочення (ISO 5593:1997).

2. "Елемент кочення" - це кулька або ролик, який котиться між доріжками кочення (ISO 5593:1997).

2A001.b

b) не використовується;

2A001.c

c) активні магнітні підшипникові системи, в яких використовується будь-що з наведеного нижче:

2A001.c.1

1) матеріали з магнітною індукцією 2,0 Тл або більше і межею плинності понад 414 МПа;

2A001.c.2

2) повністю електромагнітні тривимірні з уніполярним високочастотним підмагнічуванням приводи; або

2A001.c.3

3) високотемпературні (450 K (177° C) і вище) позиційні датчики.

2A101

Радіальні кулькові підшипники, крім тих, що визначені у позиції 2A001, усі допуски яких відповідають класу точності 2 міжнародного стандарту ISO 492 (або класу точності ABEC-9 стандарту ANSI/ABMA Std 20, або еквівалентному класу інших національних стандартів) або краще, і які мають усі такі характеристики:

2A101.a

a) внутрішній діаметр отвору підшипника від 12 мм до 50 мм;

2A101.b

b) зовнішній діаметр зовнішнього кільця підшипника від 25 мм до 100 мм; та

2A101.c

c) ширину від 10 мм до 20 мм.

2A225

Тиглі, виготовлені з матеріалів, стійких до впливу рідких актинідних металів, а саме:

2A225.a

a) тиглі, що мають обидві такі характеристики:

2A225.a.1

1) об'єм від 150 см3 до 8000 см3; та

2A225.a.2

2) виготовлені з будь-якого наведеного нижче матеріалу, який має загальний рівень забруднення 2 % за вагою або менше, або мають покриття з таких матеріалів:

2A225.a.2.a

a) фторид кальцію (CaF2);

2A225.a.2.b

b) цирконат кальцію (метацирконат) (CaZrO3);

2A225.a.2.c

c) сульфід церію (Ce2S3);

2A225.a.2.d

d) оксид ербію (Er2O3);

2A225.a.2.e

e) оксид гафнію (HfO2);

2A225.a.2.f

f) оксид магнію (MgO);

2A225.a.2.g

g) азотований сплав ніобію, титану та вольфраму (приблизно 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W);

2A225.a.2.h

h) оксид ітрію (Y2O3); або

2A225.a.2.i

i) оксид цирконію (ZrO2);

2A225.b

b) тиглі, що мають обидві такі характеристики:

2A225.b.1

1) об'єм від 50 см3 до 2000 см3; та

2A225.b.2

2) виготовлені з танталу, що має чистоту 99,9 % за вагою або вище, або облицьовані ним;

2A225.c

c) тиглі, що мають усі такі характеристики:

2A225.c.1

1) об'єм від 50 см3 до 2000 см3;

2A225.c.2

2) виготовлені з танталу, що має чистоту 98 % за вагою або вище, або облицьовані ним; та

2A225.c.3

3) мають покриття з карбіду, нітриду або бориду танталу, або будь-якої їх комбінації.

2A226

Клапани, що мають усі такі характеристики:

2A226.a

a) "номінальний розмір" (умовний прохід) 5 мм або більше;

2A226.b

b) мають сильфонне ущільнення; та

2A226.c

c) повністю виготовлені з алюмінію, сплаву алюмінію, нікелю або сплаву нікелю, що містить більше 60 % нікелю за вагою, або захищені покриттям з таких матеріалів.

Технічна примітка.
Для клапанів з різними вхідним та вихідним діаметрами "номінальний розмір" (умовний прохід), зазначений у позиції 2A226, відповідає найменшому діаметру.

2B

Обладнання для випробування, контролю та виробництва.

Технічні примітки.

1. Вторинні (додаткові) паралельні осі для контурного оброблення (наприклад, вісь W на горизонтально-розточувальних верстатах або вторинна вісь обертання, центрова лінія якої паралельна головній осі обертання) не зараховуються до загальної кількості контурних осей. Осі обертання не обов'язково передбачають поворот на кут більш як 360°. Вісь обертання може мати привід лінійного переміщення (наприклад, гвинтом або зубчастою шестірнею).

2. Для цілей позиції 2B кількість осей, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування", означає кількість осей, уздовж або навколо яких під час оброблення заготовки здійснюється одночасний та взаємозв'язаний відносний рух заготовки та інструменту. Така кількість не включає будь-які додаткові осі, вздовж або навколо яких здійснюється інший відносний рух у верстаті, такі як:

a) осі систем правки шліфувального круга у шліфувальних верстатах;

b) паралельні осі обертання, призначені для кріплення окремих заготовок;

c) колінеарні осі обертання, призначені для маніпулювання тією ж заготовкою шляхом утримання її в патроні з різних боків.

3. Номенклатура осі визначається відповідно до міжнародного стандарту ISO 841:2001 "Промислові автоматизовані системи та комплексування - числове керування верстатами - номенклатура координатних осей і різновидів руху".

4. Для цілей позицій з 2B001 по 2B009.a "шпиндель, що нахиляється" розглядається як вісь обертання.

5. "Заявлена "повторюваність однонаправленого позиціонування" може бути використана для всіх верстатів кожної моделі як альтернатива випробуванням окремих верстатів, і визначається, як зазначено нижче:

a) виберіть п'ять верстатів моделі, що повинна бути оцінена;

b) проведіть вимірювання повторюваності позиціонування по лінійних осях (R­, RЇ) відповідно до міжнародного стандарту ISO 230-2:2014 і зробіть оцінку "повторюваності однонаправленого позиціонування" для кожної осі кожного з п'яти верстатів;

c) визначте середньоарифметичні значення "повторюваності однонаправленого позиціонування" для усіх осей для всіх п'яти верстатів разом. Ці середньоарифметичні значення "повторюваності однонаправленого позиціонування" (UPR) і будуть заявленими величинами для кожної осі моделі (UPRx, UPRy,...);

d) оскільки в розділі 2 цього Списку зроблено посилання на кожну лінійну вісь, повинно бути стільки "заявлених "повторюваностей однонаправленого позиціонування", скільки є лінійних осей;

e) якщо будь-яка з осей моделі верстата, що не підлягає контролю згідно з позиціями 2B001.a - 2B001.c, має "заявлену "повторюваність однонаправленого позиціонування", що дорівнює або менше, ніж зазначена "повторюваність однонаправленого позиціонування" кожної моделі верстату плюс 0,7 мкм, то виробник кожні вісімнадцять місяців повинен заново підтверджувати величину точності.

6. Для цілей позицій 2B001.a - 2B001.c похибка вимірювання "повторюваності однонаправленого позиціонування" верстатів, визначена у Міжнародному стандарті ISO 230-2:2014 або еквівалентних національних стандартах, не повинна враховуватись.

7. Для цілей позицій 2B001.a - 2B001.c вимірювання параметрів осей повинно здійснюватися відповідно до процедур випробувань, викладених у пункті 5.3.2. Міжнародного стандарту ISO 230-2:2014. Випробування для осей завдовжки більше 2 м необхідно проводити на відрізках завдовжки 2 м. Осі завдовжки більше 4 м потребують кількох випробувань (наприклад, двох випробувань для осей, довжина яких становить від 4 м до 8 м включно; трьох випробувань для осей, довжина яких становить від 8 м до 12 м включно), які проводяться на відрізках завдовжки 2 м, рівномірно розподілених за довжиною осі. Випробувальні відрізки розташовані на однаковій відстані вздовж усієї довжини осі таким чином, що будь-яка надлишкова довжина рівномірно розподіляється до, поміж та після випробувальних відрізків. До протоколу заносять найменше значення "повторюваності однонаправленого позиціонування" серед усіх значень, виміряних для всіх випробувальних відрізків.

2B001

Верстати та будь-які їх комбінації для видалення (або різання) металів, кераміки і "композиційних матеріалів", які відповідно до технічних специфікацій виробника можуть бути оснащені електронними пристроями "числового програмного керування", а саме:

Особлива примітка.
Див. також позицію 2B201.

Примітки.

1. Згідно з позицією 2B001 контролю не підлягають верстати спеціального призначення, застосування яких обмежено виготовленням зубчастих коліс. Щодо таких верстатів див. позицію 2B003.

2. Згідно з позицією 2B001 контролю не підлягають верстати спеціального призначення, застосування яких обмежено виготовленням будь-чого з наведеного нижче:

a) колінчасті вали або кулачкові вали;

b) різальні інструменти або різці;

c) черв'яки екструдерів;

d) гравійовані або ограновані частини ювелірних виробів; або

e) зубні протези.

3. Верстати, що мають щонайменше дві з трьох функціональних можливостей, - токарна обробка, фрезерування або шліфування (наприклад, токарний верстат з функцією фрезерування), повинні оцінюватися за кожною застосовною позицією 2B001.a, 2B001.b або 2B001.c відповідно.

Особлива примітка.
Щодо верстатів, які використовуються для фінішного оброблення оптичних поверхонь, див. позицію 2B002.

2B001.a

a) токарні верстати, що мають дві або більше осі, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування", та будь-яку з таких характеристик:

2B001.a.1

1) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 0,9 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей при ході відповідних осей менше ніж 1 м; або

2B001.a.2

2) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 1,1 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей при ході відповідних осей 1 м або більше;

Примітки.

1. Згідно з позицією 2B001.a контролю не підлягають токарні верстати, спеціально призначені для виробництва контактних лінз, що мають усі такі характеристики:

a) пристрій керування верстатом, обмежений використанням офтальмологічного програмного забезпечення для введення даних для програм оброблення деталей, та

b) відсутні вакуумні затискні патрони.

2. Згідно з позицією 2B001.a контролю не підлягають верстати (Swissturn), призначені лише для поздовжньої обробки пруткових заготовок, якщо максимальний діаметр прутка становить 42 мм або менше та відсутні будь-які можливості для встановлення затискних патронів. Верстати можуть мати технологічні можливості для обробки свердлінням та/або фрезеруванням деталей діаметром менше ніж 42 мм.

2B001.b

b) фрезерувальні верстати, що мають будь-яку з таких характеристик:

2B001.b.1

1) три лінійні осі плюс одна вісь обертання, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування" та мають будь-яку з таких характеристик:

2B001.b.1.a

a) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 0,9 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей при ході відповідних осей менше ніж 1 м; або

2B001.b.1.b

b) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 1,1 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей при ході відповідних осей 1 м або більше;

2B001.b.2

2) п'ять або більше осей, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування" та мають будь-яку з таких характеристик:

2B001.b.2.a

a) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 0,9 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей при ході відповідних осей менше ніж 1 м;

2B001.b.2.b

b) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 1,4 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей при ході відповідних осей 1 м або більше, але менше ніж 4 м; або

2B001.b.2.c

c) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 6,0 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей при ході відповідних осей 4 м або більше;

2B001.b.3

3) "повторюваність однонаправленого позиціонування" для координатно-розточувальних верстатів 1,1 мкм або менше (краще) уздовж однієї або більше лінійних осей; або

2B001.b.4

4) верстати з летючими фрезами, що мають усі такі характеристики:

2B001.b.4.a

a) "биття шпинделя" і "радіальне биття" шпинделя менше (краще) ніж 0,0004 мм TIR; та

2B001.b.4.b

b) кутове відхилення переміщення супорту (поворот відносно вертикальної осі, крок та поворот відносно горизонтальної осі) менше (краще) ніж 2 секунди дуги, TIR на ділянці робочого ходу завдовжки 300 мм;

2B001.c

c) шліфувальні верстати, що мають будь-яку з таких характеристик:

2B001.c.1

1) мають усі такі характеристики:

2B001.c.1.a

a) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 1,1 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей; та

2B001.c.1.b

b) три або більше осі, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування"; або

2B001.c.2

2) п'ять або більше осей, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування" та мають будь-яку з таких характеристик:

2B001.c.2.a

a) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 1,1 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей при ході відповідних осей менше ніж 1 м;

2B001.c.2.b

b) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 1,4 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей при ході відповідних осей 1 м або більше, але менше ніж 4 м; або

2B001.c.2.c

c) "повторюваність однонаправленого позиціонування" дорівнює або менше (краще) ніж 6,0 мкм вздовж однієї або більше лінійних осей при ході відповідних осей 4 м або більше;

Примітка.

Згідно з позицією 2B001.c контролю не підлягають такі шліфувальні верстати:

a) круглошліфувальні, внутрішньошліфувальні та для зовнішнього і внутрішнього шліфування, що мають усі такі характеристики:

1) обмежені круглим шліфуванням; та

2) обмежені максимально можливою довжиною або зовнішнім діаметром заготовки 150 мм;

b) верстати, спеціально спроектовані як координатно-шліфувальні, які не мають z-осі або w-осі та забезпечують "повторюваність однонаправленого позиціонування" меншу (кращу) ніж 1,1 мкм;

c) плоскошліфувальні верстати.

2B001.d

d) верстати для електроіскрового оброблення (EDM) без подачі дроту, що мають дві або більше осей обертання, які можуть одночасно бути скоординовані для "контурного керування";

2B001.e

e) верстати для видалення металів, кераміки або "композиційних матеріалів", що мають усі такі характеристики:

2B001.e.1

1) видалення матеріалу за допомогою будь-чого з наведеного нижче:

2B001.e.1.a

a) струменів води або інших рідин, включаючи струмені з абразивними добавками;

2B001.e.1.b

b) електронного променя; або

2B001.e.1.c

c) променя "лазера"; та

2B001.e.2

2) щонайменше дві осі обертання, які мають усі такі характеристики:

2B001.e.2.a

a) можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування"; та

2B001.e.2.b

b) мають "точність" позиціонування менше (краще) ніж 0,003°;

2B001.f

f) верстати для свердління глибоких отворів і токарні верстати, які модифіковані для свердління глибоких отворів, які мають максимальну глибину свердління понад 5 м.

2B002

Верстати з числовим програмним керуванням для оптичного полірування, обладнані для вибіркового видалення матеріалу з метою створення несферичних оптичних поверхонь, що мають усі такі характеристики:

2B002.a

a) чистове оброблення з допуском менше (краще) 1 мкм;

2B002.b

b) забезпечувати чистове оброблення до шорсткості менше (краще) 100 нм (середньоквадратичне значення);

2B002.c

c) чотири або більше осей, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування"; та

2B002.d

d) використовують будь-який з таких процесів:

2B002.d.1

1) магнітореологічне чистове оброблення ("MRF");

2B002.d.2

2) електрореологічне чистове оброблення ("ERF");

2B002.d.3

3) "чистове оброблення пучками високоенергетичних частинок";

2B002.d.4

4) "чистове оброблення за допомогою інструмента у вигляді надувної мембрани"; або

2B002.d.5

5) "рідинно-струменеве чистове оброблення".

Технічна примітка.

Для цілей позиції 2B002:

1) "MRF" - процес видалення матеріалу за допомогою абразивної магнітної рідини, в'язкість якої регулюється магнітним полем;

2) "ERF" - процес видалення матеріалу з використанням абразивної рідини, в'язкість якої регулюється електричним полем;

3) "чистове оброблення пучками високоенергетичних частинок" - процес, у якому використовується плазма атомів хімічно активних елементів або пучки іонів для вибіркового видалення матеріалу;

4) "чистове оброблення за допомогою інструмента у вигляді надувної мембрани" - процес, у якому використовується мембрана під тиском, яка деформує виріб під час контакту з ним на невеликій ділянці;

5) "рідинно-струменеве чистове оброблення" - процес, у якому використовується потік рідини для видалення матеріалу.

2B003

Верстати з "числовим програмним керуванням" або ручним керуванням і спеціально призначені для них компоненти, обладнання для контролю та оснащення, спеціально призначені для шевінгування, чистового оброблення, шліфування або хонінгування загартованих (Rc = 40 або більше) прямозубих циліндричних, одно- або двозахідних черв'ячних (гвинтових) шестерень з діаметром понад 1250 мм та шириною поверхні зуба, що дорівнює 15 % діаметра або більше, з якістю чистового оброблення AGMA 14 або краще (відповідно до міжнародного стандарту ISO 1328 за класом 3).

2B004

Гарячі "ізостатичні преси", що мають усі такі характеристики, та спеціально призначені для них компоненти та аксесуари:

Особлива примітка.
Див. також позиції 2B104 та 2B204.

2B004.a

a) регульовані теплові умови всередині замкненої порожнини та внутрішній діаметр робочої камери дорівнює 406 мм або більше; та

2B004.b

b) мають будь-яку з таких характеристик:

2B004.b.1

1) максимальний робочий тиск понад 207 МПа;

2B004.b.2

2) регульовані температури понад 1773 K (1500° C); або

2B004.b.3

3) обладнання для насичення вуглеводнем і виведення газоподібних продуктів розкладу.

Технічна примітка.
Внутрішній розмір камери - розмір камери, в якій досягаються як робоча температура, так і робочий тиск, і він не включає внутрішню арматуру. Цей розмір буде визначатися меншим з двох внутрішніх діаметрів: прес-камери або ізольованої пічної камери залежно від того, яка із зазначених камер міститься в іншій.

Особлива примітка.
Щодо спеціально призначених штампів, форм та інструментів див. позиції 1B003, 9B009 та Список товарів військового призначення.

2B005

Обладнання, спеціально спроектоване для осадження, оброблення та автоматичного керування у процесі нанесення неорганічних покриттів, шарів та модифікації властивостей поверхні, наведене нижче, для підкладок, визначених у колонці 2 за допомогою процесів, наведених у колонці 1 таблиці, наведеної після позиції 2E003.f, а також компоненти, спеціально призначені для автоматизованого регулювання, позиціонування, маніпулювання та керування:

2B005.a

a) виробниче обладнання для хімічного осадження з парової фази (CVD), що має усе з наведеного нижче:

Особлива примітка.
Див. також позицію 2B105.

2B005.a.1

1) процес, модифікований для будь-якого зазначеного нижче методу:

2B005.a.1.a

a) пульсуючого хімічного осадження з парової фази (CVD);

2B005.a.1.b

b) термічного осадження з керованим зародкоутворенням (CNTD); або

2B005.a.1.c

c) CVD, посилене або підтримуване плазмою; та

2B005.a.2

2) використовує будь-що наведене нижче:

2B005.a.2.a

a) високовакуумні (тиск менше або дорівнює 0,01 Па) обертові ущільнення; або

2B005.a.2.b

b) засоби регулювання товщини шару покриття безпосередньо у процесі осадження;

2B005.b

b) виробниче обладнання іонної імплантації із силою струму іонного пучка 5 мА або більше;

2B005.c

c) виробниче обладнання для фізичного осадження з парової фази електронним променем (EB-PVD), до складу якого входять системи електроживлення з розрахунковою потужністю понад 80 кВт та будь-що з наведеного нижче:

2B005.c.1

1) "лазерна" система керування за рівнем випаровувальної ванни, яка точно регулює швидкість подачі злитків; або

2B005.c.2

2) керована комп'ютером система регулювання продуктивності, що діє за принципом фотолюмінесценції іонізованих атомів у потоці речовини, що випаровується, яка регулює швидкість осадження покриття і містить два або більше елементів;

2B005.d

d) виробниче обладнання для плазмового напилення, яке має будь-яку з таких характеристик:

2B005.d.1

1) можливість роботи в атмосфері із регульованим низьким тиском (дорівнює або менше 10 кПа, вимірюваним вище або в межах 300 мм від вихідного перерізу сопла плазмового пальника) у вакуумній камері, здатній забезпечити зниження тиску до 0,01 Па перед процесом напилення; або

2B005.d.2

2) має вбудовані засоби контролю товщини шару покриття у процесі нанесення;

2B005.e

e) виробниче обладнання для іонного напилення, здатне забезпечити густоту струму 0,1 мА/мм2 або більше з продуктивністю напилення 15 мкм/год або більше;

2B005.f

f) виробниче обладнання для катодно-дугового напилення із системою електромагнітів для керування плямою дуги на катоді;

2B005.g

g) виробниче обладнання для іонного осадження, здатне вимірювати безпосередньо під час технологічного процесу будь-які з таких характеристик:

2B005.g.1

1) товщину покриття на підкладці та величину продуктивності; або

2B005.g.2

2) оптичні характеристики.

Примітка.
Згідно з позиціями 2B005.a, 2B005.b, 2B005.e, 2B005.f та 2B005.g контролю не підлягає обладнання для нанесення покриття методом хімічного осадження з парової фази, катодно-дугового напилення та осадження методом розпилення, іонного осадження або іонної імплантації, спеціально призначене для різальних або обробних інструментів.

2B006

Системи або обладнання для вимірювання або контролю розмірів та "електронні блоки", а саме:

2B006.a

a) координатно-вимірювальні машини (CMM), керовані комп'ютером або блоком "числового програмного керування", що мають тривимірну (об'ємну) максимально допустиму похибку вимірювання довжини (E0,MPE) в будь-якій точці в межах робочого діапазону машини (тобто в межах довжини осі), що дорівнює або менше (краще) ніж (1,7 + L/1000) мкм (де L - довжина, що вимірюється, в міліметрах), відповідно до міжнародного стандарту ISO 10360-2 (2009);

Технічна примітка.
Максимально допустиму похибку вимірювання довжини E0,МРЕ для найбільш точної конфігурації координатно-вимірювальної машини (CMM), зазначену виробником (наприклад, найкраще з наведеного далі: датчик, довжина пера, параметри руху, умови експлуатації) та з
"усіма доступними компенсаціями" слід порівнювати з пороговою величиною (1,7 + L/1000) мкм.

Особлива примітка.
Див. також позицію 2B206.

2B006.b

b) прилади для вимірювання лінійних або кутових переміщень, а саме:

2B006.b.1

1) прилади для вимірювання "лінійних переміщень", що мають будь-яку з таких систем:

Примітка.
Системи для вимірювання переміщень на основі інтерферометричних та оптичних кодуючих пристроїв, що містять
"лазер", підлягають контролю лише згідно з позиціями 2B006.b.1.c та 2B206.c.

Технічна примітка.
Для цілей позиції 2B006.b.1 "лінійне переміщення" означає зміну відстані між контактною вимірювальною головкою та об'єктом вимірювання.

2B006.b.1.a

a) вимірювальні системи безконтактного типу з "роздільною здатністю", що дорівнює або менше (краще) ніж 0,2 мкм у діапазоні вимірювань до 0,2 мм;

2B006.b.1.b

b) системи диференційних перетворювачів для вимірювання лінійних переміщень (LVDT), що мають усе наведене нижче:

2B006.b.1.b.1

1) мають будь-що з наведеного нижче:

2B006.b.1.b.1.a

a) "лінійність", що дорівнює або менше (краще) ніж 0,1 %, виміряну від 0 до "границі робочого діапазону" для систем LVDT з "границею робочого діапазону" до ± 5 мм або менше; або

2B006.b.1.b.1.b

b) "лінійність", що дорівнює або менше (краще) ніж 0,1 %, виміряну від 0 до 5 мм для систем LVDT з "границею робочого діапазону" більше ніж ± 5 мм; та

2B006.b.1.b.2

2) боковим відхиленням, що дорівнює або менше (краще) ніж 0,1 % на добу за стандартної температури приміщення, де проводяться випробування щодо впливу навколишнього середовища, ±1 K;

Технічна примітка.
Для цілей 2B006.b.1.b "границею робочого діапазону" вважається половина можливого лінійного переміщення LVDT. Наприклад, LVDT з "границею робочого діапазону" ± 5 мм або менше здатні вимірювати можливе лінійне переміщення у 10 мм.

2B006.b.1.c

c) вимірювальні системи, що мають усе з наведеного нижче:

2B006.b.1.c.1

1) містять "лазер"; та

2B006.b.1.c.2

2) "роздільну здатність" на повній шкалі 0,200 нм або менше (краще); та

2B006.b.1.c.3

3) здатність досягати "похибки вимірювання" (1,6 + L/2000) нм або менше (краще) (де L - виміряна довжина в міліметрах) у будь-якій точці діапазону вимірювання за умови врахування поправки на показник заломлення повітря та проведення вимірів протягом періоду 30 секунд за температури 20 ± 0,01° C; або

2B006.b.1.d

d) "електронні блоки", спеціально призначені для забезпечення функцій зворотного зв'язку в системах, визначених у позиції 2B006.b.1.c;

Примітка.
Згідно з позицією 2B006.b.1 контролю не підлягають вимірювальні інтерферометричні системи із системою автоматичного керування, в якій не передбачено використання зворотного зв'язку, що містять
"лазер" для вимірювання похибок переміщення рухомих частин верстатів, засобів контролю розмірів або подібного обладнання.

2B006.b.2

2) прилади для вимірювання кутових переміщень з "точністю" кутового позиціонування, що дорівнює або менше (краще) ніж 0,00025°;

Примітка.
Згідно з позицією 2B006.b.2 контролю не підлягають такі оптичні прилади, як автоколіматори, що використовують колімоване світло (наприклад, промінь
"лазера") для фіксації кутового відхилення дзеркала.

2B006.c

c) обладнання для вимірювання нерівності поверхні (включаючи поверхневі дефекти) шляхом вимірювання оптичного розсіювання з чутливістю 0,5 нм або менше (краще);

Примітка.
Позиція 2B006 включає верстати, крім тих, що визначені у позиції 2B001, що можуть бути використані як вимірювальні машини, якщо їх параметри відповідають або перевищують критерії, встановлені для функцій вимірювальних машин.

2B007

"Роботи", а також спеціально призначені для них пристрої керування та "виконавчі механізми", що мають будь-яку з таких характеристик:

Особлива примітка.
Див. також позицію 2B207.

2B007.a

a) здатні в реальному масштабі часу здійснювати повне оброблення тривимірного зображення або "аналіз сцен" для генерації чи модифікації "програм", або для генерації чи модифікації цифрових даних програми;

Технічна примітка.
Обмеження, що стосується "аналізу сцен", не включає ні апроксимацію третього виміру за результатами спостереження під заданим кутом, ні обмежену сірою шкалою інтерпретацію сприйняття глибини або текстури для затверджених завдань (2 1/2 D).

2B007.b

b) спеціально сконструйовані відповідно до національних стандартів безпеки, що застосовуються до умов роботи з потенційно вибухонебезпечними боєприпасами;

Примітка.
Згідно з позицією 2B007.b контролю не підлягають
"роботи", спеціально призначені для використання в камерах для фарбування шляхом розпилення.

2B007.c

c) спеціально призначені або класифіковані як радіаційностійкі, що витримують більше ніж 5 х 103 Гр (кремній) без погіршення робочих характеристик; або

Технічна примітка.
Термін Гр (кремній) означає енергію в Дж, поглинену неекранованим кремнієвим зразком під дією іонізуючого випромінювання, в розрахунку на один кілограм маси і вимірюється в одиницях Дж/кг.

2B007.d

d) спеціально призначені для операцій на висоті понад 30 тис. м.

2B008

Вузли або блоки, спеціально призначені для верстатів, або системи та обладнання для вимірювання і контролю розмірів, а саме:

2B008.a

a) блоки лінійного положення із зворотним зв'язком, які мають повну "точність" менше (краще) ніж (800 + (600 x L/1000)) нм (L дорівнює ефективній довжині в міліметрах);

Особлива примітка.
Щодо
"лазерних" систем див. також позиції 2B006.b.1.c, 2B006.b.1.d та 2B206.c.

2B008.b

b) блоки кута повороту із зворотним зв'язком, які мають "точність" менше (краще) ніж 0,00025°;

Особлива примітка.
Щодо
"лазерних" систем див. також примітку до позиції 2B006.b.2.

Примітка.
Згідно з позиціями 2B008.a та 2B008.b контролю підлягають блоки, призначені для визначення інформації про позицію для забезпечення зворотного зв'язку, такі як пристрої індуктивного типу, калібровані шкали, інфрачервоні системи або
"лазерні" системи.

2B008.c

c) "комбіновані поворотні столи" або "інструментальні шпинделі, що нахиляються", використання яких за специфікацією виробника може модифікувати верстати до рівня, визначеного у позиції 2B.

2B009

Обкатні вальцювальні та згинальні верстати, які відповідно до технічної специфікації виробника можуть бути обладнані блоками "числового програмного керування" або комп'ютерним керуванням, та мають усе з наведеного нижче:

Особлива примітка.
Див. також позиції 2B109 та 2B209.

2B009.a

a) три або більше осі, що можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування"; та

2B009.b

b) зусилля прижиму ролика понад 60 кН.

Технічна примітка.
Для цілей позиції 2B009 верстати, в яких поєднані функції обкатних вальцювальних та згинальних верстатів, розглядаються як згинальні верстати.

2B104

"Ізостатичні преси", крім тих, що визначені у позиції 2B004, що мають усі такі характеристики:

Особлива примітка.
Див. також позицію 2B204.

2B104.a

a) максимальний робочий тиск 69 МПа або більше;

2B104.b

b) призначені для досягнення і підтримання контрольованого температурного середовища 873 K (600° C) або вище; та

2B104.c

c) мають робочу камеру із внутрішнім діаметром 254 мм або більше.

2B105

Печі для хімічного осадження з парової фази (CVD), крім тих, що визначені в позиції 2B005.a, що призначені або модифіковані для ущільнення вуглець-вуглецевих композиційних матеріалів.

2B109

Обкатні вальцювальні верстати, крім тих, що визначені у позиції 2B009, і спеціально призначені компоненти, а саме:

Особлива примітка.
Див. також позицію 2B209.

2B109.a

a) обкатні вальцювальні верстати, що мають усе з наведеного нижче:

2B109.a.1

1) згідно з технічною специфікацією виробника можуть комплектуватися блоками "числового програмного керування" або комп'ютерного керування, навіть якщо вони не укомплектовані такими блоками; та

2B109.a.2

2) мають більше ніж дві осі, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування".

2B109.b

b) спеціально призначені компоненти для обкатних вальцювальних верстатів, визначених у позиції 2B009 або 2B109.a.

Примітка.
Згідно з позицією 2B109 контролю не підлягають верстати, не придатні для виробництва компонентів ракетних двигунів та обладнання (наприклад, корпусів двигунів та відсіків між ступенями) для систем, визначених у позиції 9A005, 9A007.a або 9A105.a.

Технічна примітка.
Верстати, в яких поєднані функції обкатних вальцювальних та згинальних верстатів, розглядаються як згинальні верстати.

2B116

Вібраційні випробувальні системи, обладнання і компоненти до них, а саме:

2B116.a

a) вібраційні випробувальні системи, в яких використовується повний зворотний зв'язок або метод замкненого контуру і які містять цифровий контролер та здатні утворювати вібраційні перевантаження у 10 g (середньоквадратичне значення) або більше в усьому діапазоні частот від 20 Гц до 2 кГц при штовхальних зусиллях 50 кН або більше, виміряних у режимі "чистого столу";

2B116.b

b) цифрові контролери, які працюють разом із спеціально призначеним для вібраційних випробувань програмним забезпеченням, з "шириною смуги регулювання у реальному масштабі часу", більше ніж 5 кГц, призначені для використання у вібраційних випробувальних системах, визначених у позиції 2B116.a;

Технічна примітка.
У позиції 2B116.b "ширина смуги регулювання у реальному масштабі часу" означає максимальну швидкість, на якій контролер може виконувати повні цикли вибірки, оброблення даних та передачі керуючих сигналів.

2B116.c

c) вібраційні штовхачі (шейкери), оснащені або не оснащені підсилювачами, які можуть створювати зусилля 50 кН або більше, заміряні у режимі "чистого столу", та придатні для використання у вібраційних випробувальних системах, визначених у позиції 2B116.a;

2B116.d

d) конструкції для закріплення зразка, що випробовується, та електронні вузли, призначені для об'єднання багатьох вібраційних штовхачів у систему, яка може забезпечити сумарне зусилля 50 кН або більше, виміряне в режимі "чистого столу", та придатні до використання у вібраційних системах, визначених у позиції 2B116.a.

Технічна примітка.
У позиції 2B116 "чистий стіл" означає пласку платформу або поверхню без елементів кріплення або монтажу.

2B117

Засоби керування обладнанням та технологічним процесом, крім тих, що визначені у позиції 2B004, 2B005.a, 2B104 або 2B105, призначені або модифіковані для ущільнення і піролізу композиційних матеріалів у ракетних соплах та наконечниках спускних апаратів.

2B119

Балансувальні машини та пов'язане з ними обладнання, а саме:

Особлива примітка.
Див. також позицію 2B219.

2B119.a

a) балансувальні машини, що мають усі такі характеристики:

2B119.a.1

1) не здатні до балансування роторів (збірок), що мають масу більше ніж 3 кг;

2B119.a.2

2) здатні до балансування роторів (збірок) із швидкістю більше ніж 12500 об/хв;

2B119.a.3

3) здатні коригувати дисбаланс у двох або більше площинах; та

2B119.a.4

4) здатні до балансування до рівня залишкового питомого розбалансування 0,2 г на мм на 1 кг маси ротора;

Примітка.
Згідно з позицією 2B119.a контролю не підлягають балансувальні машини, призначені або модифіковані для стоматологічного або іншого медичного обладнання.

2B119.b

b) індикаторні головки, призначені або модифіковані для використання з машинами, визначеними у позиції 2B119.a.

Технічна примітка.
Індикаторні головки також відомі як балансувальне контрольно-вимірювальне обладнання.

2B120

Імітатори руху або столи обертання, що мають усі такі характеристики:

2B120.a

a) мають дві осі або більше;

2B120.b

b) призначені або модифіковані для оснащення контактними кільцями або вбудованими безконтактними пристроями, здатними передавати електричну енергію та/або інформаційні сигнали; та

2B120.c

c) мають будь-яку з таких характеристик:

2B120.c.1

1) для будь-якої одиночної осі мають усі такі характеристики:

2B120.c.1.a

a) здатні забезпечити швидкість 400 градусів за секунду чи більше; або 30 градусів за секунду або менше; та

2B120.c.1.b

b) роздільна здатність за швидкістю, що становить 6 градусів за секунду чи менше, та точність, що становить 0,6 градуса за секунду або менше;

2B120.c.2

2) мають у найгіршому разі стабільність, що дорівнює ± 0,05 % або краще, усереднену в діапазоні 10 градусів або більше; або

2B120.c.3

3) "точність" позиціонування дорівнює або менше (краще) ніж 5 кутових секунд.

Примітки.

1. Згідно з позицією 2B120 контролю не підлягають столи обертання, призначені або модифіковані для верстатів або для медичного обладнання. Щодо контролю столів обертання для верстатів див. позицію 2B008.

2. Імітатори руху або столи обертання, визначені у позиції 2B120, залишаються під контролем незалежно від того, встановлені на час здійснення експорту контактні кільця або вбудовані безконтактні пристрої чи ні.

2B121

Столи для позиціонування (обладнання, що забезпечує точне визначення кутового положення за будь-якою віссю), крім тих, що визначені у позиції 2B120, які мають усі такі характеристики:

2B121.a

a) мають дві осі або більше; та

2B121.b

b) "точність" позиціонування, що дорівнює або менше (краще) ніж 5 кутових секунд.

Примітка.
Згідно з позицією 2B121 контролю не підлягають столи обертання, призначені або модифіковані для верстатів або для медичного обладнання. Щодо контролю столів обертання для верстатів див. позицію 2B008.

2B122

Центрифуги, здатні утворювати прискорення більше ніж 100 g, спроектовані або модифіковані для розміщення контактних кілець або вбудованих безконтактних пристроїв, здатних передавати електричну енергію та/або інформаційні сигнали.

Примітка.
Центрифуги, визначені у позиції 2B122, залишаються під контролем незалежно від того, встановлені на час здійснення експорту контактні кільця або вбудовані безконтактні пристрої чи ні.

2B201

Верстати та будь-яка їх комбінація, крім тих, що визначені у позиції 2B001, призначені для видалення або різання металів, кераміки чи "композиційних матеріалів", які відповідно до технічних специфікацій виробника можуть бути обладнані електронними пристроями для одночасного "контурного керування" за двома або більше осями, а саме:

Особлива примітка.
Щодо блоків
"числового програмного керування", що підлягають контролю за пов'язаним з ними "програмним забезпеченням", див. позицію 2D202.

Технічна примітка.
Для кожної моделі верстата замість індивідуальних випробувань верстатів можуть використовуватися паспортні (гарантовані) рівні точності позиціонування, визначені згідно з наведеними нижче процедурами на основі вимірів, виконаних відповідно до стандарту ISO 230-2:1988 (1) або його національних еквівалентів, якщо ці рівні представлені національному компетентному органу і затверджені ним. Паспортні рівні точності позиціонування повинні визначатися так:

a) вибрати п'ять верстатів тієї моделі, що підлягає оцінюванню;

b) виміряти точності вздовж лінійних осей відповідно до стандарту ISO 230-2:1988 (1);

c) визначити значення точності (А) для кожної осі кожного верстата. Метод розрахунку значень точності наведено в стандарті ISO 230-2:1988 (1);

d) визначити середнє значення точності по кожній осі. Це середнє значення стає паспортною точністю позиціонування по кожній осі для даної моделі (Ax, Ay...);

e) оскільки позиція 2B201 стосується кожної з лінійних осей, повинно бути визначено стільки значень паспортної точності позиціонування, скільки є лінійних осей;

f) якщо якась вісь верстата, який не підпадає під контроль за позиціями 2B201.a, 2B201.b або 2B201.c, має паспортну точність позиціонування 6 мкм або краще (менше) для шліфувальних верстатів, або 8 мкм або краще (менше) для фрезерних і токарних верстатів (обидва значення відповідно до стандарту ISO 230-2:1988(1)), виробник повинен підтверджувати рівень точності кожні 18 місяців.

(1) Виробники, розраховуючи точність позиціонування відповідно до стандарту ISO 230-2:1977 або ISO 230-2:2006, повинні проконсультуватися з компетентним державним органом.

2B201.a

a) фрезерні верстати, що мають будь-яку з таких характеристик:

2B201.a.1

1) точність позиціонування з "усіма доступними компенсаціями" дорівнює 6 мкм або менше (краще) відповідно до стандарту ISO 230-2:1988 (1) або його національних еквівалентів уздовж будь-якої лінійної осі (при повному робочому ході);

(1) Виробники, розраховуючи точність позиціонування відповідно до стандарту ISO 230-2:1977 або ISO 230-2:2006, повинні проконсультуватися з компетентним державним органом.

2B201.a.2

2) мають дві або більше поворотні осі для контурної обробки; або

2B201.a.3

3) мають п'ять або більше осей, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування";

Примітка.
Згідно з позицією 2B201.a контролю не підлягають фрезерні верстати, що мають усі такі характеристики:

a) хід осі X більше 2 м; та

b) точність позиціонування при повному робочому ході вздовж осі X більше (гірше) ніж 30 мкм відповідно до стандарту ISO 230-2:1988.

2B201.b

b) шліфувальні верстати, що мають будь-яку з таких характеристик:

2B201.b.1

1) точність позиціонування з "усіма доступними компенсаціями" дорівнює 4 мкм або менше (краще) відповідно до стандарту ISO 230-2:1988 (1) або його національних еквівалентів вздовж будь-якої лінійної осі (при повному робочому ході);

(1) Виробники, розраховуючи точність позиціонування відповідно до стандарту ISO 230-2:1977 або ISO 230-2:2006, повинні проконсультуватися з компетентним державним органом.

2B201.b.2

2) мають дві або більше осі обертання для контурної обробки; або

2B201.b.3

3) мають п'ять або більше осей, які можуть бути одночасно скоординовані для "контурного керування";

Примітка.
Згідно з позицією 2B201.b контролю не підлягають такі шліфувальні верстати:

a) верстати для зовнішнього, внутрішнього та зовнішньо-внутрішнього циліндричного шліфування, що мають усі такі характеристики:

1) максимальний зовнішній діаметр або довжина деталі, що обробляється, обмежені 150 мм; та

2) мають тільки осі X, Z та C;

b) координатно-шліфувальні верстати, що не мають осі Z або W, для яких точність позиціонування при повному робочому ході була б менша (краща) ніж 4 мкм відповідно до стандарту ISO 230-2:1988 (1) або його національних еквівалентів.

(1) Виробники, розраховуючи точність позиціонування відповідно до стандарту ISO 230-2:1977 або ISO 230-2:2006, повинні проконсультуватися з компетентним державним органом.

2B201.c

c) токарні верстати, що мають точність позиціонування з "усіма наявними компенсаціями" кращу (меншу) ніж 6 мкм відповідно до стандарту ISO 230-2:1988 (1) або його національних еквівалентів уздовж будь-якої лінійної осі (при повному робочому ході) і здатні обробляти деталі діаметром більше ніж 35 мм.

(1) Виробники, розраховуючи точність позиціонування відповідно до стандарту ISO 230-2:1977 або ISO 230-2:2006, повинні проконсультуватися з компетентним державним органом.

Примітка.
Згідно з позицією 2B201.c контролю не підлягають верстати (Swissturn), призначені лише для поздовжньої обробки пруткових заготівок, якщо максимальний діаметр прутка 42 мм або менше та відсутні будь-які можливості для встановлення затискних патронів. Верстати можуть мати технологічні можливості для обробки свердлінням та/або фрезеруванням деталей діаметром менше 42 мм.

Примітки.

1. Згідно з позицією 2B201 контролю не підлягають спеціалізовані верстати, функціональність яких обмежена виготовленням однієї з таких деталей:

a) шестерні;

b) колінчасті або кулачкові вали;

c) інструменти або різці;

d) шнеки екструдерів.

2. Верстат, що має щонайменше дві з таких трьох властивостей як точіння, фрезерування або шліфування (наприклад, токарний верстат з можливістю фрезерування), повинен розглядатися стосовно кожної з позицій 2B201.a, 2B201.b та 2B201.c, які мають відношення до його властивостей.

3. Позиції 2B201.a.3 та 2B201.b.3 включають верстати, засновані на конструкції паралельної лінійної кінематики (наприклад, верстати-гексаподи), які мають п'ять або більше осей, з яких жодна не є віссю обертання.

2B204

"Ізостатичні преси", крім тих, що визначені у позиції 2B004 або 2B104, та пов'язане з ними обладнання, а саме:

2B204.a

a) "ізостатичні преси", що мають обидві такі характеристики:

2B204.a.1

1) здатні досягати максимального робочого тиску 69 МПа або більше; та

2B204.a.2

2) внутрішній діаметр робочої камери більше 152 мм;

2B204.b

b) пуансони, прес-форми та системи керування, спеціально призначені для "ізостатичних пресів", визначених у позиції 2B204.a.

Технічна примітка.
У позиції 2B204 внутрішній розмір камери - це розмір камери, в якій досягаються як робоча температура, так і робочий тиск, і він не включає внутрішню арматуру. Такий розмір визначатиметься меншим із двох внутрішніх діаметрів: прес-камери або ізольованої пічної камери залежно від того, яка з двох камер розташована всередині іншої.

2B206

Машини, прилади або системи контролю розмірів, крім тих, що визначені у позиції 2B006, а саме:

2B206.a

a) координатно-вимірювальні машини (КВМ), керовані комп'ютером або блоком числового програмного керування, що мають одну з таких характеристик:

2B206.a.1

1) мають лише дві осі та одновимірну максимально припустиму похибку вимірювання довжини (E0,MPE) вздовж будь-якої осі (визначається як будь-яка комбінація E0x,MPE, E0y,MPE або E0z,MPE), що дорівнює або менше ніж (1,25 + L/1000) мкм (де L - вимірювана довжина у мм) у будь-якій точці робочого діапазону пристрою (тобто у межах довжини осей) згідно із стандартом ISO 10360-2(2009); або

2B206.a.2

2) мають три або більше осей і тривимірну (об'ємну) максимально припустиму похибку вимірювання довжини (E0,MPE), що дорівнює або менше (краще) ніж (1,7 + L/800) мкм (де L - вимірювана довжина у мм) у будь-якій точці в межах робочого діапазону машини (тобто в межах довжини осей) згідно із стандартом ISO 10360-2(2009);

Технічна примітка.
Похибку E0,MPE для найбільш точної конфігурації КВМ (наприклад, з найкращими вимірювальним датчиком, довжиною щупа, параметрами переміщення, умовами експлуатації), визначену виробником згідно із стандартом ISO 10360-2(2009) з урахуванням усіх доступних компенсацій, слід порівнювати з пороговим значенням (1,7
+ L/800) мкм.

2B206.b

b) системи для одночасного контролю лінійних та кутових розмірів півсфер, які мають обидві такі характеристики:

2B206.b.1

1) "похибка вимірювання" вздовж будь-якої лінійної осі дорівнює 3,5 мкм на 5 мм або менше (краще); та

2B206.b.2

2) "похибка вимірювання кутового положення" дорівнює 0,02° або менше;

2B206.c

c) системи вимірювання "лінійних переміщень", що мають усі такі характеристики:

Технічна примітка.
Для цілей позиції 2B206.c термін "лінійне переміщення" означає зміну відстані між контактною вимірювальною головкою та об'єктом вимірювання.

2B206.c.1

1) містять "лазер"; та

2B206.c.2

2) підтримують протягом щонайменше 12 годин при стандартній температурі ±1 K та стандартному тиску усі такі параметри:

2B206.c.2.a

a) "роздільна здатність" на повній шкалі 0,1 мкм або краще; та

2B206.c.2.b

b) "похибка вимірювання" дорівнює або краще (менше) ніж (0,2 + L/2000) мкм (L - довжина, що вимірюється, у мм).

Примітка.
Згідно з позицією 2B206.c контролю не підлягають вимірювальні інтерферометричні системи, в яких не передбачено використання зворотного зв'язку, що містять лазер для вимірювання похибок переміщення робочих органів верстатів, машин контролю розмірів або подібного обладнання.

Примітки.

1. Верстати, що можуть використовуватися як вимірювальні машини, підлягають контролю, якщо вони відповідають критеріям, встановленим для верстатів або вимірювальних машин, або перевищують їх.

2. Машини, визначені у позиції 2B206, підлягають контролю, якщо їх технічні характеристики перевищують зазначені порогові контрольні значення у будь-якій точці їх робочого діапазону.

Технічна примітка.
Усі значення параметрів вимірювання у позиції 2B206 наводяться у розумінні плюс-мінус, а не як повний діапазон.

2B207

"Роботи", "виконуючі органи" та блоки керування, крім тих, що визначені у позиції 2B007, як наведено нижче

2B207.a

a) "роботи" або "виконуючі органи", спеціально сконструйовані відповідно до національних стандартів безпеки для робіт з бризантними вибуховими речовинами (наприклад, такі, що відповідають обмеженням за параметрами електрообладнання, призначеного для роботи з бризантними вибуховими речовинами);

2B207.b

b) блоки керування, спеціально призначені для будь-яких "роботів" або "виконуючих органів", визначених у позиції 2B207.a.

2B209

Обкатні вальцювальні верстати та згинальні верстати, здатні виконувати обкатні вальцювальні функції, крім тих, що визначені у позиціях 2B009 та 2B109, а також оправки, а саме:

2B209.a

a) верстати, що мають обидві такі характеристики:

2B209.a.1

1) мають три або більше валки (активні або напрямні); та

2B209.a.2

2) відповідно до технічної специфікації виробника можуть бути обладнані блоками "числового програмного керування" або комп'ютерного керування;

2B209.b

b) роторно-обкатні оправки, призначені для формування циліндричних роторів з внутрішнім діаметром від 75 до 400 мм.

Примітка.
Згідно з позицією 2B209.a контролю також підлягають верстати, які мають лише один валок, призначений для деформації металу, плюс два допоміжні валки, що підтримують оправку, але не беруть безпосередньої участі в процесі деформації.

2B219

Центрифугальні багатоплощинні балансувальні машини, стаціонарні або пересувні, горизонтальні або вертикальні, а саме:

2B219.a

a) центрифугальні балансувальні машини, призначені для балансування гнучких роторів довжиною 600 мм або більше, які мають усі такі характеристики:

2B219.a.1

1) діаметр шарніра або валу більше 75 мм;

2B219.a.2

2) здатні балансувати вироби масою від 0,9 до 23 кг; та

2B219.a.3

3) здатні балансувати із швидкістю обертання більше 5000 об/хв;

2B219.b

b) центрифугальні балансувальні машини, призначені для балансування порожнистих циліндричних частин ротора, які мають усі такі характеристики:

2B219.b.1

1) діаметр валу більше 75 мм;

2B219.b.2

2) здатні балансувати вироби масою від 0,9 до 23 кг;

2B219.b.3

3) здатні балансувати до рівня залишкового дисбалансу у площині 0,01 кг х мм/кг або менше; та

2B219.b.4

4) мають ремінний тип приводу.

2B225

Дистанційні маніпулятори, які можуть бути використані для здійснення дій на відстані під час проведення операцій радіохімічного розділення або в гарячих камерах і мають одну з таких характеристик:

2B225.a

a) здатність передавати дії оператора крізь стіну гарячої камери товщиною 0,6 м або більше (робота крізь стіну); або

2B225.b

b) здатність передавати дії оператора через кришку гарячої камери товщиною 0,6 м або більше (робота через кришку).

Технічна примітка.
Дистанційні маніпулятори забезпечують передачу керуючих дій оператора дистанційному робочому органу та кінцевому захвату. Це можуть бути системи типу керуючий/виконавець (тобто маніпулятори, що копіюють рухи оператора) або маніпулятори, які управляються джойстиком чи клавіатурою.

2B226

Індукційні печі з контрольованим середовищем (вакуум або інертний газ) та джерела живлення для них, а саме:

Особлива примітка.
Див. також позицію 3B.

2B226.a

a) печі, що мають усі такі характеристики:

2B226.a.1

1) здатні працювати за температури вище 1123 K (850° C);

2B226.a.2

2) діаметр індукційних котушок 600 мм або менше; та

2B226.a.3

3) призначені для вхідної потужності 5 кВт або більше;

2B226.b

b) джерела електроживлення з номінальною вихідною потужністю 5 кВт або більше, спеціально призначені для печей, визначених у позиції 2B226.a.

Примітка.
Згідно з позицією 2B226.a контролю не підлягають печі, сконструйовані для обробки напівпровідникових пластин.

2B227

Вакуумні або інші металургійні плавильні і ливарні печі з контрольованим середовищем та пов'язане з ними обладнання, а саме:

2B227.a

a) печі електродугової переплавки, електродугові плавильні печі та печі електродугової плавки та лиття, що мають обидві такі характеристики:

2B227.a.1

1) об'єм витратних електродів від 1000 см3 до 20000 см3; та

2B227.a.2

2) здатні працювати за температури плавлення понад 1973 K (1700° C);

2B227.b

b) електронно-променеві плавильні печі, плавильні печі з розпиленням плазмою та плазмові плавильні печі, що мають обидві такі характеристики:

2B227.b.1

1) потужність 50 кВт або більше; та

2B227.b.2

2) здатні працювати за температури плавлення понад 1473 K (1200° C);

2B227.c

c) системи комп'ютерного керування та контролю, спеціально сконфігуровані для будь-якої з печей, визначених у позиції 2B227.a або 2B227.b;

2B227.d

d) плазмові пальники, спеціально призначені для печей, визначених у позиції 2B227.b, що мають обидві такі характеристики:

2B227.d.1

1) працюють при потужності понад 50 кВт; та

2B227.d.2

2) здатні працювати за температури понад 1473 K (1200° C);

2B227.e

e) електронно-променеві гармати, спеціально сконструйовані для печей, визначених у позиції 2B227.b, що працюють при потужності понад 50 кВт.

2B228

Обладнання для виготовлення або складання роторів, обладнання для юстирування роторів, а також оправки та фасонні штампи для сильфонів, а саме:

2B228.a

a) монтажне обладнання для складання трубних секцій ротора, перегородок та торцевих кришок газової центрифуги;

Примітка.
Позиція 2B228.a включає прецизійні оправки, фіксатори та пристрої для гарячої посадки.

2B228.b

b) юстирувальне обладнання для центрування трубних секцій ротора газової центрифуги вздовж загальної осі;

Технічна примітка.
Обладнання, визначене у позиції 2B228.b, як правило, складається з прецизійних вимірювальних датчиків, підключених до комп'ютера, який керує роботою, наприклад, пневматичних силових циліндрів, що використовуються для центрування трубних секцій ротора.

2B228.c

c) оправки та штампи для виготовлення одновиткових сильфонів.

Технічна примітка.
Сильфони, визначені у позиції 2B228.c, мають усі такі характеристики:

1) внутрішній діаметр від 75 мм до 400 мм;

2) довжина 12,7 мм або більше;

3) глибина витка більше 2 мм; та

4) виготовлені з високоміцних сплавів алюмінію, мартенситностаріючої сталі або високоміцних "волокнистих або ниткоподібних матеріалів".

2B230

"Датчики тиску" всіх типів, здатні вимірювати абсолютний тиск і мають усі такі характеристики:

2B230.a

a) чутливі до тиску елементи, виготовлені або захищені покриттям з таких матеріалів: алюмінію, сплаву алюмінію, оксиду алюмінію (глинозему або сапфіру), нікелю, сплаву нікелю з вмістом нікелю понад 60 % за вагою або повністю фторованих вуглеводневих полімерів;

2B230.b

b) ущільнення (у разі наявності), необхідні для ущільнення чутливих до тиску елементів та для безпосереднього контакту з технологічним середовищем, виготовлені або захищені покриттями із таких матеріалів: алюмінію, сплаву алюмінію, оксиду алюмінію (корунду або сапфіру), нікелю, сплаву нікелю з вмістом нікелю понад 60 % за вагою, або повністю фторованих вуглеводневих полімерів; та

2B230.c

c) мають будь-яку з наведених нижче характеристик:

2B230.c.1

1) повна шкала менше 13 кПа і "точність" краща ± 1 % повної шкали; або

2B230.c.2

2) повна шкала 13 кПа або більше і "точність" краща ± 130 Па, виміряна при 13 кПа.

Технічні примітки.

1. У позиції 2B230 термін "датчик тиску" означає прилад, який перетворює результат вимірювання тиску в сигнал.

2. Для цілей позиції 2B230 термін "точність" включає нелінійність, гістерезис та відтворюваність за температури навколишнього середовища.

2B231

Вакуумні насоси, що мають усі такі характеристики:

2B231.a

a) діаметр входу 380 мм або більше;

2B231.b

b) швидкість відкачування 15 м3/с або більше; та

2B231.c

c) здатні створювати граничний вакуум, кращий 13,3 мПа.

Технічні примітки.

1. Швидкість відкачування визначається в точці вимірювання з використанням азоту або повітря.

2. Граничний вакуум - це величина вакууму, яка визначається на вході насоса під час його закриття.

2B232

Високошвидкісні системи метання (порохові, газові, котушкові, електромагнітні та електротермічні, а також інші перспективні системи), здатні прискорювати вироби до швидкості 1,5 км/с або більше.

Особлива примітка.
Див. також Список товарів військового призначення.

2B233

Спіральні компресори та вакуумні насоси із сильфонним ущільненням, що мають усі такі характеристики:

Особлива примітка.
Див. також позицію 2B350.i.

2B233.a

a) здатні мати об'ємну продуктивність на вході 50 м3/год або більше;

2B233.b

b) здатні мати перепад тиску 2:1 або більше; та

2B233.c

c) усі поверхні, що вступають у контакт з технологічним газом, виготовлені з будь-якого з таких матеріалів:

2B233.c.1

1) алюмінію або сплаву алюмінію;

2B233.c.2

2) оксиду алюмінію;

2B233.c.3

3) нержавіючої сталі;

2B233.c.4

4) нікелю або сплаву нікелю;

2B233.c.5

5) фосфористої бронзи; або

2B233.c.6

6) фторполімерів.

Технічні примітки.

1. У спіральних компресорах або вакуумних насосах, серпоподібні порожнини з газом, захвачені між однією або більше пар зацеплених спіральних лопаток або спіралей, одна з яких рухається, а інша залишається нерухомою. Рухома спіраль здійснює орбітальний рух всередині нерухомої спіралі і при цьому не обертається навколо власної осі. Під час орбітального руху рухомої спіралі всередині нерухомої порожнини з газом зменшуються за розмірами (тобто вони стискаються) під час їх руху до випускного отвору пристрою.

2. У спіральному компресорі або вакуумному насосі із сильфонним ущільненням технологічний газ повностю ізольований від змащених частин насосу та зовнішнього середовища металевим сильфоном. Один кінець сильфона кріпиться до рухомої спіралі, а інший кінець - до нерухомого корпусу насосу.

3. Фторополімери включають, але не обмежуються такими матеріалами:

a) політетрафторетилен (ПТФЕ);

b) фторований етилен пропилен (ФЕП);

c) перфторалкоксил (ПФА);

d) політрифторхлоретилен (ПТФХЕ); та

e) сополімер вініліден фториду і гексафторопропілену.

2B350

Хімічні виробничі потужності, обладнання та компоненти, а саме:

2B350.a

a) реакційні посудини або реактори, із змішувачами або без них, що мають загальний внутрішній об'єм більше ніж 0,1 м3 (100 л), але менше ніж 20 м3 (20000 л), в яких усі поверхні, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що перероблюються або зберігаються), виготовлені з одного або кількох таких матеріалів:

2B350.a.1

1) "сплавів", що містять більше ніж 25 % нікелю та 20 % хрому за вагою;

2B350.a.2

2) фторполімерів (полімерних або еластомерних матеріалів з вмістом фтору більше ніж 35 % за вагою);

2B350.a.3

3) скла (включаючи склоподібне чи емалеве покриття або скляне облицювання);

2B350.a.4

4) нікелю або "сплавів", що містять більше ніж 40 % нікелю за вагою;

2B350.a.5

5) танталу або танталових "сплавів";

2B350.a.6

6) титану або титанових "сплавів";

2B350.a.7

7) цирконію або "сплавів" цирконію;

2B350.a.8

8) ніобію або "сплавів" ніобію;

2B350.b

b) змішувачі, призначені для використання в реакційних посудинах або реакторах, визначених у позиції 2B350.a, а також лопатеві колеса, лопаті та вали, призначені для таких змішувачів, у яких усі поверхні, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що перероблюються або зберігаються), виготовлені з одного або кількох таких матеріалів:

2B350.b.1

1) "сплавів", що містять більше ніж 25 % нікелю та 20 % хрому за вагою;

2B350.b.2

2) фторполімерів (полімерних або еластомерних матеріалів з вмістом фтору більше ніж 35 % за вагою);

2B350.b.3

3) скла (включаючи склоподібне чи емалеве покриття або скляне облицювання);

2B350.b.4

4) нікелю або "сплавів", що містять більше ніж 40 % нікелю за вагою;

2B350.b.5

5) танталу або танталових "сплавів";

2B350.b.6

6) титану або титанових "сплавів";

2B350.b.7

7) цирконію або "сплавів" цирконію;

2B350.b.8

8) ніобію або "сплавів" ніобію;

2B350.c

c) ємності для зберігання, контейнери або приймальні резервуари, що мають загальний внутрішній об'єм більше ніж 0,1 м3 (100 л), в яких усі поверхні, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що перероблюються або зберігаються), виготовлені з одного або кількох таких матеріалів:

2B350.c.1

1) "сплавів", що містять більше ніж 25 % нікелю та 20 % хрому за вагою;

2B350.c.2

2) фторполімерів (полімерних або еластомерних матеріалів з вмістом фтору більше ніж 35 % за вагою);

2B350.c.3

3) скла (включаючи склоподібне чи емалеве покриття або скляне облицювання);

2B350.c.4

4) нікелю або "сплавів", що містять більше ніж 40 % нікелю за вагою;

2B350.c.5

5) танталу або танталових "сплавів";

2B350.c.6

6) титану або титанових "сплавів";

2B350.c.7

7) цирконію або "сплавів" цирконію;

2B350.c.8

8) ніобію або "сплавів" ніобію;

2B350.d

d) теплообмінники або конденсатори, що мають площу поверхні теплообміну більше ніж 0,15 м2, але менше ніж 20 м2, а також труби, пластини, змійовики та блоки (сердечники), призначені для таких теплообмінників або конденсаторів, у яких усі поверхні, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що перероблюються), виготовлені з одного або кількох таких матеріалів:

2B350.d.1

1) "сплавів", що містять більше ніж 25 % нікелю та 20 % хрому за вагою;

2B350.d.2

2) фторполімерів (полімерних або еластомерних матеріалів з вмістом фтору більше ніж 35 % за вагою);

2B350.d.3

3) скла (включаючи склоподібне чи емалеве покриття або скляне облицювання);

2B350.d.4

4) графіту або "вуглеграфіту";

2B350.d.5

5) нікелю або "сплавів", що містять більше ніж 40 % нікелю за вагою;

2B350.d.6

6) танталу або танталових "сплавів";

2B350.d.7

7) титану або титанових "сплавів";

2B350.d.8

8) цирконію або "сплавів" цирконію;

2B350.d.9

9) карбіду кремнію;

2B350.d.10

10) карбіду титану; або

2B350.d.11

11) ніобію або "сплавів" ніобію;

2B350.e

e) дистиляційні або абсорбційні колони, що мають внутрішній діаметр більше ніж 0,1 м, а також розподілювачі рідини, розподілювачі пару та колектори рідини, сконструйовані для таких дистиляційних або абсорбційних колон, у яких усі поверхні, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що перероблюються), виготовлені з одного або кількох таких матеріалів:

2B350.e.1

1) "сплавів", що містять більше ніж 25 % нікелю та 20 % хрому за вагою;

2B350.e.2

2) фторполімерів (полімерних або еластомерних матеріалів з вмістом фтору більше ніж 35 % за вагою);

2B350.e.3

3) скла (включаючи склоподібне чи емалеве покриття або скляне облицювання);

2B350.e.4

4) графіту або "вуглеграфіту";

2B350.e.5

5) нікелю або "сплавів", що містять більше ніж 40 % нікелю за вагою;

2B350.e.6

6) танталу або танталових "сплавів";

2B350.e.7

7) титану або титанових "сплавів";

2B350.e.8

8) цирконію або "сплавів" цирконію; або

2B350.e.9

9) ніобію або "сплавів" ніобію;

2B350.f

f) дистанційно кероване наповнювально-розливне обладнання, в якого всі поверхні, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що перероблюються), виготовлені з одного або кількох таких матеріалів:

2B350.f.1

1) "сплавів", що містять більше ніж 25 % нікелю та 20 % хрому за вагою;

2B350.f.2

2) нікелю або "сплавів", що містять більше ніж 40 % нікелю за вагою;

2B350.g

g) клапани та компоненти, а саме:

2B350.g.1

1) клапани, що відповідають обом таким умовам:

2B350.g.1.a

a) "номінальний розмір" більше ніж 10 мм (3/8 дюйма); та

2B350.g.1.b

b) усі поверхні, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що виробляються, перероблюються або зберігаються), виготовлені з "корозійностійких матеріалів";

2B350.g.2

2) клапани, крім тих, що визначені у позиції 2B350.g.1, що відповідають усім таким умовам:

2B350.g.2.a

a) "номінальний розмір" більше або дорівнює 25,4 мм (1 дюйм), але менше або дорівнює 101,6 мм (4 дюйми);

2B350.g.2.b

b) мають корпуси або відформовані вкладки корпусів;

2B350.g.2.c

c) мають запірний елемент, сконструйований замінним; та

2B350.g.2.d

d) усі поверхні корпусу або відформованих вкладок корпусів, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що виробляються, перероблюються або зберігаються), виготовлені з "корозійностійких матеріалів";

2B350.g.3

3) компоненти, сконструйовані для клапанів, визначених у позиції 2B350.g.1 або 2B350.g.2, в яких усі поверхні, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що виробляються, перероблюються або зберігаються), виготовлені з "корозійностійких матеріалів", а саме:

2B350.g.3.a

a) корпуси клапанів;

2B350.g.3.b

b) відформовані вкладки корпусів;

Технічні примітки.

1. Для цілей позиції 2B350.g термін "корозійностійкий матеріал" означає один з таких матеріалів:

a) нікель або сплави, що містять більше ніж 40 % нікелю за вагою;

b) сплави, що містять більше ніж 25 % нікелю та більше 20 % хрому за вагою;

c) фторполімери (полімерні або еластомерні матеріали з вмістом фтору більше ніж 35 % за вагою);

d) скло (включаючи склоподібне чи емалеве покриття або скляне облицювання);

e) тантал або танталові сплави;

f) титан або титанові сплави;

g) цирконій або сплави цирконію;

h) ніобій або сплави ніобію; або

i) керамічні матеріали, а саме:

1) карбід кремнію, що має ступінь чистоти 80 % або більше за вагою;

2) оксид алюмінію, що має ступінь чистоти 99,9 % або більше за вагою;

3) оксид цирконію.

2. "Номінальний розмір" визначається як менший з діаметрів впускного та випускного отворів.

2B350.h

h) багатостінні трубопроводи, що мають отвір для виявлення течі, в яких усі поверхні, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що перероблюються або зберігаються), виготовлені з одного або кількох таких матеріалів:

2B350.h.1

1) "сплавів", що містять більше ніж 25 % нікелю та 20 % хрому за вагою;

2B350.h.2

2) фторполімерів (полімерних або еластомерних матеріалів з вмістом фтору більше ніж 35 % за вагою);

2B350.h.3

3) скла (включаючи склоподібне чи емалеве покриття або скляне облицювання);

2B350.h.4

4) графіту або "вуглеграфіту";

2B350.h.5

5) нікелю або "сплавів", що містять більше ніж 40 % нікелю за вагою;

2B350.h.6

6) танталу або танталових "сплавів";

2B350.h.7

7) титану або титанових "сплавів";

2B350.h.8

8) цирконію або "сплавів" цирконію; або

2B350.h.9

9) ніобію або "сплавів" ніобію;

2B350.i

i) насоси з багаторазовим ущільненням та герметичні насоси (без ущільнень), в яких вказана виробником максимальна продуктивність більше ніж 0,6 м3/год, або вакуумні насоси, в яких вказана виробником максимальна продуктивність більше ніж 5 м3/год (за стандартних умов: температурі 273 K (0° C) та тиску 101,30 кПа), крім тих, що визначені у позиції 2B233; а також корпуси насосів, сопла струминних насосів, відформовані вкладки корпусів, лопатеві колеса та ротори, призначені для зазначених насосів, в яких усі поверхні, що перебувають у безпосередньому контакті з хімічними речовинами (що переробляються), виготовлені з одного або кількох таких матеріалів:

2B350.i.1

1) "сплавів", що містять більше ніж 25 % нікелю та 20 % хрому за вагою;

2B350.i.2

2) кераміки;

2B350.i.3

3) феросиліцію (сплавів заліза з високим вмістом кремнію);

2B350.i.4

4) фторполімерів (полімерних або еластомерних матеріалів з вмістом фтору більше ніж 35 % за вагою);

2B350.i.5

5) скла (включаючи склоподібне чи емалеве покриття або скляне облицювання);

2B350.i.6

6) графіту або "вуглеграфіту";

2B350.i.7

7) нікелю або "сплавів", що містять більше ніж 40 % нікелю за вагою;

2B350.i.8

8) танталу або танталових "сплавів";

2B350.i.9

9) титану або титанових "сплавів";

2B350.i.10

10) цирконію або "сплавів" цирконію; або

2B350.i.11

11) ніобію або "сплавів" ніобію;

Технічна примітка.
У позиції 2B350.i термін "ущільнення" відноситься тільки до тих ущільнень, що вступають у безпосередній контакт з хімічними речовинами, що переробляються (або призначені для цього), та забезпечують герметичність у місці, де приводний вал, що обертається або здійснює зворотно-поступальний рух, проходить крізь корпус насосу.

2B350.j

j) печі для спалювання, що призначені для знищення хімічних речовин, визначених у позиції 1C350, обладнані спеціально сконструйованими системами подачі знищуваних продуктів і спеціальними системами проведення процесу та мають середню температуру в камері згоряння більше ніж 1273 K (1000° C), в яких усі поверхні системи подачі продуктів, що вступають у безпосередній контакт із знищуваними продуктами, виготовлені з одного або кількох наведених нижче матеріалів або облицьовані ними:

2B350.j.1

1) "сплавів", що містять більше ніж 25 % нікелю та 20 % хрому за вагою;

2B350.j.2

2) кераміки; або

2B350.j.3

3) нікелю або "сплавів", що містять більше ніж 40 % нікелю за вагою;

Примітка.
Для цілей позиції 2B350 матеріали, що використовуються для прокладок, набивок, ущільнень, гвинтів, шайб, або інші матеріали, що виконують герметизуючу функцію, не визначають статус контролю за умови, що такі компоненти спроектовані як змінні.

Технічні примітки.

1. "Вуглеграфіт" - це композиційний матеріал, що складається з аморфного вуглецю і графіту, в якому вміст графіту становить 8 % або більше за вагою.

2. По відношенню до матеріалів, визначених у наведених вище позиціях, термін "сплав", якщо не зазначено точну елементну концентрацію, слід розуміти як сплав, в якому вміст визначального металу становить більш високий відсоток за вагою, ніж будь-який інший елемент.

2B351

Системи контролю токсичних газів та їх спеціалізовані компоненти виявлення, крім тих, що визначені у позиції 1A004, наведені нижче, а також датчики, сенсорні пристрої та змінні сенсорні картриджі для них:

2B351.a

a) спроектовані для безперервного функціонування та придатні для виявлення бойових отруйних речовин або хімічних речових, визначених у позиції 1C350, при їх концентраціях менше ніж 0,3 мг/м3; або

2B351.b

b) спроектовані для виявлення ефекту інгібування (пригнічення) холінестерази.

2B352

Обладнання, придатне для поводження з біологічними матеріалами, а саме:

2B352.a

a) об'єкти з повним біологічним захистом та відповідне обладнання, а саме:

2B352.a.1

1) комплектні об'єкти з повним біологічним захистом, що відповідають рівню безпеки Р3 або Р4 (BL3, BL4, L3, L4);

Примітка.
Згідно з позицією 2B352.a.1 контролю підлягають типові модулі або модулі з турбулентним потоком повітря, а також автономні модулі, оснащені НЕРА-фільтрами, які можуть бути використані для лабораторій з рівнем біологічного захисту P3 або P4 (BL3, BL4, L3, L4).

2B352.a.2

2) обладнання, призначене для стаціонарного встановлення на об'єктах з повним біологічним захистом, визначених у позиції 2B352.a.1, а саме:

2B352.a.2.a

a) пропускні знезаражувальні автоклави з двома дверями;

2B352.a.2.b

b) знезаражувальні душі для костюмів з автономною системою дихання;

2B352.a.2.c

c) пропускні двері з механічними або надувними ущільненнями;

Технічна примітка.
Рівні безпеки P3 або P4 (BL3, BL4, L3, L4) визначені у посібнику ВООЗ з біологічної безпеки лабораторій (третє видання, Женева, 2004 рік).

2B352.b

b) ферментери та їх компоненти, а саме:

2B352.b.1

1) ферментери, придатні для культивування "мікроорганізмів" або живих клітин для виробництва патогенних вірусів або токсинів без розповсюдження аерозолів, що мають ємність 20 літрів або більше;

2B352.b.2

2) компоненти, сконструйовані для ферментерів, визначених у позиції 2B352.b.1, а саме:

2B352.b.2.a

a) культиваційні камери, призначені для стерилізації або дизінфекції на місці;

2B352.b.2.b

b) тримачі для культиваційних камер;

2B352.b.2.c

c) блоки керування технологічним процесом, здатні одночасно керувати двома або більше параметрами ферментаційних систем (наприклад, температурою, pH, поживними речовинами, перемішуванням, розчиненим киснем, потоком повітря, піноутворенням) та здійснювати контроль за ними;

Примітка.
Згідно з позицією 2B352.b.1 контролю підлягають ферментери об'ємом менше ніж 20 літрів, конструкція яких допускає використання ферментерів у комбінованих системах. При цьому слід звертати увагу на сумарне замовлення.

Технічна примітка.
Для цілей позиції 2B352.b. ферментери включають біореактори (в тому числі одноразового використання), хемостати та проточні системи.

2B352.c

c) відцентрові сепаратори, здатні здійснювати безперервне відокремлення патогенних мікроорганізмів без розповсюдження аерозолів, що мають усі такі характеристики:

2B352.c.1

1) продуктивність понад 100 літрів на годину;

2B352.c.2

2) компоненти, виготовлені з полірованої нержавіючої сталі або титану;

2B352.c.3

3) наявність одного або більше ущільнюючих з'єднань у зоні, що обробляється паром; та

2B352.c.4

4) можливість стерилізації паром на місці у зібраному стані;

Технічна примітка.
Термін "відцентрові сепаратори" включає декантери.

2B352.d

d) обладнання для поперечної (тангенційної) фільтрації, призначене для відокремлення мікроорганізмів, вірусів, токсинів або кліткових культур, а саме:

2B352.d.1

1) обладнання для поперечної (тангенційної) фільтрації, призначене для відокремлення мікроорганізмів, вірусів, токсинів або кліткових культур, що має усі такі характеристики:

2B352.d.1.a

a) загальну площу фільтрації 1 м2 або більше; та

2B352.d.1.b

b) має одну з таких характеристик:

2B352.d.1.b.1

1) може бути стерилізоване або дезінфіковане на місці; або

2B352.d.1.b.2

2) використовує одноразові фільтрувальні компоненти;

Технічна примітка.
У позиції 2B352.d.1.b стерилізація означає знищення всіх життєздатних мікробів в обладнанні за допомогою фізичних методів (наприклад, паром) або хімічних агентів.
Дезінфекція означає знищення потенційної мікробної інфекції в обладнанні шляхом використання бактерицидних хімічних агентів.
Дезінфекція та стерилізація відрізняються від санітарної обробки.
Санітарна обробка стосується процедур очищення, призначених для зменшення вмісту мікробів в обладнанні та не вимагає повного усунення інфекції або життєздатності мікробів.

Примітка.
Згідно з позицією 2B352.d контролю не підлягає обладнання для фільтрації, засноване згідно із специфікацією виробника на процесі зворотного осмосу.

2B352.d.2

2) компоненти обладнання поперечної (тангенційної) фільтрації (наприклад, модулі, елементи, касети, картриджі, вузли або пластини) з площею фільтрації кожного компонента 0,2 м2 або більше, що призначені для використання в обладнанні поперечної (тангенційної) фільтрації, визначеному в позиції 2B352.d;

2B352.e

e) обладнання для ліофільного сушіння, яке стерилізується паром, газом або парами та має продуктивність конденсатора 10 кг льоду або більше за 24 години, але менше ніж 1000 кг льоду за 24 години;

Примітка.
Згідно з позицією 2B352.e контролю підлягає обладнання для мікрокапсулювання живих мікроорганізмів і токсинів з розміром частинок від 1 мкм до 10 мкм, а саме:

a) міжфазні поліконденсатори;

b) фазні сепаратори.

2B352.f

f) захисне обладнання та обладнання біобезпеки, а саме:

2B352.f.1

1) захисні костюми, куртки або шоломи, залежні від прив'язного зовнішнього джерела повітря, що працюють при надлишковому тиску (відносно атмосферного);

Примітка.
Згідно з позицією 2B352.f.1 контролю не підлягають захисні костюми, призначені для експлуатації з автономними дихальними апаратами.

2B352.f.2

2) бокси, ізолятори з повним біологічним захистом або шафи біологічної безпеки, що мають усі такі характеристики, для нормальних умов експлуатації:

2B352.f.2.a

a) повністю закрита робоча зона, в якій оператор відділений від субстанції фізичним бар'єром;

2B352.f.2.b

b) здатні працювати при від'ємному тиску;

2B352.f.2.c

c) засоби для безпечного маніпулювання з об'єктами у робочій зоні;

2B352.f.2.d

d) приточно-витяжна вентиляція у робочій зоні з фільтром високої ефективності;

Примітки.

1. Позиція 2B352.f.2 включає шафи біологічної безпеки
III класу, визначені в останній редакції посібника ВОЗ з лабораторної біологічної безпеки або виготовлені відповідно до національних стандартів, нормативів або методичних вказівок.

2. Позиція 2B352.f.2 не включає ізолятори, спеціально призначені для здійснення догляду за інфікованими пацієнтами з використанням бар'єрного захисту або для транспортування інфікованих осіб.

2B352.g

g) обладнання для аерозольної інгаляції, призначене для дослідження впливу аерозолів "мікроорганізмів", "вірусів" або "токсинів", а саме:

2B352.g.1

1) камери для впливу на весь організм у цілому, що мають місткість 1 м3 або більше;

2B352.g.2

2) прилади для впливу лише на ніс (морду) із застосуванням направленого аерозольного потоку, що мають місткість для обробки однієї або кількох таких груп тварин:

2B352.g.2.a

a) 12 або більше гризунів; або

2B352.g.2.b

b) 2 або більше інших тварин (не гризунів);

2B352.g.3

3) капсули-труби закритого типу для утримання тварини, призначені для використання з приладами для впливу лише на ніс (морду) із застосуванням направленого аерозольного потоку;

2B352.h

h) обладнання для розпилювального сушіння, що забезпечує висушування токсинів або патогенних мікроорганізмів і має усі такі характеристики:

2B352.h.1

1) продуктивність випарювання води більше або дорівнює 0,4 кг/год, але менше або дорівнює 400 кг/год;

2B352.h.2

2) здатність виробляти частинки продукту з типовим середнім розміром 10 мкм або менше у штатному оснащенні або при мінімальній модифікації сушилки розпилювальними насадками, що дають змогу виробляти частинки необхідного розміру; або

2B352.h.3

3) можливість стерилізації або дезінфекції на місці.

2C

Матеріали.

Відсутні.

2D

Програмне забезпечення.

2D001

"Програмне забезпечення", крім того, що визначене в позиції 2D002, а саме:

2D001.a

a) "програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для "розроблення" або "виробництва" обладнання, визначеного в позиції 2A001 або 2B001;

2D001.b

b) "програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для "використання" обладнання, визначеного в позиції 2A001.c, 2B001 або 2B003 - 2B009.

Примітка.
Згідно з позицією 2D001 контролю не підлягає
"програмне забезпечення" для розроблення програм оброблення деталей, яке генерує коди "числового програмного керування", необхідні для оброблення різноманітних деталей на верстатах.

2D002

"Програмне забезпечення" для електронних пристроїв навіть у разі, коли воно вмонтоване в електронний пристрій або систему, яке надає можливість таким пристроям або системам функціонувати як блок "числового програмного керування", здатний одночасно скоординувати більше ніж чотири осі для "контурного керування".

Примітки.

1. Згідно з позицією 2D002 контролю не підлягає "програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для роботи виробів, не визначених у розділі 2.

2. Згідно з позицією 2D002 контролю не підлягає "програмне забезпечення" для виробів, визначених у позиції 2B002. Щодо "програмного забезпечення" для виробів, визначених у позиції 2B002, див. позиції 2D001 та 2D003.

3. Згідно з позицією 2D002 контролю не підлягає "програмне забезпечення", що експортується разом з виробами, не визначеними у розділі 2, і є мінімально необхідним для їх функціонування.

2D003

"Програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для роботи обладнання, визначеного у позиції 2B002, яке перетворює функції оптичного проектування, контролю розмірів заготовки та видалення матеріалу у команди "числового програмного керування" для досягнення необхідної форми заготовки.

2D101

"Програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для "використання" обладнання, визначеного у позиції 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 або 2B119 - 2B122.

Особлива примітка.
Див. також позицію 9D004.

2D201

"Програмне забезпечення", спеціально призначене для "використання" обладнання, визначеного у позиції 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 або 2B227.

2D202

"Програмне забезпечення", спеціально призначене або модифіковане для "розроблення", "виробництва" або "використання" обладнання, визначеного в позиції 2B201.

Примітка.
Згідно з позицією 2D202 контролю не підлягає
"програмне забезпечення" для розроблення програм оброблення деталей, яке генерує командні коди "числового програмного керування", але не дає змоги прямо використовувати обладнання для оброблення різноманітних деталей.

2D351

"Програмне забезпечення", крім того, що визначене у позиції 1D003, спеціально призначене для "використання" обладнання, визначеного у позиції 2B351.

2E

Технологія, "послуги та роботи".

2E001

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "розроблення" обладнання або "програмного забезпечення", визначеного в позиції 2A, 2B або 2D.

Примітка.
Позиція 2E001 включає
"технологію" для сполучення систем датчиків та координатно-вимірювальних машин, визначених у позиції 2B006.a.

2E002

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "виробництва" обладнання або "програмного забезпечення", визначеного у позиції 2A, 2B або 2D.

2E003

Інша "технологія", а саме:

2E003.a

a) "технологія" для "розроблення" інтерактивної графіки як вбудованої частини блоків "числового програмного керування" для підготовки або модифікації програм оброблення деталей;

2E003.b

b) "технологія" виробничих процесів металообробки, а саме:

2E003.b.1

1) "технологія" проектування інструментів, прес-форм або затискних пристроїв, спеціально призначених для будь-якого з таких процесів:

2E003.b.1.a

a) "надпластичне формування";

2E003.b.1.b

b) "дифузійне зварювання";

2E003.b.1.c

c) "гідравлічне пресування прямої дії";

2E003.b.2

2) технічні дані, що включають опис технологічного процесу або параметри, що використовуються для керування ним, а саме:

2E003.b.2.a

a) для "надпластичного формування" алюмінієвих сплавів, титанових сплавів або "суперсплавів":

2E003.b.2.a.1

1) підготовка поверхні;

2E003.b.2.a.2

2) швидкість деформації;

2E003.b.2.a.3

3) температура;

2E003.b.2.a.4

4) тиск;

2E003.b.2.b

b) для "дифузійного зварювання" "суперсплавів" або титанових сплавів:

2E003.b.2.b.1

1) підготовка поверхні;

2E003.b.2.b.2

2) температура;

2E003.b.2.b.3

3) тиск;

2E003.b.2.c

c) для "гідравлічного пресування прямої дії" алюмінієвих сплавів або титанових сплавів:

2E003.b.2.c.1

1) тиск;

2E003.b.2.c.2

2) час циклу;

2E003.b.2.d

d) для "гарячого ізостатичного ущільнення" титанових сплавів, алюмінієвих сплавів або "суперсплавів":

2E003.b.2.d.1

1) температура;

2E003.b.2.d.2

2) тиск;

2E003.b.2.d.3

3) час циклу;

2E003.c

c) "технологія" для "розроблення" або "виробництва" гідравлічних пресів для штамповки з витягуванням і відповідних матриць для виготовлення конструкцій корпусів літальних апаратів;

2E003.d

d) "технологія" для "розроблення" генераторів машинних команд (наприклад, програм оброблення деталей) з проектних даних, що зберігаються всередині блоків "числового програмного керування";

2E003.e

e) "технологія" для "розроблення" інтеграційного "програмного забезпечення" для сполучення експертних систем комплексного прийняття рішень для підтримки процесів у цехових умовах з блоками "числового програмного керування";

2E003.f

f) "технологія" нанесення зовнішніх шарів неорганічних покриттів або неорганічних покриттів з модифікацією поверхні (зазначених у графі 3 наведеної нижче таблиці) на підкладки для неелектронних приладів/компонентів (зазначені у графі 2 тієї ж таблиці) з використанням технологічних процесів, зазначених у графі 1 тієї ж таблиці та визначених у технічній примітці.

Примітка. Таблиця та технічна примітка до неї наведені після позиції 2E901.

Особлива примітка.
Таблиця до позиції 2E003.f визначає
"технологію" певного "процесу нанесення покриття" лише для тих "результуючих покриттів", що зазначені у графі 3 в абзаці, розташованому безпосередньо навпроти відповідної "підкладки", зазначеної у графі 2. Наприклад, технічні дані для процесу нанесення покриття методом "хімічного осадження з парової фази (CVD)" підлягають контролю у разі нанесення силіцидів на підкладки з "композиційних матеріалів" з вуглець-вуглецевою, керамічною або металевою "матрицею", але не підлягають контролю у разі нанесення силіцидів на підкладки з "цементованого карбіду вольфраму" (16) чи "карбіду кремнію" (18). У другому випадку результуюче покриття не входить в перелік покриттів, наведених у графі 3 в абзаці, розташованому безпосередньо напроти абзацу, в якому перераховані "цементований карбід вольфраму" (16) та "карбід кремнію" (18) у графі 2.

2E101

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "використання" обладнання чи "програмного забезпечення", визначених у позиції 2B004, 2B009, 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117, 2B119 - 2B122 або 2D101.

2E201

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "використання" обладнання або "програмного забезпечення", визначеного в позиції 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 - 2B233, 2D201 або 2D202.

2E301

"Технологія" відповідно до загальної примітки з технології для "використання" товарів, визначених у позиціях 2B350 - 2B352.

2E901

"Послуги та роботи" (відповідно до пункту 5 загальних приміток до цього Списку) стосовно товарів, визначених у позиції 2A, 2B, 2D або 2E.

Розділ 2. Оброблення матеріалів

Таблиця до позиції 2E003.f. Техніка нанесення покриття

1. Процес нанесення покриття (1)1

2. Підкладка

3. Результуюче покриття

____________
1 Номер у дужках відповідає номеру примітки до таблиці "Техніка нанесення покриття".

A. Хімічне осадження з парової фази (CVD)

"суперсплави"

алюмініди для внутрішніх каналів

кераміка (19) та скло з малим коефіцієнтом термічного розширення (14)

силіциди
карбіди
шари діелектриків (15)
алмази
алмазоподібний вуглець (17)

вуглець-вуглецеві "композиційні матеріали" та "композиційні матеріали" з керамічною і металевою "матрицею"

силіциди
карбіди
тугоплавкі метали
суміші зазначених матеріалів (4)
шари діелектриків (15)
алюмініди
леговані алюмініди (2)
нітрид бору

цементований карбід вольфраму (16), карбід кремнію (18)

карбіди
вольфрам
суміші зазначених матеріалів (4)
шари діелектриків (15)

молібден та його сплави

шари діелектриків (15)

берилій та його сплави

шари діелектриків (15)
алмази
алмазоподібний вуглець (17)

матеріали вікон датчиків (9)

шари діелектриків (15)
алмази
алмазоподібний вуглець (17)

B. Фізичне осадження з парової фази, що утворюється нагріванням (TE-PVD)

 

 

B.1. Фізичне осадження з парової фази (PVD), що утворюється нагріванням електронним пучком (EB-PVD)

"суперсплави"

леговані силіциди
леговані алюмініди (2)
MCrAlX (5)
модифікованй діоксид цирконію (12)
силіциди
алюмініди
суміші зазначених матеріалів (4)

кераміка (19) та скло з малим коефіцієнтом термічного розширення (14)

шари діелектриків (15)

корозійностійка сталь (7)

MCrAlX (5)
модифікований діоксид цирконію (12)
суміші зазначених матеріалів (4)

вуглець-вуглецеві "композиційні матеріали" та "композиційні матеріали" з керамічною і металевою "матрицею"

силіциди
карбіди
тугоплавкі метали
суміші зазначених матеріалів (4)
шари діелектриків (15)
нітрид бору

цементований карбід вольфраму (16), карбід кремнію (18)

карбіди
вольфрам
суміші зазначених матеріалів (4)
шари діелектриків (15)

молібден та його сплави

шари діелектриків (15)

берилій та його сплави

шари діелектриків (15)
бориди
берилій

матеріали вікон датчиків (9)

шари діелектриків (15)

титанові сплави (13)

бориди
нітриди

B.2. Фізичне осадження з бомбардуванням іонами з парової фази, утвореної шляхом резистивного нагрівання (іонне осадження)

кераміка (19) та скло з малим коефіцієнтом термічного розширення (14)

шари діелектриків (15)
алмазоподібний вуглець (17)

вуглець-вуглецеві "композиційні матеріали" та "композиційні матеріали" з керамічною і металевою "матрицею"

шари діелектриків (15)

цементований карбід вольфраму (16), карбід кремнію

шари діелектриків (15)

молібден та його сплави

шари діелектриків (15)

берилій та його сплави

шари діелектриків (15)

матеріали вікон датчиків (9)

шари діелектриків (15)
алмазоподібний вуглець (17)

B.3. Фізичне осадження з парової фази: "лазерне" випаровування

кераміка (19) та скло з малим коефіцієнтом термічного розширення (14)

силіциди
шари діелектриків (15)
алмазоподібний вуглець (17)

вуглець-вуглецеві "композиційні матеріали" та "композиційні матеріали" з керамічною і металевою "матрицею"

шари діелектриків (15)

цементований карбід вольфраму (16), карбід кремнію

шари діелектриків (15)

молібден та його сплави

шари діелектриків (15)

берилій та його сплави

шари діелектриків (15)

матеріали вікон датчиків (9)

шари діелектриків (15)
алмазоподібний вуглець (17)

B.4. Фізичне осадження з парової фази (PVD): катодний дуговий розряд

"суперсплави"

леговані силіциди
леговані алюмініди (2)
MCrAlX (5)

полімери (11) та "композиційні матеріали" з органічною "матрицею"

бориди
карбіди
нітриди
алмазоподібний вуглець (17)

C. Твердофазне дифузійне насичення (див. А вище щодо іншої техніки нанесення покриття) (10)

вуглець-вуглецеві "композиційні матеріали" та "композиційні матеріали" з керамічною і металевою "матрицею"

силіциди
карбіди
суміші зазначених матеріалів (4)

сплави титану (13)

силіциди
алюмініди
леговані алюмініди (2)

тугоплавкі метали та сплави (8)

силіциди
оксиди

D. Плазмове напилення

"суперсплави"

MCrAlX (5)
модифікований діоксид цирконію (12)
суміші зазначених матеріалів (4)
нікель-графіт, що стирається
матеріали, що стираються, які містять Ni-Cr-Al
Al-Si-поліефір, що стирається
леговані алюмініди (2)

сплави алюмінію (6)

MCrAlX (5)
модифікований діоксид цирконію (12)
силіциди
суміші зазначених матеріалів (4)

тугоплавкі метали та сплави (8)

алюмініди
силіциди
карбіди

корозійностійкі сталі (7)

MCrAlX (5)
модифікований діоксид цирконію (12)
суміші зазначених матеріалів (4)

титанові сплави (13)

карбіди
алюмініди
силіциди
леговані алюмініди (2)
нікель-графіт, що стирається
матеріали, що стираються, які містять Ni-Cr-Al
Al-Si-поліефір, що стирається

E. Нанесення шлікеру

тугоплавкі метали та сплави (8)

плавлені силіциди
плавлені алюмініди (крім матеріалів для резистивних нагрівних елементів)

вуглець-вуглецеві "композиційні матеріали" та "композиційні матеріали" з керамічною і металевою "матрицею"

силіциди
карбіди
суміші зазначених матеріалів (4)

F. Осадження розпиленням

"суперсплави"

леговані силіциди
леговані алюмініди (2)
алюмініди, модифіковані благородними металами (3)
MCrAlX (5)
модифікований діоксид цирконію (12)
платина
суміші зазначених матеріалів (4)

кераміка та скло з малим коефіцієнтом розширення (14)

силіциди
платина
суміші зазначених матеріалів (4)
шари діелектриків (15)
алмазоподібний вуглець (17)

титанові сплави (13)

бориди
нітриди
оксиди
силіциди
алюмініди
леговані алюмініди (2)
карбіди

вуглець-вуглецеві "композиційні матеріали" та "композиційні матеріали" з керамічною і металевою "матрицею"

силіциди
карбіди
тугоплавкі метали
суміші зазначених матеріалів (4)
шари діелектриків (15)
нітрид бору

цементований карбід вольфраму (16), карбід кремнію (18)

карбіди
вольфрам
суміші зазначених матеріалів (4)
шари діелектриків (15)
нітрид бору

молібден та його сплави

шари діелектриків (15)

берилій та його сплави

бориди
шари діелектриків (15)
берилій

матеріали вікон датчиків (9)

шари діелектриків (15)
алмазоподібний вуглець (17)

тугоплавкі метали та сплави (8)

алюмініди
силіциди
оксиди
карбіди

G. Іонна імплантація

термостійкі шарикопідшипникові сталі

добавки хрому, танталу або ніобію

титанові сплави (13)

бориди
нітриди

берилій та його сплави

бориди

цементований карбід вольфраму (16)

карбіди
нітриди

Розділ 2. Оброблення матеріалів

Примітки до таблиці "Техніка нанесення покриття".

1. Термін "процес нанесення покриття" включає як первісне нанесення покриття, так і роботи з виправлення та поновлення існуючого покриття.

2. Термін "покриття легованими алюмінідами" включає одно- або багатоступеневе нанесення покриття, під час якого елемент або елементи осаджуються до або під час нанесення алюмінідного покриття, навіть у разі, коли такі елементи осаджені за допомогою іншого процесу нанесення покриття. Однак цей термін не включає багатократне використання одноступеневого процесу твердофазного дифузійного насичення для отримання покриття на основі легованих алюмінідів.

3. Термін "покриття алюмінідами, модифікованими благородними металами" включає багатоступеневе нанесення покриття, в якому благородний метал або благородні метали нанесені раніше у будь-який інший спосіб до застосування покриття легованими алюмінідами.

4. Термін "суміші зазначених матеріалів" включають інфільтрований матеріал покриття, композиції проміжні компоненти, присадки та багатошарові матеріали, які одержують під час одного або кількох процесів нанесення покриттів, зазначених у таблиці.

5. MCrAlX відповідає складному сплаву покриття, де "М" означає кобальт, залізо, нікель або їх комбінації, а X - гафній, ітрій, кремній, тантал у будь-якій кількості або інші спеціальні домішки у кількості понад 0,01 % за вагою у різних пропорціях та комбінаціях, крім:

a) CoCrAlY - покриття, яке має менше ніж 22 % за вагою хрому, менше ніж 7 % за вагою алюмінію та менше ніж 2 % за вагою ітрію;

b) CoCrAlY - покриття, яке має 22 - 24 % за вагою хрому, 10 - 12 % за вагою алюмінію та 0,5 - 0,7 % за вагою ітрію; або

c) NiCrAlY - покриття, яке має 21 - 23 % за вагою хрому, 10 - 12 % за вагою алюмінію та 0,9 - 1,1 % за вагою ітрію.

6. Термін "сплави алюмінію" відноситься до сплавів з межею міцності при розтягуванні 190 МПа або більше, виміряною за температури 293 К (20° C).

7. Термін "корозійностійка сталь" стосується сталі, яка відповідає вимогам стандарту серії 300 (AISI) Американського інституту заліза та сталі або вимогам відповідних національних стандартів.

8. До "тугоплавких металів та сплавів" належать такі метали та їх сплави: ніобій, молібден, вольфрам і тантал.

9. "Матеріали вікон датчиків" - це оксид алюмінію, кремній, германій, сульфід цинку, селенід цинку, арсенід галію, алмаз, фосфід галію, сапфір та такі галогеніди металів: фторид цирконію і фторид гафнію - для вікон датчиків, які мають діаметр понад 40 мм.

10. Згідно з розділом 2 не підлягають контролю "технології" для одноступеневих процесів твердофазного дифузійного насичення суцільних аеродинамічних профілів.

11. "Полімери" включають поліімід, поліефір, полісульфід, полікарбонати та поліуретани.

12. "Модифікований діоксид цирконію" - це діоксид цирконію із внесеними до нього добавками оксидів інших металів (таких, як оксиди кальцію, магнію, ітрію, гафнію, рідкоземельних металів) для стабілізації певних кристалографічних фаз та фазового складу. Теплозахисні покриття, виготовлені з діоксиду цирконію, модифікованого оксидом кальцію або оксидом магнію шляхом змішування або сплавлення, контролю не підлягають.

13. "Титанові сплави" - це аерокосмічні сплави, що мають межу міцності при розтягуванні 900 МПа або більше, виміряну за температури 293 К (20° C).

14. "Скло з малим коефіцієнтом термічного розширення" визначається як скло, що має коефіцієнт температурного розширення 1 х 10-7 К-1 або менше, виміряний за температури 293 К (20° C).

15. "Багатошарові діелектричні покриття" - це покриття, що складаються з кількох шарів ізоляційних матеріалів, у яких інтерференційні властивості структури, що складається з матеріалів з різними показниками заломлення, використовуються для відбиття, пропускання або поглинання у різних діапазонах довжини хвиль. До багатошарових діелектричних покриттів належать ті, що складаються з більше ніж чотирьох шарів діелектрика або "композиційних матеріалів" типу діелектрик-метал.

16. "Цементований карбід вольфраму" не включає матеріали, що застосовуються для ріжучих та формоутворювальних інструментів, які складаються з карбіду вольфраму / кобальт-нікель, карбіду титану / кобальт-нікель, карбіду хрому / нікель-хром і карбіду хрому / нікель.

17. Не підлягає контролю "технологія", спеціально призначена для нанесення алмазоподібного вуглецю на будь-що з наведеного нижче: накопичувачі на магнітних дисках і магнітні головки, обладнання для виробництва тари витратних матеріалів, клапани для вентилів, дифузори гучномовців, деталі автомобільних двигунів, різальні інструменти, вирубні штампи та прес-форми для штамповки, офісне автоматизоване обладнання, мікрофони, медичні пристрої, форми для литва або формування пластмас, виготовлені із сплавів з вмістом берилію менше 5 %.

18. "Карбід кремнію" не включає матеріали для виготовлення різального або формувального інструменту.

19. Керамічні підкладки в цій позиції не включають керамічні матеріали, що містять 5 % за вагою або більше глинозему чи цементу, як самостійні складові частини або в комбінації.

Розділ 2. Оброблення матеріалів

Технічна примітка до таблиці "Техніка нанесення покриття".

Процеси, зазначені у графі 1 таблиці, визначаються так:

a) хімічне осадження з парової фази (CVD) - це процес нанесення зовнішнього покриття або покриття з модифікацією поверхні підкладки, коли метал, сплав, "композиційний матеріал", діелектрик або кераміка осаджуються на нагріту підкладку. Газоподібні реагенти розпадаються або сполучаються поблизу підкладки, в результаті чого на ній осаджуються потрібні елементи, сплави або хімічні сполуки. Енергія для процесу розпаду або хімічної реакції може надаватися шляхом нагрівання підкладки, плазмою жевріючого розряду або променем "лазера";

Особливі примітки.

1. Хімічне осадження з парової фази (CVD) включає такі процеси: осадження в газовому потоці без прямого контакту засипки з підкладкою, пульсуюче хімічне осадження з парової фази, термічне осадження з керованим зародкоутворенням, хімічне осадження з парової фази, посилене або підтримуване плазмою.

2. Засипка означає занурення підкладки у порошкову суміш.

3. Газоподібні реагенти, що використовуються у процесі без прямого контакту засипки з підкладкою, виробляються із застосуванням таких самих основних реакцій та компонентів, як і під час твердофазного дифузного насичення, за винятком того, що підкладка, на яку наноситься покриття, не має контакту із порошковою сумішшю.

b) фізичне осадження з парової фази, що утворюється шляхом нагрівання (TE-PVD) - це процес нанесення зовнішнього покриття у вакуумі під тиском менше ніж 0,1 Па з використанням будь-якого джерела теплової енергії для випаровування матеріалу покриття. Зазначений процес призводить до конденсації або осадження матеріалу, що випаровується, на відповідно розташовану підкладку.

Додавання газів у вакуумну камеру в процесі нанесення покриття для створення складного покриття є звичайною модифікацією цього процесу.

Використання іонних або електронних пучків або плазми для активації нанесення покриття або участі в цьому процесі є також звичайною його модифікацією. Використання контрольно-вимірювальних приладів для забезпечення вимірювання оптичних характеристик або товщини покриття під час процесу може бути його особливістю.

Специфічні процеси фізичного осадження з парової фази, що утворюється нагріванням (TE-PVD):

1) під час фізичного осадження з парової фази (PVD), що утворюється шляхом нагрівання електронним пучком (EB-PVD), для нагрівання та випаровування матеріалу, який формує покриття на поверхні виробу, використовується пучок електронів;

2) під час фізичного осадження з бомбардуванням іонами з парової фази, утвореної шляхом резистивного нагрівання (іонне осадження), використовують резистивні нагрівачі у комбінації з падаючим пучком (пучками) іонів для забезпечення контрольованого та рівномірного (однорідного) потоку пари матеріалу, що наноситься;

3) під час випаровування "лазером" матеріалу використовується імпульсний або безперервний промінь "лазеру" для випаровування матеріалу, що формує покриття;

4) у процесі покриття за допомогою катодної дуги використовується витратний катод з матеріалу, що формує покриття, та дуговий розряд на поверхні катода, що створюється за допомогою миттєвого ініціюючого контакту. Контрольований рух дуги призводить до ерозії поверхні катода та утворення високоіонізованої плазми. Анодом може бути конус, розташований по периферії катода через ізолятор, або сама камера. Електричне зміщення підкладки використовується для нанесення покриття поза лінією прямої видимості;

Особлива примітка.

Це визначення не застосовується до покриттів некерованою катодною дугою та без подачі зміщення на підкладку.

5) іонне покриття - це спеціальна модифікація загального TE-PVD процесу, в якому плазмове або іонне джерело використовується для іонізації частинок, що наносяться як покриття, а негативне зміщення напруги прикладається до підкладки, що сприяє осадженню складових матеріалів покриття з плазми. Введення активних реагентів, випаровування твердих матеріалів у камері, а також використання моніторів, які забезпечують вимірювання (у процесі нанесення покриття) оптичних характеристик та товщини покриття, є звичайними модифікаціями процесу;

с) твердофазне дифузійне насичення - це процес нанесення покриття, який модифікує поверхневий шар або процес нанесення зовнішнього покриття, в якому підкладка занурюється у суміш порошків (пакет), що складається з:

1) металевих порошків, які повинні бути нанесені (звичайно це алюміній, хром, кремній або їх комбінація);

2) активатора (здебільшого галоїдна сіль); та

3) інертного порошку (найчастіше оксиду алюмінію).

Підкладка та суміш порошків утримуються всередині реторти, яка нагрівається від 1030 К (757° C) до 1375 К (1102° C) на час, достатній для нанесення покриття;

d) плазмове напилення - це процес нанесення зовнішнього покриття, в якому до пальника-розпилювача, що генерує та контролює плазму, подається порошок або дріт з матеріалу покриття, який потім розплавляється та спрямовується на підкладку, де формується як невід'ємна частина виробу. Плазмове напилення може здійснюватися в режимі низького тиску або в режимі високої швидкості;

Особливі примітки.

1. Низький тиск означає тиск нижче атмосферного.

2. Висока швидкість відноситься до швидкості газу на зрізі пальника, що перевищує 750 м/с, розрахованої за температури 293 К (20° C) і тиску 0,1 МПа.

e) нанесення шлікеру - це процес нанесення покриття з модифікацією поверхні, коли металевий або керамічний порошок з органічною зв'язувальною речовиною, суспендований у рідині, наноситься на підкладку за допомогою напилення, занурення або фарбування з наступним повітряним або пічним сушінням та термічною обробкою для отримання бажаного покриття;

f) осадження розпиленням - це процес нанесення зовнішнього покриття, який ґрунтується на передачі імпульса, коли позитивні іони прискорюються в електричному полі в напрямку до поверхні мішені (матеріал покриття). Кінетична енергія ударів іонів є достатньою для визволення атомів на поверхні мішені та їх осадження на відповідно розташовану підкладку;

Особливі примітки.

1. У таблиці наведені відомості тільки щодо тріодного, магнетронного або реактивного осадження розпиленням, які застосовуються для збільшення адгезії матеріалу покриття та швидкості його нанесення, а також щодо радіочастотного підсилення напилення, яке дає змогу випаровувати неметалеві матеріали.

2. Низькоенергетичні іонні пучки (менше ніж 5 кеВ) можуть бути використані для активації процесу нанесення покриття.

g) іонна імплантація - це процес нанесення покриття з модифікацією поверхні виробу, в якому легуючий елемент іонізується, прискорюється в електричному полі та імплантується у поверхневу область підкладки. Це визначення включає процеси, в яких іонна імплантація здійснюється одночасно з фізичним осадженням з парової фази, отриманої нагріванням електронним пучком, або одночасно з осадженням розпиленням.

Розділ 3. Електроніка

Номер позиції

Найменування та опис товарів

3A

Системи, обладнання і компоненти.

Примітки.
1. Контрольний статус обладнання та компонентів, визначених у позиції 3A001 або 3A002, крім тих, що визначені у позиціях 3A001.a.3 - 3A001.a.10, 3A001.a.12 або 3A001.a.14, які спеціально призначені для іншого обладнання або мають такі самі функціональні характеристики, як і інше обладнання, визначається контрольним статусом іншого обладнання.

2. Контрольний статус інтегральних схем, описаних у позиціях 3A001.a.3 - 3A001.a.9, 3A001.a.12 або 3A001.a.14, які не можуть бути перепрограмовані або які призначені для виконання конкретних функцій у складі іншого обладнання, визначається контрольним статусом іншого обладнання.

Особлива примітка.
Якщо виробник або заявник не може визначити контрольний статус іншого обладнання, статус контролю інтегральних схем визначається згідно з позиціями 3A001.a.3 - 3A001.a.9, 3A001.a.12 та 3A001.a.14.

3A001

Електронні компоненти, а саме:

3A001.a

a) інтегральні мікросхеми загального призначення, а саме:

Примітки.

1. Контрольний статус пластин (готових або напівфабрикатів), на яких відтворена конкретна функція, визначається параметрами, зазначеними у позиції 3А001.a.

2. Інтегральні схеми включають такі типи:

"монолітні інтегральні схеми";

"гібридні інтегральні схеми";

"багатокристалічні інтегральні схеми";

"плівкові інтегральні схеми", включаючи інтегральні схеми типу кремній на сапфірі;

"оптичні інтегральні схеми";

"тривимірні інтегральні схеми";

"мікрохвильові монолітні інтегральні схеми" ("НВЧ МІС").

3A001.a.1

1) інтегральні схеми, спроектовані або класифіковані як радіаційно стійкі, що витримують будь-який з таких впливів:

3A001.a.1.a

a) сумарну дозу опромінення 5 х 103 Гр (кремній) або вище;

3A001.a.1.b

b) потужність дози опромінення, що призводить до збою схеми, 5 х 106 Гр (кремній)/с або вище; або

3A001.a.1.c

c) флюенс (інтегральну густину потоку) нейтронів (що відповідає енергії 1 МеВ) 5 х 1013 нейтронів/см2 або вище на кремнії, або його еквівалент для інших матеріалів;

Примітка.
Згідно з позицією 3A001.a.1.c контролю не підлягають структури метал-діелектрик-напівпровідник (МДН-структури).

Примітка.
Згідно з позицією 3A001.a.1 контролю підлягають радіаційно стійкі мікросхеми, спеціально призначені або модифіковані для захисту від факторів ядерного вибуху (наприклад, електромагнітного імпульсу (ЕМІ), рентгенівського випромінювання, комбінованого ударного і теплового впливу) і придатні для використання у
"ракетах".

3A001.a.2

2) "мікросхеми мікропроцесора"; "мікросхеми мікрокомп'ютера"; мікросхеми мікроконтролера; інтегральні схеми пам'яті, виготовлені з напівпровідникових сполук; аналого-цифрові перетворювачі; інтегральні схеми, що містять аналого-цифрові перетворювачі та зберігають або обробляють оцифровані дані; цифро-аналогові перетворювачі; електрооптичні або "оптичні інтегральні схеми", призначені для "оброблення сигналів"; програмовані користувачем логічні пристрої; інтегральні схеми на замовлення, стосовно яких невідомі або їх функції, або контрольний статус обладнання, в якому вони будуть використані; процесори швидкого перетворення Фур'є (FFT); постійні запам'ятовувальні пристрої, що програмуються та очищуються за допомогою електрики (EEPROMs); флеш-пам'ять; статична пам'ять з довільною вибіркою (SRAMs) або магніторезистивна пам'ять з довільною вибіркою (MRAMs), що мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.a.2.a

a) розраховані на роботу за температури навколишнього середовища понад 398 К (+125° C);

3A001.a.2.b

b) розраховані на роботу за температури навколишнього середовища нижче 218 К (-55° C);

3A001.a.2.c

c) розраховані на роботу в усьому діапазоні температур навколишнього середовища від 218 К (-55° C) до 398 К (+125° C);

Примітка.
Згідно з позицією 3A001.a.2 контролю не підлягають інтегральні схеми, що використовуються в цивільних автомобілях або залізничних поїздах.

3A001.a.3

3) "мікросхеми мікропроцесора", "мікросхеми мікрокомп'ютера" і мікросхеми мікроконтролера, які виготовлені з напівпровідникових з'єднань та працюють з тактовою частотою понад 40 МГц;

 

Примітка.
Позиція 3A001.a.3 включає процесори цифрових сигналів, цифрові матричні процесори і цифрові співпроцесори.

3A001.a.4

4) не використовується;

3A001.a.5

5) інтегральні схеми аналого-цифрових перетворювачів (АЦП) та цифро-аналогових перетворювачів (ЦАП), а саме:

3A001.a.5.a

a) АЦП, що мають будь-яку з таких характеристик:

Особлива примітка.
Див. також позицію 3A101.

3A001.a.5.a.1

1) роздільну здатність 8 біт або більше, але менше ніж 10 біт, за швидкості виведення даних більше ніж 1300 мегавибірок за секунду (MSPS, mega samples per second);

3A001.a.5.a.2

2) роздільну здатність 10 біт або більше, але менше ніж 12 біт, за швидкості виведення даних більше ніж 600 мегавибірок за секунду;

3A001.a.5.a.3

3) роздільну здатність 12 біт або більше, але менше ніж 14 біт, за швидкості виведення даних більше ніж 400 мегавибірок за секунду;

3A001.a.5.a.4

4) роздільну здатність 14 біт або більше, але менше ніж 16 біт, за швидкості виведення даних більше ніж 250 мегавибірок за секунду; або

3A001.a.5.a.5

5) роздільну здатність 16 біт або більше за швидкості виведення даних більше ніж 65 мегавибірок за секунду;

Особлива примітка.
Щодо інтегральних схем, які містять аналого-цифрові перетворювачі та зберігають або обробляють оцифровані дані, див. позицію 3A001.a.14.

Технічні примітки.

1. Роздільна здатність n біт відповідає 2n рівням квантування.

2. Кількість біт у виведеному слові дорівнює роздільній здатності аналого-цифрового перетворювача.

3. Швидкість виведення даних є максимальною швидкістю виведення даних перетворювача незалежно від архітектури або надлишкової дискретизації (вибірки).

4. Для "багатоканальних АЦП" вихідні сигнали не об'єднуються, і швидкість виведення даних є максимальною швидкістю виведення даних будь-якого каналу.

5. Для "АЦП з перемеженням" або для "багатоканальних АЦП", технічні специфікації яких передбачають режим роботи з перемеженням, величини вихідних сигналів об'єднуються, а швидкість виведення даних є максимальною об'єднаною загальною швидкістю виведення даних усіх каналів.

6. Постачальники можуть також вказувати швидкість виведення даних як швидкість дискретизації (вибірки), швидкість перетворення або пропускну здатність. Цей параметр часто зазначається у мегагерцах (МГц), мегасловах за секунду або мегавибірках за секунду (MSPS).

7. Для цілей вимірювання швидкості виведення даних одна вибірка за секунду є еквівалентною одному герцу або одному вихідному слову за секунду.

8. "Багатоканальні АЦП" визначаються як пристрої, до складу яких входить більше одного АЦП, спроектовані таким чином, що кожний АЦП має окремий аналоговий вхід.

9. "АЦП з чергуванням каналів" визначаються як пристрої, які мають багато блоків АЦП, що здійснюють вибірку одного і того ж вхідного аналогового сигналу у різні моменти часу, таким чином, щоб під час об'єднання вихідних сигналів здійснювалася ефективна вибірка вхідного аналогового сигналу та його перетворення з більш високою швидкістю вибірки.

3A001.a.5.b

b) цифро-аналогові перетворювачі (ЦАП), що мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.a.5.b.1

1) роздільну здатність 10 біт або більше за "відкоригованої швидкості оновлення" більше ніж 3500 мегавибірок за секунду; або

3A001.a.5.b.2

2) роздільну здатність 12 біт або більше за "відкоригованої швидкості оновлення" більше ніж 1250 мегавибірок за секунду та будь-яку з таких характеристик:

3A001.a.5.b.2.a

a) час установлення сигналу від шагу повної шкали до 0,024 % повної шкали менше ніж 9 нс; або

3A001.a.5.b.2.b

b) "динамічний діапазон без паразитних складових" (SFDR) більше ніж 68 дБн (на частоті несучої), якщо здійснюється синтез максимального аналогового сигналу з частотою 100 МГц або з найвищою частотою максимального аналогового сигналу нижче 100 МГц.

Технічні примітки.

1. "Динамічний діапазон без паразитних складових" (SFDR) - це відношення середньоквадратичного значення частоти несучої (максимальна складова сигналу) на вході ЦАП до середньоквадратичного значення найбільшої складової шуму (NEXT) або складової нелінійного спотворення на його виході.

2. SFDR визначається безпосередньо із специфікаційної таблиці або з графіків, що представляють характеристики SFDR як функцію частоти.

3. Сигнал вважається максимальним, якщо його амплітуда більше ніж -3дБпш (повна шкала).

4. "Відкоригована швидкість оновлення" для ЦАП:

a) для звичайних (неінтерполювальних) ЦАП "відкоригована швидкість оновлення" визначається як швидкість, з якою цифровий сигнал перетворюється на аналоговий сигнал, а вихідні аналогові величини змінюються цифро-аналоговим перетворювачем. Для ЦАП, в яких режим інтерполяції можна не брати до уваги (коефіцієнт інтерполяції дорівнює 1), ЦАП розглядається як звичайний (неінтерполювальний) ЦАП;

b) для інтерполювальних ЦАП (ЦАП передискретизації) "відкоригована швидкість оновлення" визначається як швидкість оновлення ЦАП, поділена на найменший коефіцієнт інтерполяції. Для інтерполювальних ЦАП для "відкоригованої швидкості оновлення" можуть вживатися різні терміни, у тому числі:

швидкість передачі даних на вході;

швидкість пересилки слів на вході;

частота вибірки на вході;

максимальна загальна швидкість вхідної шини;

максимальна синхронізуюча частота ЦАП для синхронізуючого входу ЦАП.

3A001.a.6

6) електрооптичні та "оптичні інтегральні схеми", призначені для "обробки сигналів", що мають усі такі характеристики:

3A001.a.6.a

a) один внутрішній "лазерний" діод або більше;

3A001.a.6.b

b) один внутрішній світлочутливий елемент або більше; та

3A001.a.6.c

c) оптичні хвилеводи;

3A001.a.7

7) програмовані користувачем логічні пристрої, що мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.a.7.a

a) максимальну кількість несиметричних цифрових входів/виходів понад 700; або

3A001.a.7.b

b) "сукупну односторонню пікову швидкість передачі даних послідовного трансивера" 500 Гбіт/с або більше;

Примітка.
Позиція 3A001.a.7 включає:

прості програмовані логічні пристрої (SPLD);

складні програмовані логічні пристрої (CPLD);

програмовані користувачем вентильні матриці (FPGA);

програмовані користувачем логічні матриці (FPLA);

програмовані користувачем схеми з'єднань (FPIC).

Особлива примітка.
Щодо інтегральних схем, що містять програмовані користувачем логічні пристрої у комбінації з аналого-цифровим перетворювачем, див. позицію 3A001.a.14.

Технічні примітки.

1. Максимальну кількість цифрових входів/виходів у позиції 3A001.a.7.a називають також максимальною кількістю входів/виходів користувача або максимально доступною кількістю входів/виходів, незалежно від того, чи є інтегральна схема корпусною або безкорпусною.

2. "Сукупна одностороння пікова швидкість передачі даних послідовного трансивера" є результатом множення пікової швидкості передачі даних одностороннього трансивера на кількість трансиверів на програмованій користувачем вентильній матриці (FPGA).

3A001.a.8

8) не використовується;

3A001.a.9

9) інтегральні схеми для нейронних мереж;

3A001.a.10

10) інтегральні схеми на замовлення, функція яких не відома або контрольний статус обладнання, в якому використовуватимуться зазначені інтегральні схеми, не відомий виробнику, що мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.a.10.a

a) кількість виводів понад 1500;

3A001.a.10.b

b) типовий "час затримки основного логічного елемента" менше ніж 0,02 нс; або

3A001.a.10.c

c) робоча частота понад 3 ГГц;

3A001.a.11

11) цифрові інтегральні схеми, крім тих, що визначені у позиціях 3A001.a.3 - 3A001.a.10 та 3A001.a.12, створені на основі будь-якої напівпровідникової сполуки і мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.a.11.a

a) еквівалентну кількість вентилів понад 3000 (у перерахунку на двовходові); або

3A001.a.11.b

b) частоту перемикання понад 1,2 ГГц;

3A001.a.12

12) процесори швидкого перетворення Фур'є (FFT), які мають номінальний час виконання для N-точкового складного швидкого перетворення Фур'є менше ніж (N log2N)/20480 мс, де N - кількість точок;

Технічна примітка.
Якщо N дорівнює 1024 точкам, формула у позиції 3A001.a.12 дає час виконання 500 мкс.

3A001.a.13

13) інтегральні схеми цифрових синтезаторів з прямим синтезом частот (DDS), що мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.a.13.a

a) тактову частоту цифро-аналогового перетворювача (ЦАП) 3,5 ГГц або більше та роздільну здатність 10 біт або більше, але менше ніж 12 біт; аб

3A001.a.13.b

b) тактову частоту ЦАП 1,25 ГГц або більше та роздільну здатність ЦАП у 12 біт або більше;

Технічна примітка.
Тактова частота ЦАП може бути зазначена як задавальна тактова частота або тактова частота вхідного сигналу.

3A001.a.14

14) інтегральні схеми, що виконують усі такі операції:

3A001.a.14.a

a) аналого-цифрові перетворення, що відповідають будь-якому з таких наборів параметрів:

3A001.a.14.a.1

1) роздільна здатність більше або дорівнює 8 біт, але менше ніж 10 біт, за швидкості введення даних більше ніж 1300 мегавибірок за секунду;

3A001.a.14.a.2

2) роздільна здатність більше або дорівнює 10 біт, але менше ніж 12 біт, за швидкості введення даних більше ніж 1000 мегавибірок за секунду;

3A001.a.14.a.3

3) роздільна здатність більше або дорівнює 12 біт, але менше ніж 14 біт, за швидкості введення даних більше ніж 1000 мегавибірок за секунду;

3A001.a.14.a.4

4) роздільна здатність більше або дорівнює 14 біт, але менше ніж 16 біт, за швидкості введення даних більше ніж 400 мегавибірок за секунду; або

3A001.a.14.a.5

5) роздільна здатність більше або дорівнює 16 біт за швидкості введення даних більше ніж 180 мегавибірок за секунду; та

3A001.a.14.b

b) будь-яку з таких операцій:

3A001.a.14.b.1

1) зберігання оцифрованих даних; або

3A001.a.14.b.2

2) обробку оцифрованих даних;

Особливі примітки.

1. Щодо інтегральних схем аналого-цифрових перетворювачів див. позицію 3A001.a.5.a.

2. Щодо програмованих користувачем логічних пристроїв див. позицію 3A001.a.7.

3A001.b

b) компоненти мікрохвильового або міліметрового діапазону, а саме:

Технічні примітки.

1. Для цілей позиції 3A001.b параметр "пікова вихідна потужність у режимі насичення" може також називатися у специфікації на виріб як "вихідна потужність", "вихідна потужність у режимі насичення", "максимальна вихідна потужність", "пікова вихідна потужність" або "пікова вихідна потужність обвідної".

2. Для цілей позиції 3A001.b.1 "вакуумні електронні прилади" - це електронні пристрої, робота яких заснована на взаємодії пучка електронів з електромагнітною хвилею, що поширюється у вакуумному тракті або взаємодіє з високочастотними об'ємними резонаторами. "Вакуумні електронні прилади" включають клістрони, трубки рухомої хвилі та їх похідні.

3A001.b.1

1) "вакуумні електронні прилади" та катоди, а саме:

Примітки.

1. Згідно з позицією 3A001.b.1 контролю не підлягають "вакуумні електронні прилади", спроектовані або розраховані для роботи у будь-якому діапазоні частот, що має усі такі характеристики:

a) не перевищує 31,8 ГГц; та

b) "виділений Міжнародним союзом електрозв'язку (ITU)" для надання послуг радіозв'язку, але не для радіовизначення.

2. Згідно з позицією 3A001.b.1 контролю не підлягають "вакуумні електронні прилади", що не є "придатними для використання в космосі" та мають усі такі характеристики:

a) середню вихідну потужність 50 Вт або менше; та

b) спроектовані або розраховані для роботи в будь-якому діапазоні частот, що має усі такі характеристики:

1) перевищує 31,8 ГГц, але не перевищує 43,5 ГГц; та

2) "виділений Міжнародним союзом електрозв'язку (ITU)" для надання послуг радіозв'язку, але не для радіовизначення.

3A001.b.1.a

a) "вакуумні електронні прилади" рухомої хвилі, імпульсної або безперервної дії, а саме:

3A001.b.1.a.1

1) прилади, що працюють на частотах понад 31,8 ГГц;

3A001.b.1.a.2

2) прилади, що мають елемент підігрівання катода з часом від моменту включення до виходу лампи на номінальну радіочастотну потужність менше ніж 3 с;

3A001.b.1.a.3

3) прилади із сполученими резонаторами або їх модифікації з "відносною шириною смуги частот" понад 7 % або з піковою потужністю понад 2,5 кBт;

3A001.b.1.a.4

4) прилади на основі схем із спіралями, згорнутими хвилеводами або змійковими хвилеводами, або їх модифікації, що мають будь-який з таких наборів характеристик:

3A001.b.1.a.4.a

a) "миттєву ширину смуги частот" понад одну октаву і добуток середньої потужності (вираженої у кВт) на робочу частоту (виражену у ГГц) понад 0,5;

3A001.b.1.a.4.b

b) "миттєву ширину смуги частот" в одну октаву або менше і добуток середньої потужності (вираженої у кВт) на робочу частоту (виражену у ГГц) понад 1;

3A001.b.1.a.4.c

c) "придатні для використання в космосі"; або

3A001.b.1.a.4.d

d) мають електронну гармату з сітковою структурою;

3A001.b.1.a.5

5) прилади з "відносною шириною смуги частот" 10 % або більше, що мають будь-яку з таких властивостей:

3A001.b.1.a.5.a

a) кільцевий електронний пучок;

3A001.b.1.a.5.b

b) неосесиметричний електронний пучок;

3A001.b.1.a.5.c

c) кілька електронних пучків;

3A001.b.1.b

b) "вакуумні електронні прилади" підсилювачів із схрещеними полями з коефіцієнтом підсилення понад 17 дБ;

3A001.b.1.c

c) термоелектронні катоди, призначені для "вакуумних електронних приладів", що забезпечують густину струму емісії у безперервному режимі за номінальних робочих умов понад 5 A/см2, або в імпульсному режимі за номінальних робочих умов понад 10 А/см2;

3A001.b.1.d

d) "вакуумні електронні прилади" з можливістю роботи у "подвійному режимі".

Технічна примітка.
"Подвійний режим" означає, що струм пучка "вакуумного електронного приладу" може бути керовано змінений за допомогою сітки з безперервного режиму на імпульсний, що дає пікову вихідну потужність в імпульсі більше ніж вихідна потужність у режимі безперервної хвилі.

3A001.b.2

2) підсилювачі на "монолітних інтегральних схемах мікрохвильового діапазону" ("НВЧ МІС"), що мають будь-яку з таких характеристик:

Особлива примітка.
Щодо підсилювачів на
"НВЧ МІС", що мають вбудований фазообертач, див. позицію 3A001.b.12.

3A001.b.2.a

a) розраховані для роботи на частотах, що перевищують 2,7 ГГц, але не перевищують 6,8 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 15 % та мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.2.a.1

1) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 75 Вт (48,75 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 2,7 ГГц, але не перевищує 2,9 ГГц;

3A001.b.2.a.2

2) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 55 Вт (47,4 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 2,9 ГГц, але не перевищує 3,2 ГГц;

3A001.b.2.a.3

3) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 40 Вт (46 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 3,2 ГГц, але не перевищує 3,7 ГГц; або

3A001.b.2.a.4

4) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 20 Вт (43 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 3,7 ГГц, але не перевищує 6,8 ГГц;

3A001.b.2.b

b) розраховані для роботи на частотах, що перевищують 6,8 ГГц, але не перевищують 16 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 10 % та мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.2.b.1

1) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 10 Вт (40 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 6,8 ГГц, але не перевищує 8,5 ГГц; або

3A001.b.2.b.2

2) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 5 Вт (37 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 8,5 ГГц, але не перевищує 16 ГГц;

3A001.b.2.c

c) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 3 Вт (34,77 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 16 ГГц, але не перевищує 31,8 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 10 %;

3A001.b.2.d

d) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 0,1 нВт (- 70 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 31,8 ГГц, але не перевищує 37 ГГц;

3A001.b.2.e

e) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 1 Вт (30 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 37 ГГц, але не перевищує 43,5 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 10 %;

3A001.b.2.f

f) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 31,62 мВт (15 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 43,5 ГГц, але не перевищує 75 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 10 %;

3A001.b.2.g

g) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 10 мВт (10 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 75 ГГц, але не перевищує 90 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 5 %; або

3A001.b.2.h

h) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 0,1 нВт (- 70 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 90 ГГц;

Примітки.

1. Не використовується.

2. Контрольний статус НВЧ МІС, номінальні робочі частоти якої відносяться до більш ніж одного діапазону частот, зазначеного у позиціях 3A001.b.2.a - 3A001.b.2.h, визначається найнижчим пороговим значенням для пікової вихідної потужності у режимі насичення.

3. Примітки 1 і 2 до позиції 3А означають, що згідно з позицією 3A001.b.2 контролю не підлягають НВЧ МІС, якщо вони спеціально призначені для інших застосувань, наприклад, у телекомунікаційному зв'язку, РЛС, автомобілях.

3A001.b.3

3) дискретні мікрохвильові транзистори, що мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.3.a

a) розраховані для роботи на частотах, що перевищують 2,7 ГГц, але не перевищують 6,8 ГГц, та мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.3.a.1

1) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 400 Вт (56 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 2,7 ГГц, але не перевищує 2,9 ГГц;

3A001.b.3.a.2

2) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 205 Вт (53,12 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 2,9 ГГц, але не перевищує 3,2 ГГц;

3A001.b.3.a.3

3) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 115 Вт (50,61 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 3,2 ГГц, але не перевищує 3,7 ГГц; або

3A001.b.3.a.4

4) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 60 Вт (47,78 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 3,7 ГГц, але не перевищує 6,8 ГГц;

3A001.b.3.b

b) розраховані для роботи на частотах, що перевищують 6,8 ГГц, але не перевищують 31,8 ГГц, та мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.3.b.1

1) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 50 Вт (47 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 6,8 ГГц, але не перевищує 8,5 ГГц;

3A001.b.3.b.2

2) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 15 Вт (41,76 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 8,5 ГГц, але не перевищує 12 ГГц;

3A001.b.3.b.3

3) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 40 Вт (46 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 12 ГГц, але не перевищує 16 ГГц; або

3A001.b.3.b.4

4) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 7 Вт (38,45 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 16 ГГц, але не перевищує 31,8 ГГц;

3A001.b.3.c

c) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 0,5 Вт (27 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 31,8 ГГц, але не перевищує 37 ГГц;

3A001.b.3.d

d) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 1 Вт (30 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 37 ГГц, але не перевищує 43,5 ГГц; або

3A001.b.3.e

e) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 0,1 нВт (- 70 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 43,5 ГГц;

Примітки.

1. Контрольний статус транзистора, номінальні робочі частоти якого відносяться до більше ніж одного діапазону частот, зазначеного у позиціях 3A001.b.3.a - 3A001.b.3.e, визначається найнижчим пороговим значенням для пікової вихідної потужності у режимі насичення.

2. Позиція 3A001.b.3 включає безкорпусні інтегральні схеми, а також інтегральні схеми, змонтовані на платі або у корпусі. Деякі дискретні транзистори можуть також називатися підсилювачами потужності, але контрольний статус таких дискретних транзисторів визначається згідно з позицією 3A001.b.3.

3A001.b.4

4) мікрохвильові твердотілі підсилювачі та мікрохвильові блоки/модулі, що містять мікрохвильові твердотілі підсилювачі, що мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.4.a

a) розраховані для роботи на частотах, що перевищують 2,7 ГГц, але не перевищують 6,8 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 15 % та мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.4.a.1

1) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 500 Вт (57 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 2,7 ГГц, але не перевищує 2,9 ГГц;

3A001.b.4.a.2

2) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 270 Вт (54,3 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 2,9 ГГц, але не перевищує 3,2 ГГц;

3A001.b.4.a.3

3) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 200 Вт (53 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 3,2 ГГц, але не перевищує 3,7 ГГц; або

3A001.b.4.a.4

4) пікову вихідну потужність у режимі насичення більшу ніж 90 Вт (49,54 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 3,7 ГГц, але не перевищує 6,8 ГГц;

3A001.b.4.b

b) розраховані для роботи на частотах, що перевищують 6,8 ГГц, але не перевищують 31,8 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 10 % та мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.4.b.1

1) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 70 Вт (48,54 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 6,8 ГГц, але не перевищує 8,5 ГГц;

3A001.b.4.b.2

2) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 50 Вт (47 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 8,5 ГГц, але не перевищує 12 ГГц;

3A001.b.4.b.3

3) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 30 Вт (44,77 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 12 ГГц, але не перевищує 16 ГГц; або

3A001.b.4.b.4

4) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 20 Вт (43 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 16 ГГц, але не перевищує 31,8 ГГц;

3A001.b.4.c

c) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 0,5 Вт (27 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 31,8 ГГц, але не перевищує 37 ГГц;

3A001.b.4.d

d) розраховані для роботи з піковою вихідною потужністю у режимі насичення понад 2 Вт (33 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 37 ГГц, але не перевищує 43,5 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 10 %;

3A001.b.4.e

e) розраховані для роботи на частотах, що перевищують 43,5 ГГц, та мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.4.e.1

1) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 0,2 Вт (23 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 43,5 ГГц, але не перевищує 75 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 10 %;

3A001.b.4.e.2

2) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 20 мВт (13 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 75 ГГц, але не перевищує 90 ГГц, за "відносної ширини смуги частот" більше ніж 5 %; або

3A001.b.4.e.3

3) пікову вихідну потужність у режимі насичення понад 0,1 нВт (- 70 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 90 ГГц;

3A001.b.4.f

f) не використовується;

Особливі примітки.

1. Щодо підсилювачів "НВЧ МІС" див. позицію 3A001.b.2.

2. Щодо "прийомопередавальних модулів" та "передавальних модулів" див. позицію 3A001.b.12.

Примітки.

1. Не використовується.

2. Контрольний статус виробу, номінальні робочі частоти якого відносяться до більш ніж одного діапазону частот, зазначеного у позиціях 3A001.b.4.a - 3A001.b.4.e, визначається найнижчим пороговим значенням для пікової вихідної потужності у режимі насичення.

3A001.b.5

5) смугові або загороджувальні фільтри з електронною або магнітною перестройкою, що містять понад 5 настроюваних резонаторів, що забезпечують настройку в смузі частот з відношенням максимальної та мінімальної частот (fmax/fmin) 1,5:1 менше ніж за 10 мкс і мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.5.a

a) ширина смуги частот пропускання становить понад 0,5 % центральної частоти; або

3A001.b.5.b

b) ширина смуги частот заглушення становить менше ніж 0,5 % центральної частоти;

3A001.b.6

6) не використовується;

3A001.b.7

7) перетворювачі та змішувачі на гармоніках, що мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.7.a

a) призначені для розширення діапазону частот "аналізаторів сигналів" вище 90 ГГц;

3A001.b.7.b

b) призначені для розширення робочого діапазону генераторів сигналів, а саме:

3A001.b.7.b.1

1) вище 90 ГГц;

3A001.b.7.b.2

2) до потужності на виході понад 100 мВт (20 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 43,5 ГГц, але не перевищує 90 ГГц;

3A001.b.7.c

c) призначені для розширення робочого діапазону мережевих аналізаторів, а саме:

3A001.b.7.c.1

1) вище 110 ГГц;

3A001.b.7.c.2

2) до потужності на виході понад 31,62 мВт (15 дБм) на будь-якій частоті, що перевищує 43,5 ГГц, але не перевищує 90 ГГц;

3A001.b.7.c.3

3) до потужності на виході понад 1 мВт (0 дБм) на будь-якій частоті у межах, що перевищує 90 ГГц, але не перевищує 110 ГГц; або

3A001.b.7.d

d) призначені для розширення частотного діапазону мікрохвильових тестових приймачів вище 110 ГГц.

3A001.b.8

8) мікрохвильові підсилювачі потужності, що містять "вакуумні електронні прилади", визначені у позиції 3A001.b.1, і мають усі такі характеристики:

3A001.b.8.a

a) робочі частоти понад 3 ГГц;

3A001.b.8.b

b) відношення середньої густини вихідної потужності понад 80 Вт/кг; та

3A001.b.8.c

c) об'єм менше ніж 400 см3;

Примітка.
Згідно з позицією 3A001.b.8 контролю не підлягає обладнання, спроектоване або розраховане для роботи у будь-якому діапазоні частот,
"виділеному Міжнародним союзом електрозв'язку (ITU)" для надання послуг радіозв'язку, але не для радіовизначення.

3A001.b.9

9) мікрохвильові силові модулі (МСМ), що складаються, принаймні, з "вакуумного електронного пристрою" рухомої хвилі, "мікрохвильової монолітної інтегральної схеми" ("НВЧ МІС") та вбудованого електронного стабілізатора напруги, та мають усі такі характеристики:

3A001.b.9.a

a) "час вмикання" від вимкненого до повністю робочого стану менше ніж 10 секунд;

3A001.b.9.b

b) об'єм менше максимальної номінальної потужності у Вт, помноженої на 10 см3/Вт; та

3A001.b.9.c

c) "миттєву ширину смуги частот" більше 1 октави (fmax > 2fmin) та мають будь-яку з таких характеристик:

3A001.b.9.c.1

1) для частот 18 ГГц і менше вихідну потужність РЧ-сигналу понад 100 Вт; або

3A001.b.9.c.2

2) частоту понад 18 ГГц.

Технічні примітки.

1. Наступний приклад пояснює обчислення об'єму в позиції 3A001.b.9.b: для максимальної номінальної потужності 20 Вт об'єм дорівнюватиме 20 Вт x 10 см3/Вт = 200 см3.

2. "Час вмикання" у позиції 3A001.b.9.a означає час від повністю вимкненого до повністю робочого стану, тобто він включає час прогрівання МСМ.

3A001.b.10

10) осцилятори або блоки осциляторів, призначені для роботи при фазовому шумі в одній боковій смузі (SSB), в одиницях дБн/Гц, менше (краще) ніж - (126 + 20 log10F - 20 log10f) у будь-якій точці діапазону 10 Гц Ј F Ј 10 кГц;

Технічна примітка.
У позиції 3A001.b.10 F позначає зміщення від робочої частоти у Гц, а f - робочу частоту у МГц.

3A001.b.11

11) "електронні блоки" "синтезаторів частоти", для яких "час перемикання частоти" відповідає будь-якій з таких умов:

3A001.b.11.a

a) менше ніж 143 пс;

3A001.b.11.b

b) менше ніж 100 мкс для будь-якої зміни частоти понад 2,2 ГГц в межах діапазону синтезованих частот, що перевищує 4,8 ГГц, але не перевищує 31,8 ГГц;

3A001.b.11.c

c) не використовується;

3A001.b.11.d

d) менше ніж 500 мкс для будь-якої зміни частоти понад 550 МГц в межах діапазону синтезованих частот, що перевищує 31,8 ГГц, але не перевищує 37 ГГц;

3A001.b.11.e

e) менше ніж 100 мкс для будь-якої зміни частоти понад 2,2 ГГц в межах діапазону синтезованих частот, що перевищує 37 ГГц, але не перевищує 90 ГГц; або

3A001.b.11.f

f) не використовується;

3A001.b.11.g

g) менше ніж 1 мс в межах діапазону синтезованих частот, що перевищує 90 ГГц;

Особлива примітка.
Щодо
"аналізаторів сигналів", генераторів сигналів, мережевих аналізаторів та мікрохвильових вимірювальних приймачів загального призначення див. позиції 3A002.c, 3A002.d, 3A002.e та 3A002.f відповідно.

3A001.b.12

12) "приймально-передавальні модулі", "приймально-передавальні НВЧ МІС", "передавальні модулі" та "передавальні НВЧ МІС", що розраховані для роботи на частотах понад 2,7 ГГц і мають усі такі характерис